JPS6082102A - 試薬精製装置 - Google Patents

試薬精製装置

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Publication number
JPS6082102A
JPS6082102A JP19186183A JP19186183A JPS6082102A JP S6082102 A JPS6082102 A JP S6082102A JP 19186183 A JP19186183 A JP 19186183A JP 19186183 A JP19186183 A JP 19186183A JP S6082102 A JPS6082102 A JP S6082102A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reagent
teflon
conduit
cooling
storage tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP19186183A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsugio Shimono
下野 次男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP19186183A priority Critical patent/JPS6082102A/ja
Publication of JPS6082102A publication Critical patent/JPS6082102A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/02Apparatus characterised by being constructed of material selected for its chemically-resistant properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/02Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
    • B01J2219/025Apparatus characterised by their chemically-resistant properties characterised by the construction materials of the reactor vessel proper
    • B01J2219/0295Synthetic organic materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、酸などの溶液状の試薬を蒸留法により精製す
る装置に関するものである。
電子工業、原子カニ業あるいは各種素材工業の進歩に伴
なう材料の高純度化の要求とともに、材料計測技術に右
いても超微量成分分析技術力の向上が一段と強く要求さ
れている。最近の分析装置の急速な発達により湿式化学
分析でも超微量成分分析が相当可能になってきたが、分
析に使用する試薬から分析目的成分が混入するいわゆる
コンタミネーションの問題により分析のブランク値が高
くなり依然として超微量成分を分析できない場合が多い
。現在、電子工業用あるいは有害金属測定用の高純度試
薬が市販されているが超微量成分分析に用いるためには
充分な純度であるとはいえず、使用目的に応じてさらに
精製する必要がある。従来、高純度試薬を調製するため
に石英製二段蒸留装置や石英製非沸騰蒸留装置が用いら
れているがこれらの装置は石英からできているためフッ
化水素酸のように石英腐食性の試薬の精製が難しい、装
置が高価である、広い設置スペースが必要であるなどの
欠点を有していた。
本発明の目的は、石英腐食性の試薬の精製が行なえ、安
価に装置を組み立てられ、使用時以外には分解収納でき
る新規な試薬精製装置を提供することにある。
本発明の試薬精製装置は、上ぶたに2本の導管を有する
試薬貯留槽部をホットプレート上で加熱し、発生した試
薬蒸気を一方の導管から導入した洗浄された不活性ガス
で追い出し他方の導管から冷却槽部に設置した冷却管部
に導き入れ、凝縮した精製試薬を捕集びん部に導く構造
を有し、試薬と接触する部分に全てテフロン製の部品を
用いることを特徴とする。
以下、本発明について一実施例を示す図面を参照して説
明する。
第1図は実施例を示す断面図である。テフロン製の試薬
貯留槽4に適量の試薬原液6を入れる。
貯留槽の上ぶた5には2本のテフロン製導管が取り付け
られている。導管3は窒素ガスの洗気びん1に、導管8
は冷却管9に連結しており、各導管の先端は試薬液面の
下および上にある。貯留槽をホットプレート7にのせ加
熱し1発生した試薬蒸気を導管8からテフロン製冷却管
9に導入して凝縮させ、凝縮した精製試薬をテフロン製
捕集びん部11に集める。その場合、試薬が沸騰すると
試薬飛沫が発生し精製効率が悪くなるので沸騰しない程
度の温度で加熱する。発生した試薬蒸気を効率良く送り
出すために導管3から窒素ガスを吹き込む。窒素ガスに
も不純物が含有される可能性があるので洗気びんlを通
して洗浄する。洗気びんには濃硫酸などの洗浄液2が入
れである。冷却管9は冷却槽10に入っている。冷却槽
10には氷−水。
ドライアイス−エタノールなどの冷却剤が入っている。
冷却効率を高めるために冷却管はコイル状になっている
。外部からの汚染を防ぐために捕集びんの口はテフロン
シートなどでおおう。市販の最高純度の硝酸とフッ化水
素酸を第1図の装置で蒸留11″ij製した時の結果を
表1.2に示す。蒸留速度はホットプレートの温度にも
よるが約20fnl/時間であった。表1.2に示され
るように、蒸留精製により各不純物濃度が硝酸で1/1
.5〜IA8゜フッ化水素酸でl/1.1〜1/4に減
少した。
第1図の装置を改良した装置の試薬貯留槽部分の断面図
を第2図に示す。第2図では第1図の導管3と導管8が
改良されている。導管3では先端表1.蒸留前後での硝
酸中の不純物含有濃度が円筒のため窒素ガスを吹き込む
と大傘な気泡がifr続的に発生するため試薬飛沫が発
生しやすく精製効率が低下する。導管12の先端は多数
の細孔の空いた恰】21を有しており、気泡が連続的に
発生するため窒素ガスを穏やかに吹き込める。そのため
試薬飛沫の発生を抑えられる。尋′98に入った試薬飛
沫はそのまま冷却管に送り込まれるため精製効率が低下
する。導管13には途甲にテフロンくずを冗填したトラ
ップ14がついているため、試薬飛沫はここで捕集され
、試薬蒸気だけが1′肯却看に送り込まれ、商い精製効
率を得ることがでさる。、第2図に示すように専管を救
民することにより、第1図の装置に較べで、数倍精製効
率を高めることができた。
冷却′U部や冷却槽部iこけ第1図に示されたもの以外
に、各種のものが考えらnる。その−実施例の断面図を
第3図に示す。第3因のものは二重管構造を有している
。冷却管部■5は透明な材質のもので作らn、た帝却倍
部I6に組み込ま孔ている。冷却槽s16の中では冷却
剤17が循環している。この冷却管部を使うと凝縮した
試薬が滞留しないため蒸留速度が速かった。
第1図および第2図に示した装置は、各部品が分解でき
るため必要な時だけ装置を組み立てれば良く、使用しな
い時は分解して収納できる。そのため特別に設置スペー
スを必要としない。また、石英製蒸留装置より安価に組
み立てられる。
以上、実施例に示したように、本発明の試薬精製装置に
より、従来の石英製蒸留器で行なえなかった石英腐食性
の試薬の蒸留器で行なえなかった石英腐食性の試薬の蒸
留精製が可能になった。さらに、本装置は安価に組み立
てられるとともに、分解が容易なため特別な設置スペー
スがいらないなどの利点を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の装置の一実施例を示す断面図である。 図において。 1・・・洗気びん、2・・・濃硫酸などの洗浄液、3・
・・テフロン製導管、4・・・テフロン製酸貯留槽、5
・・・上ぶた。6・・・酸原液、7・・・ホットプレー
ト、8・・・テフロン製導管、9・・・テフロン製冷却
管、10・・・冷却槽、 11・・・テフロン製捕集び
ん、第2図は他の実施例を示す装置の酸貯留槽部分の断
面図である。図において、 12 、13・・・テフロン製導管、14・・・トラッ
プ、第3図は冷却管部および冷却槽部の他の実施例を示
す断面図である。図において。 15・・・テフロン製冷却管、16・・・冷却槽、17
・・・冷却剤。 オ l 図 :/P 2 図 オ 3 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 上ぶたに2本の導管を有する試薬貯留槽部をボ、ドブレ
    ート上で加熱し、発生した試薬蒸気を一方の導管から導
    入した洗浄された不活性ガスで追い出し、他方の導管か
    ら冷却槽部に設置した冷却管部に導き入れ、凝縮した積
    装試薬を冷却管部から捕集びん部に導くように構成され
    、かつ、試薬と接触する部分が全てテフロン材を用いて
    構成されることを特徴とする試薬精製装置。
JP19186183A 1983-10-14 1983-10-14 試薬精製装置 Pending JPS6082102A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19186183A JPS6082102A (ja) 1983-10-14 1983-10-14 試薬精製装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19186183A JPS6082102A (ja) 1983-10-14 1983-10-14 試薬精製装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6082102A true JPS6082102A (ja) 1985-05-10

Family

ID=16281712

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19186183A Pending JPS6082102A (ja) 1983-10-14 1983-10-14 試薬精製装置

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JP (1) JPS6082102A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6508915B1 (en) 1996-12-20 2003-01-21 Fujitsu Limited Apparatus and method for distilling waste liquids

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6508915B1 (en) 1996-12-20 2003-01-21 Fujitsu Limited Apparatus and method for distilling waste liquids
US7232504B2 (en) 1996-12-20 2007-06-19 Fujitsu Limited Apparatus and method for distilling waste liquids

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