JPS6077437A - 回路パタ−ンのパタ−ン幅検査方法 - Google Patents
回路パタ−ンのパタ−ン幅検査方法Info
- Publication number
- JPS6077437A JPS6077437A JP58185136A JP18513683A JPS6077437A JP S6077437 A JPS6077437 A JP S6077437A JP 58185136 A JP58185136 A JP 58185136A JP 18513683 A JP18513683 A JP 18513683A JP S6077437 A JPS6077437 A JP S6077437A
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- Japan
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は回路パターンのパターン幅検査方法に朗−＋λ
家の甲も入− 〔発明の背景〕 従来のパターン欠陥検査方法には、設計データ比較方式
や同一品種の比較検査方式が存在する。
家の甲も入− 〔発明の背景〕 従来のパターン欠陥検査方法には、設計データ比較方式
や同一品種の比較検査方式が存在する。
両者の欠点としては、被検査対象と比較データの位置合
わせ、あるいは比較用のワークとの位置合わせが非常に
難しく、この位置合わせ精度と検出欠陥精度の関係から
誤判定する場合がある。
わせ、あるいは比較用のワークとの位置合わせが非常に
難しく、この位置合わせ精度と検出欠陥精度の関係から
誤判定する場合がある。
また、検査するパターン自体が幾何学的に精度が良いも
のであれば、上記した従来方式で検査できるが、パター
ンそれ自体が各サンプルによって歪んでいたり、バラツ
キが大きい場合には、正確な欠陥判定かできない欠点が
ある。これらの事情はパターン幅検査でも同様であった
。
のであれば、上記した従来方式で検査できるが、パター
ンそれ自体が各サンプルによって歪んでいたり、バラツ
キが大きい場合には、正確な欠陥判定かできない欠点が
ある。これらの事情はパターン幅検査でも同様であった
。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくシ、正
確な位置決めやパターン自体の精度の良悪を問題にする
ことなく、パターン欠陥検査中のパターン幅検査を行な
うことができる、回路パターンのパターン幅検査方法を
提供することにある。
確な位置決めやパターン自体の精度の良悪を問題にする
ことなく、パターン欠陥検査中のパターン幅検査を行な
うことができる、回路パターンのパターン幅検査方法を
提供することにある。
不発明の回路パターンのパターン幅検査方法は次の様な
ものでちる。先ず、ブＯＮ、変換した回路パターンの２
次元映像信号を■景画像と回路ノくクーンとに所定のし
きい値レベルで２値化俊換し、２値化画像を得る。吊１
図（ａ）はこうして得られた２値化画像の一例を示す図
°Ｃあシ、図示する様に回路パターン１と背景画像２か
らなっている。
ものでちる。先ず、ブＯＮ、変換した回路パターンの２
次元映像信号を■景画像と回路ノくクーンとに所定のし
きい値レベルで２値化俊換し、２値化画像を得る。吊１
図（ａ）はこうして得られた２値化画像の一例を示す図
°Ｃあシ、図示する様に回路パターン１と背景画像２か
らなっている。
次に、上記の２値化画像から回路パターンｌと背景画像
２の変化点全検出し、変化点のＸ、Ｙ座標と変化点画像
を形成する。第１図（ｂ）は変化点画像の一例金示す図
であり、変化点画像（境界線）ｌａ〜１ｆが形成されて
いる。
２の変化点全検出し、変化点のＸ、Ｙ座標と変化点画像
を形成する。第１図（ｂ）は変化点画像の一例金示す図
であり、変化点画像（境界線）ｌａ〜１ｆが形成されて
いる。
次に、ある変化点ｆ （Ｘ 、Ｙ）ｆｆｉ中心として所
定半径りの円周上に位置する全画素と上記変化点画隊の
各画素のうち、両者が重複している画素の数を計数し、
計数されブζ画素の数が３個以上の場合に限り、パター
ン幅が所定幅よシも狭く欠陥が生じていると判断する。
定半径りの円周上に位置する全画素と上記変化点画隊の
各画素のうち、両者が重複している画素の数を計数し、
計数されブζ画素の数が３個以上の場合に限り、パター
ン幅が所定幅よシも狭く欠陥が生じていると判断する。
即ち、パターン幅は一般に電流を流すだめの最小パター
ン幅として規定されたある幅を持っていれに良いわけで
ある。そこで、ある変化点を中心にパターン幅に等しい
半径りの円周上に位置する全画素と変化点画像の各画素
の関係を考えると、パターン幅が正常で０以上の距離が
保持されている場合には、両者が重複するのは２画素だ
けであることがわかる。第１図（Ｃ）。
ン幅として規定されたある幅を持っていれに良いわけで
ある。そこで、ある変化点を中心にパターン幅に等しい
半径りの円周上に位置する全画素と変化点画像の各画素
の関係を考えると、パターン幅が正常で０以上の距離が
保持されている場合には、両者が重複するのは２画素だ
けであることがわかる。第１図（Ｃ）。
（ｄ）は、変化点画像１ｇ、ｌｉと変化点ｆｌ ＋ ｆ
２ ＋ ｆ５からパターン幅の欠陥の有無の判定を行な
う具体例を示す図である。第１図（ｃ）において、変化
点ｆ１を中心とする半径りの円周上の画素が変化点画像
１ｇ＋１ｉ の画素と重複するのは画素ａ−ｂの２画素
だけであシ、変化点ｆｌに基づく判定からはパターン幅
は正常とされる。第１図（ｄ）の変化点ｆｌ ＋ ｆ２
＋ ｆ５に基づく判定も重複する画素がそれぞれａ−ｂ
、 ａ’・ｂ’、 ａ’−ｂ’の２画素だけであり、
正常と判定される。しかし、第１図（ｅ）の変化点ｆ２
＋ｆ３に基づく判定では、重複する画素がａ′・ｂ′・
Ｃ′及びａＩ 、 ｌ、＃・Ｃ〃・ｄ“となシ、３画素
及び４画素となるため、パターン幅が所定幅りよシも狭
く欠陥があると判断される。
２ ＋ ｆ５からパターン幅の欠陥の有無の判定を行な
う具体例を示す図である。第１図（ｃ）において、変化
点ｆ１を中心とする半径りの円周上の画素が変化点画像
１ｇ＋１ｉ の画素と重複するのは画素ａ−ｂの２画素
だけであシ、変化点ｆｌに基づく判定からはパターン幅
は正常とされる。第１図（ｄ）の変化点ｆｌ ＋ ｆ２
＋ ｆ５に基づく判定も重複する画素がそれぞれａ−ｂ
、 ａ’・ｂ’、 ａ’−ｂ’の２画素だけであり、
正常と判定される。しかし、第１図（ｅ）の変化点ｆ２
＋ｆ３に基づく判定では、重複する画素がａ′・ｂ′・
Ｃ′及びａＩ 、 ｌ、＃・Ｃ〃・ｄ“となシ、３画素
及び４画素となるため、パターン幅が所定幅りよシも狭
く欠陥があると判断される。
以下、本発明の一実施例を第２図、第３図、第４図、第
５図を用いて説明する。
５図を用いて説明する。
第２図は本発明の一実施例を示すブロック図でおる。図
示する様に、被検査回路部品５上に形成されている回路
パターンは、光学系６を通してテレビカメラ４に結像さ
れる。そして、この回路パターンはテレビカメラ４によ
って電気信号に変換され、映像信号１１として出力され
る。映像信号１１は、２値化回路８によシあらかじめ背
景と回路パターンを分離するために設定しておいた２値
化しきい値レベルにより、第３図（ａ）の様な２値化画
像ｔ−得る。次に、２値化画像から第３図（荀に示す様
な回路パターンと背景の変化点（即ち、回路パターンの
境界画像）を変化点線分化回路９によってめ、同時に変
化点のＸ、Ｙ座標を変化点メモリｌＯに記憶する。そし
て、上記の２値化画像と変化点座標によって規定パター
ン幅よりも狭い部分の検出をサークル検定回路１２によ
シ行う。このとき規定パターン幅は外部から設定可能と
し、判定基漁信−Ｐｆ１４とＬ−７′右多ふ〜羽１密結
早Ｈエラ一点メモリ１：３に記憶し、第３図（ａ）に示
す様な欠陥１５が第３図（ｃ）に示す欠陥検出画像１６
として得られる。
示する様に、被検査回路部品５上に形成されている回路
パターンは、光学系６を通してテレビカメラ４に結像さ
れる。そして、この回路パターンはテレビカメラ４によ
って電気信号に変換され、映像信号１１として出力され
る。映像信号１１は、２値化回路８によシあらかじめ背
景と回路パターンを分離するために設定しておいた２値
化しきい値レベルにより、第３図（ａ）の様な２値化画
像ｔ−得る。次に、２値化画像から第３図（荀に示す様
な回路パターンと背景の変化点（即ち、回路パターンの
境界画像）を変化点線分化回路９によってめ、同時に変
化点のＸ、Ｙ座標を変化点メモリｌＯに記憶する。そし
て、上記の２値化画像と変化点座標によって規定パター
ン幅よりも狭い部分の検出をサークル検定回路１２によ
シ行う。このとき規定パターン幅は外部から設定可能と
し、判定基漁信−Ｐｆ１４とＬ−７′右多ふ〜羽１密結
早Ｈエラ一点メモリ１：３に記憶し、第３図（ａ）に示
す様な欠陥１５が第３図（ｃ）に示す欠陥検出画像１６
として得られる。
次にサークル検定回路１２について説明する。第４図に
示す様に、着目する変化点ｆ（ｉ、ｊ）’に中心として
、検査パターン幅全半径とする円に相当する画素Ｋｌ
ｒ Ｅ２ ＋・・・”ｋ−１＋ ％ ｋ 、あらかじめ
判定サークル１７として設定しておく。ここで、設定す
る円周の画像は外部から任意にその半径が変えられる様
に、あらかじめいくつか設定しておき、外部からの判断
基準信号１４により切換える。
示す様に、着目する変化点ｆ（ｉ、ｊ）’に中心として
、検査パターン幅全半径とする円に相当する画素Ｋｌ
ｒ Ｅ２ ＋・・・”ｋ−１＋ ％ ｋ 、あらかじめ
判定サークル１７として設定しておく。ここで、設定す
る円周の画像は外部から任意にその半径が変えられる様
に、あらかじめいくつか設定しておき、外部からの判断
基準信号１４により切換える。
ここで、変化点ｆ（ｔ、Ｄに対する判定基準たる半径’
ｔＤ画素画素用離とし、変化点ｆ（ｉ、ｊ）を中心とし
半径が０画素分の距離に相当する円周上の画素で、次の
条件式（１）全満足する全ての画素Ｅ１〜Ｅｋをめる。
ｔＤ画素画素用離とし、変化点ｆ（ｉ、ｊ）を中心とし
半径が０画素分の距離に相当する円周上の画素で、次の
条件式（１）全満足する全ての画素Ｅ１〜Ｅｋをめる。
但し、ｍ Ｈｎ−Ｄ ＋ ”’ ＋ １ ＋ ０ ＋
１ ＋ ”’ ＋ Ｄ ｒＯ≦αくｌである。
１ ＋ ”’ ＋ Ｄ ｒＯ≦αくｌである。
次に、これらのに個の画素Ｅｌ−Ｅｋのうち、変化点の
画素の内容葡″１″とし、それ以外の画素の内容を“０
”として、次の（２）式に従って加算する。
画素の内容葡″１″とし、それ以外の画素の内容を“０
”として、次の（２）式に従って加算する。
Ａ−Σ Ｅｎ ・・・・・・（２）
この加算は第４図に示す加η、器１Ｂで行なわれ、この
加算値人が定められた判定サークル１７と変化点画像と
の接触点数になる。第４図に示す様に比較器１９で加算
値が３以上の値と判断された場合にはパターン幅が狭く
欠陥があるとされる。
加算値人が定められた判定サークル１７と変化点画像と
の接触点数になる。第４図に示す様に比較器１９で加算
値が３以上の値と判断された場合にはパターン幅が狭く
欠陥があるとされる。
第５図（ａ）は上記接触点数が５個（Ｅａ−Ｅｅ）で欠
陥がある場合を示し、第５図（ｂ）は接触点数が２個（
Ｅａ、Ｅｂ）で正常な場合を示している。
陥がある場合を示し、第５図（ｂ）は接触点数が２個（
Ｅａ、Ｅｂ）で正常な場合を示している。
この実施例では、判定サークルの決め方がディジタル画
像でちゃ離散的に与えられるため、多少の誤差を生じる
ことがあるが、画像のサンプリング間隔を短かくすれば
連続系に近い精度で計れることはもちろんである。
像でちゃ離散的に与えられるため、多少の誤差を生じる
ことがあるが、画像のサンプリング間隔を短かくすれば
連続系に近い精度で計れることはもちろんである。
また、本発明はソフトウェア処理で実現することも可能
であるが、パイプライン画像メモリを使用しハードウェ
アによる実時間処理で実現することもできる。
であるが、パイプライン画像メモリを使用しハードウェ
アによる実時間処理で実現することもできる。
以上の様に本実施例によれは、高精度の位置決め及び比
較するだめの標準パターンを持たずして、簡単な判定基
準によシ、パターン幅を検査することが可能になる。し
たがって、検査装置の低価格化が実現できる。
較するだめの標準パターンを持たずして、簡単な判定基
準によシ、パターン幅を検査することが可能になる。し
たがって、検査装置の低価格化が実現できる。
本発明によれば、判定基準の単純化がはかられ、従来技
術で必要とされた高精度の位置決めや標準パターンが不
要となり、又、回路パターン自体の精度を問題にしない
回路パターンのパターン幅検査方法が提供できる。従っ
て、比較用の標準パターン発生装置等が不要となυ、検
査装置の小形化・低価格化をはかることができる。
術で必要とされた高精度の位置決めや標準パターンが不
要となり、又、回路パターン自体の精度を問題にしない
回路パターンのパターン幅検査方法が提供できる。従っ
て、比較用の標準パターン発生装置等が不要となυ、検
査装置の小形化・低価格化をはかることができる。
第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明の原理を示す図、第２図
は本発明の一実施を示す図、第３図０）〜（Ｃ）、第４
図、第５図（ＦＬ） 、 （ｂ）は第２図に示す実施例
の動作を示す説明図である。 ■・・・回路パターン、２・・・背景画像、４・・・テ
レビカメラ１．５・・・被検査対象物、６・・・光学系
、８・・・２値化回路、９・・・俊化点線分化回路、１
０・・・変化点メモリ、１２・・・サークル検定回路、
１３・・・エラ一点メモリ、１５・・・欠陥バクーン、
１６・・・欠陥検出画像、１７・・・検定サークル、１
８・・・加ｎ、器、１９・・・比較器。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 第１図 （ａ） 市） （Ｃ）（小 ０ 第２ｖＡ １１ （Ｃ’） ２５３図 ２１５４図 第５ （ａ） （ｂ）
は本発明の一実施を示す図、第３図０）〜（Ｃ）、第４
図、第５図（ＦＬ） 、 （ｂ）は第２図に示す実施例
の動作を示す説明図である。 ■・・・回路パターン、２・・・背景画像、４・・・テ
レビカメラ１．５・・・被検査対象物、６・・・光学系
、８・・・２値化回路、９・・・俊化点線分化回路、１
０・・・変化点メモリ、１２・・・サークル検定回路、
１３・・・エラ一点メモリ、１５・・・欠陥バクーン、
１６・・・欠陥検出画像、１７・・・検定サークル、１
８・・・加ｎ、器、１９・・・比較器。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 第１図 （ａ） 市） （Ｃ）（小 ０ 第２ｖＡ １１ （Ｃ’） ２５３図 ２１５４図 第５ （ａ） （ｂ）
Claims (1)
- 光電変換した回路パターンの２次元映像信号を、背景画
像と回路パターンとに所定のしきい値レベルで２値化変
換して２値化画像を形成し、次に上記２値化画像から背
景画像と回路パターンとの変化点を検出して、変化点の
Ｘ、Ｙ座標と変化点座像を形成し、次にある変化点ｆ（
Ｘ、Ｙ）ｔ−中心にして所定半径の円周上に位置する全
画素と上記変化点画像の各画素のうち両者が重複してい
る画素の数を計数し、計数された画素の数が３個以上の
場合にパターン幅が所定幅より狭く欠陥が生じていると
判定することを特徴とする回路パターンのパターン幅検
査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58185136A JPS6077437A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 回路パタ−ンのパタ−ン幅検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58185136A JPS6077437A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 回路パタ−ンのパタ−ン幅検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6077437A true JPS6077437A (ja) | 1985-05-02 |
Family
ID=16165497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58185136A Pending JPS6077437A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 回路パタ−ンのパタ−ン幅検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6077437A (ja) |
-
1983
- 1983-10-05 JP JP58185136A patent/JPS6077437A/ja active Pending
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