JPS6078680A

JPS6078680A - 洗浄装置

Info

Publication number: JPS6078680A
Application number: JP18672183A
Authority: JP
Inventors: 経雄岡田
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1983-10-07
Filing date: 1983-10-07
Publication date: 1985-05-04

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔技術分野〕本発明は洗浄装置、特にオーバフロー洗浄装置に適用し
て有効な技術に関する。

〔背景技術〕

半導体装置を製造する際、ウェハ洗浄工程は欠かせない
工程の一つである。ウェハ洗浄工程は酸処理（たとえば
エツチング工程）などの最後には必ず行なわれる。この
工程でウェハ表面の酸分等を完全に除くことはもちろん
、異物（小さいゴミ）をも完全に除くことが歩留向上の
条件の一つである。

一般のオーバフロー洗浄装置は、第１図および第２図に
示すように被洗浄物１（たとえばカートリッジ２に収容
されたウェハ３）を浸す内槽（洗浄槽）４と、この内槽
４の上縁から外側に流れ出た洗浄液５（この場合廃液６
とも称す。）を回収する外槽７とを有している。内槽４
の底には洗浄液５を内槽４に供給する供給口８が設けら
れ、外槽７の底には排水口９が設けられている。そして
、被洗浄物１を洗浄する際には、被洗浄物１ｆｄ洗浄液
５が入れられた内槽４に入れられる。洗浄液５は内槽４
の下部から順次供給されるため、上昇して被洗浄物１を
洗浄しながら内槽４の上縁から溢れ出て外槽７に入る。

この際、被洗浄物１の汚染物のうち不溶解性の汚染物１
０の一部は浮上し、洗浄液表面に漂う。そして浮遊する
汚染物１０け内槽４の許容量を越えた洗浄液５と共に廃
液６となって外槽７へ流れ出して排除される。

しかし、このような構造のオーバフロー洗浄装置はつぎ
のような問題点がある。

すなわち、浮遊する汚染物ｌＯを効率よく排除するには
、廃液６が内槽４の上縁全域から溢れ出すことが望まれ
るが、実際には第２図で示すように、一部分しか流れ出
さない。そこで、内槽上縁全域で洗浄液５が溢れ出るよ
うにするためＫは、内槽４の上級の水平調整あるいは多
量に洗浄液５を使用することが考えられる。しかし、前
者の水平調整は難ｌく時間が掛るとともに、調整不充分
が多い。また、後者の洗浄液を多量に使用する方法では
、洗浄液の使用効率が低い。特に、洗浄液が高価な場合
には多量に洗浄液を使用することは洗浄コスト高となる
ことから好ましくない。このようなことから、現状では
内Ｊａ４から排除されない汚染物１０が洗浄を終了して
内槽４から引き上げられる被洗浄物ＩＶｃ再付着し、洗
浄不良を引き起しているという問題点が生じるというこ
とが本出願人によってあきらかとされた。

〔発明の目的〕本発明の目的は洗浄効果の高いオーバフロー洗浄装置を
提供することにある。

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。

〔発明の概要〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。

すなわち、本発明は内槽の外側に補助槽を設け、この補
助槽の上縁から溢れ出る廃液の盛り上がりによって内槽
の上縁部分に盛り上がって表面張力により流れ出さない
洗浄液の流出を図り、内槽の上縁全周部で洗浄液の溢れ
出しを行ない、洗浄効果の向上を達成するものである。

〔実施例］第３図は本発明の一実施例によるオーツく７０−洗浄製
置の役部を示す断面区である。

この洗浄装置はカートリ１．ジ２に収容されたウェハ３
のような被洗浄物１を入れる内槽（洗浄槽）４と、との
内槽４の上級から流れ出た洗浄液５（この場合［ｉ、を
廃液６とも称す。）を回収する外４１！Ｊ７と、外槽７
と内槽４との間に設けられた補助槽１１と、を有してい
る。内槽４の底には洗浄液５を内槽４に供給する供給口
８が設けられている。

また、外槽７の底には廃液６を排出する排水口９が設け
られている。また補助槽１１の底には前記排水口９から
排出された廃液６の一部なポンプ１２によって圧送した
廃液６を補助槽１１内に送り込む供給口１３が設けられ
ている。前記補助槽１１は狭く、かつ補助槽１１の上縁
は内槽４の上縁よりもわずかに低くなっている。

このような洗浄装置で被洗浄物１を洗浄する際には、被
洗浄物１は洗浄液５が順次供給されている内槽４に入れ
られる。洗浄液５は内槽４の下部から順次内槽４内に送
り込まれることから、被洗浄物１を洗浄し、被洗浄物１
から遊離した汚染物１０を内槽４の上縁から洗浄液５と
ともに内槽外に流出させる。この際、洗浄液５０表面張
力によって内槽４の上縁の一部では廃液６が流出しない
ようなことがあっても、内槽４の外側にはポンプ１２の
圧送によって補助Ｗ１１に送り込まれた廃液６が内槽上
縁部分で盛り上がって補助槽１１から外Ｗｊ７に向かっ
て流出している。そして、この廃液７の盛り上がり部分
は内槽４の上縁部分で内槽４の内側から上縁に亘って表
面張力によって盛り上がっている廃液６に接触し、その
表面張力を破ることになり、内槽４の洗浄液５は内槽の
上縁全周で流出が生じる。

〔効果〕

（１）　本発明は内槽全局部分で洗浄液（廃液）が外槽
に流出されるため、内檜内の汚染物は効果的に豚去され
る。この結果、内槽から引き上げられた被洗浄物に再び
汚染物が何着−４″るようなことは避けられるため、有
効な洗浄が行なえる。

（２）本発明の内相における洗浄液の効率的除去を促進
する補助槽等からなる廃液除去促進機構にあっては、外
槽から排出された廃液を使用しているため、洗浄液の使
用量は少なく経済的である。したがって、本発明は高価
な洗浄液を使用する場合には、経済的にはさらに効果的
である。

（３）本発明は上記（１）から、従来のような高′ｆＲ
度の内槽水平調整は必要でなくなり、使い易い。

（４）本発明は内槽の上縁よりも補助槽の上縁が低くな
っているため、誤って内槽への洗浄液の供給量が減し過
ぎたり、あるいは完全に停止しても、汚染物が内槽に再
び入るようなことはない。

（５）上記（１）〜（４）から、安いコストで効率的な
洗浄が達成できる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、廃液除去促
進機植としては、第４図に示すように、内槽４の上縁部
分に廃液６を噴き付けるノズル１４を内槽４の上縁全周
に亘って設け、内［４の上縁部分に表面張力によって溜
る洗浄液５０表面張力を破る構造にすれば、前記実施例
と同様な効果が得られる。なお、ノズル１４は、噴出さ
れる廃液６が内槽４に入らないような方向に廃液６を噴
出するように設定しておく必要がある。

〔利用分野〕

れた発明をその背景となった利用分野であるウェハ洗浄
技術に適用した場合について説明したが、それに限定さ
れるものではなく、洗浄を必要とする各物品の洗浄に広
く利用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のオーバフロー洗浄装置の断面区、第２図
は同じく斜視図、第３図は本発明の一実施例によるオーバフロー洗浄装着
の要部を示す断面図、第４図は同様な他の実施例による断面図である。】・・・被洗浄物、２・・・カートリッジ、３・・・ウ
エノ１．４・・・内槽（洗浄槽）、５・・・洗浄液、６
・・・廃液、７・・・外柵、８・・・供給口、９・・・
排水口、１０・・・汚染物、１１・・・補助槽、１２・
・・ポンプ、１３・・・供給口、１４・・・ノズル。第　３　図第　４　図手続補正書（自発）事件の表示昭和５８年特許願第　１８６７２１、発明の名称洗浄装置補正をする者・ＩＩにｉとの１朋　特許出願人名　称　ｆ５１０１株式会ｔ１　日　立　製　イ乍　所
代　理　人補ＴｆＥ、（Ｄ対象区ヨ補正の内容（１）願書に添付する図面第２図を別添の通り補正する
第２図

Claims

【特許請求の範囲】

１、洗浄槽の上縁から洗浄液を溢れさせて洗浄槽内の被
洗浄物の洗浄が行なわれる洗浄装置であって、前記洗浄
槽の上縁全周に亘って洗浄槽内の洗浄液の流出を助長す
る廃液除去促進機構が設けられていることを特徴とする
洗浄装置。