JPS6080450U - フオトマスク基板 - Google Patents

フオトマスク基板

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Publication number
JPS6080450U
JPS6080450U JP1983172023U JP17202383U JPS6080450U JP S6080450 U JPS6080450 U JP S6080450U JP 1983172023 U JP1983172023 U JP 1983172023U JP 17202383 U JP17202383 U JP 17202383U JP S6080450 U JPS6080450 U JP S6080450U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask substrate
recorded
photomask
polished
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP1983172023U
Other languages
English (en)
Inventor
和夫 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP1983172023U priority Critical patent/JPS6080450U/ja
Publication of JPS6080450U publication Critical patent/JPS6080450U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はフォトマスク基板を示す斜視図、第２図は、認
識記号を示す断面図である。 図中の記号、Ａ、　Ａ’、　Ｂ、　Ｂ’、　Ｃ，Ｃ’は
各面を示しり、Ｅは代表的な辺を表わしている。図中の
数字、１・・・・・・フォトマスク基板、２・・・・・
・認識記号、２１・・・・・・認識記号の深さを示して
いる。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 表面を研磨したり、溶解したりしても、残存する認識記
    号を有するフォトマスク基板。
JP1983172023U 1983-11-07 1983-11-07 フオトマスク基板 Pending JPS6080450U (ja)

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Family

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002116533A (ja) * 2000-10-11 2002-04-19 Dainippon Printing Co Ltd エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
JP2006309143A (ja) * 2005-03-30 2006-11-09 Hoya Corp マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、及びマスクブランクス
JP2007033857A (ja) * 2005-07-27 2007-02-08 Hoya Corp マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、マスクブランクスの製造方法、及びマスクブランクス
JP2011070214A (ja) * 2005-03-30 2011-04-07 Hoya Corp マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、及びマスクブランクス
JP2018106147A (ja) * 2016-12-22 2018-07-05 Hoya株式会社 表示装置製造用のマスクブランク用基板、マスクブランク及びマスク、並びにそれらの製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58144829A (ja) * 1982-02-22 1983-08-29 Hoya Corp フオトマスクブランクス用基板のマ−キング方法
JPS5915938A (ja) * 1982-07-19 1984-01-27 Hoya Corp マ−キングを施されたフオトマスクブランクス用基板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58144829A (ja) * 1982-02-22 1983-08-29 Hoya Corp フオトマスクブランクス用基板のマ−キング方法
JPS5915938A (ja) * 1982-07-19 1984-01-27 Hoya Corp マ−キングを施されたフオトマスクブランクス用基板

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002116533A (ja) * 2000-10-11 2002-04-19 Dainippon Printing Co Ltd エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
JP2006309143A (ja) * 2005-03-30 2006-11-09 Hoya Corp マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、及びマスクブランクス
US7851108B2 (en) 2005-03-30 2010-12-14 Hoya Corporation Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, mask manufacturing method, mask blank glass substrate, mask blank, and mask
JP2011070214A (ja) * 2005-03-30 2011-04-07 Hoya Corp マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、及びマスクブランクス
US7955763B2 (en) 2005-03-30 2011-06-07 Hoya Corporation Mask blank glass substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, mask manufacturing method, mask blank glass substrate, mask blank, and mask
JP2012190044A (ja) * 2005-03-30 2012-10-04 Hoya Corp マスクブランクスおよびマスクブランクスの製造方法
JP2007033857A (ja) * 2005-07-27 2007-02-08 Hoya Corp マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、マスクブランクスの製造方法、及びマスクブランクス
JP2018106147A (ja) * 2016-12-22 2018-07-05 Hoya株式会社 表示装置製造用のマスクブランク用基板、マスクブランク及びマスク、並びにそれらの製造方法

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