JPS6078308A - 螢光ｘ線膜厚計 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は螢光Ｘ線膜厚計に関し、特に検出器の入射開口
部に用いるフィルターを自動的に郡動してフィルターオ
ン、又はフィルターオフとする光めの改良に関するもの
でおる。

従来用いられていた螢光Ｘ線膜厚計は第１図Ａ、Ｂに示
されるように、Ｘ線源１から放射されたＸ線ビーム２は
試料面３に照射され、この試料面３から発生する螢光Ｘ
線４が検出器５に導かれて検出され、観察手段６によっ
て試料面３をみていた。

しかしながら、測定におたっては、試料の種類によって
は検出器の入射開口部に例えばコバルトフィルターをか
ける必要があったが、従来装置ではこのフィルターをボ
ルトオンで取付けていたため、操作がわずられしく、時
間もかかつていた。

本発明は以上の欠点をすみやかに除去するための極めて
効果的な手段を提供することを目的とするもので、特に
、検出器と同軸状に回転手段を設け、この回転手段の回
転軸にレバーを介してフィルターを取付け、回転手段上
作動させることによってフィルターをオン、オフするよ
うにした構成でるる。

以下、図面と共に本発明による螢光Ｘ線膜厚計について
詳細に説明する。

図面において符号１０で示されるものは本体１１に設け
られＸ線源１２ヲ有するＸ線源部でオシ、このＸ線源１
２は油１３中に浸漬されていると共に蓋体１４によシ密
閉状態に保持されている。

このＸ線源部１０の下部位置には一対の案内軸受１５　
、１６に摺動自在に保持された一対の摺動体１７゜１８
にシャッタ一体１９が矢印Ａの方向に往復移動自在に設
けられている。

このシャッタ一体１９は本体１１に設けられた回転移動
手段であるロータリーソレノイド２０の作動レバー２１
の一端に連結されており、ロータリーソレノイド加の作
動により前記シャッタ一体１９は矢印Ａの方向に往復移
動できるものである。本体１１の下部には一対のストッ
パー２２　、２３が設けられ、シャッタ一体１９の左右
方向の移動範囲を制限している。、 さらに、前記シャッタ一体］９の一面には較正用試料板
Ｕが設けられていると共に、この較正用試料板列に隣接
してミラー板５が設けられていると共に、このミラー板
５に対向して前記シャッタ一体１９内にランプ２６が内
蔵されており、試料面２′７ヲ照射することができる。

このシャッタ一体１９における前記ミラー板２５の下部
位置にはハーフミラ−板あおよび反射ミラー２９ｉ有す
るミラーボックス３０が一体に設けられており、このミ
ラーボックス加に図示しない観察手段であるＴＶカメラ
が装着され、Ｘ線軸と観察用の光軸とが一致している。

前記シャッタ一体１９の下端部には各々直径の異なる複
数のコリメータ孔３１　、３２　、３３　、３４　、３
５　ｆｔ、有するコリメータ体３６が回転自在に軸支部
３７１心↓シ軸支されておシ、コリメータ体３６と一体
に形成されたツマミ部３８ヲ介して矢印Ｂの方向に回転
させることによシアマークの位置に合わせたコリメータ
孔３３がその時のＸ線ビームが通過するコリメータ孔と
なるものである。

従って、このコリメータ体１９の移動する距離はハーフ
ミラ−板側の中心点とＰマークのコリメータ孔３３の中
心点との間に設けられた距離りが移動範囲とＩＤ、”線
源１２に対してノ・−フミラー板あが位置している時、
すなわち較正用試料板列にＸ線ビームが照射している状
態はシャッタ一体１９が閉状態であり、Ｘ線源１２から
のＸ線ビームがコリメータ体３６のＰマークのコリメー
タ孔３３ヲ通過して試料板ｎに照射している時はシャッ
タ一体１９が開状態である。

さらに、このシャッタ一体１９に隣接して比例計数管等
からなる検出器３９が設けられ、との検出器３９には較
正用試料板列からの螢光Ｘ線を入射させるための第１入
射開口部４０および試料面Ｎからの螢光Ｘ線を入射させ
るための第２入射開口部４１が各々形成され、この第２
入射開口部４１の前面側には、例えば、コバルトからな
るフィルター４２が矢印Ｃの方向に可動式に設けられて
いる。

μ上のような構成において、本発明による螢光Ｘ線膜厚
計を作動させる場合について述べると、まず、シャッタ
一体１９ヲ第２図で示す閉状態に保ち、Ｘ線源１２をオ
ンと＋乙と、Ｘ鋺ビーム１２αは較正用試料板列に照射
され、この較正用試料板列からの螢光Ｘ線は第１入射開
口部４０を経て検出器３９に入射して測定され、不膜厚
計の測定コンディションが一定値に整えられる。

次に、シャッタ一体１９ヲ回転移動手段であるロータリ
−ソレノイド２０ヲ作動させると、第２図において右側
に移動し、ストツノよ一ルに接合した状態に保持される
。

この状態では、Ｘ線ビーム１２　ｅは較正用試料板２４
に照射されず、シャッタ一体を経てコリメータ体３６の
Ｐマーク位置のコリメータ孔３３ヲ介して一定径のビー
ムとなって試料面ｎに照射され、試料面２７からの螢光
Ｘ線は第２入射開口部４１を介して検出器３９内に入射
される。

この場合、前記コリメータ体３６は、ツマミ部３８を矢
印Ｂの方向に回転させることによシ、コリメータ孔３１
はＯ０１ミリ、コリメータ孔３２は０．２ミリ、コリメ
ータ孔３３は０．３ミリ、コリメータ孔３４は０．５ミ
リ、コリメータ孔３５は１゜０ミリの直径であるため、
任意のコリメータ孔ｐＰマーりに合わせれば、任意の直
径のコリメータ孔に合わせることができ、被測定試料の
測定部の大きさによシ任意に選択できるものである。

さらに、第５図および第６図に示される構成は第３図で
示すフィルター４２′！！−選択的に検出器３９の第２
入射開口部４１上に位置させるためのもので、本体１１
に設けられた軸受部４３には回転軸４４が回転自在に装
着され、この回転軸４４は本体１１に保持部材４５全介
して保持されたロークリーンレノイドからなる回転手段
４６の軸４７と一体に接続されている。前記回転軸４４
にはレバー４８を介してフィルター４２が設けられてお
９．検出器３９の中心軸と回転手段４６の中心軸とは第
６図の一点鎖線で示すように同軸状に配置され、回転手
段４６を回転させるとフィルター４２は矢印Ｃの方向に
回転し、検出器３９の第２入射開口部４１が閉又は開状
態となる。

又、第６図は第５図のＡ−、Ａ線による断面を示してお
シ、回転軸４４に設けられた回転制御板６０には位置検
出凹部４９が形放され、この位置検出凹部４９は本体１
１に設けられた位置検出器５０が接合可能に構成される
と共に、回転制御板６０に設けられたレバー５１が本体
のストッパー５２．５３に衝合する構成である。

本発明による螢光Ｘ線膜厚計は以上のような構成と動作
を備えているため、試料によってフィルターを検出器３
９の第２入射開口部に位置させることも、位置させない
場合も、回転手段によって自由にフィルターを回転させ
ることができるため、極めて容易に行なうことができる
ものでオシ、さらに、回転手段と検出器が同軸状に配設
されているため、全体が極めてコンパクトに構成されて
いるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａは従来の膜厚計を示す構取図、第１図Ｂは第１
図Ａの膜厚計によるＸ線照射状態を示す試料の平面図、
第２図は本発明による螢光Ｘ線膜厚計を示す正面断面図
、第３図は第２図のＡ−Ａ線による断面図、第４図は第
３図のコリメータ体の裏面図、第５図は要部の拡大断面
図、第６図は第５図のＡ−Ａ線による断面図である。 １０ＵＸ線源部、１１ハ本体、１２はＸ線源、１３は油
、１４は蓋体、１９はシャッタ一体、茄はロータリーソ
レノイド、討は較正用試料板、５はミラー板、２７は試
料面、あけハーフミラ−板、２９は反射ミ２、−１３Ｑ
ｉミラーボツクス、３１〜３５はコリメータ孔、３６（
はコリメータ体、３８はツマミ部、３９は検出器、４０
は第１入射開口部、４１は第２入射開口部、４２はフィ
ルター、４６は回転手段、４７は軸、４８はレバー、６
０は回転制御板である。 以上 出願人　セイコー電子工業株式会社 代理人　弁理士　最　上　務

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 本体に設けられＸ線源を有するＸ線源部と、このＸ線源
   部の下部位置に配設されたコリメータ体と、試料からの
   螢光Ｘ線を検出するため本体に設けられた検出器と、前
   記螢光Ｘ線を検出器内に導入するため検出器の面に形成
   された入射開口部と、本体に取付けられ前記検出器の軸
   中心と同軸の回転軸を有する回転手段と、この回転軸の
   一端に設けられ前記入射開口部上に位置することができ
   るフィルターとを備え、前記回転手段の作動によシ前記
   フィルターを前記入射開口部上に選択的に位置すること
   ができるように構成したことを特徴とする螢光Ｘ線膜厚
   計。