JPS608551B2 - 円筒磁区素子 - Google Patents
円筒磁区素子Info
- Publication number
- JPS608551B2 JPS608551B2 JP2846277A JP2846277A JPS608551B2 JP S608551 B2 JPS608551 B2 JP S608551B2 JP 2846277 A JP2846277 A JP 2846277A JP 2846277 A JP2846277 A JP 2846277A JP S608551 B2 JPS608551 B2 JP S608551B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylindrical
- magnetic domain
- cylindrical magnetic
- domain
- conductor
- Prior art date
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- Expired
Links
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は円筒磁区を利用する磁気記憶素子に関するもの
である。
である。
ガーネットのような膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有
する磁性膜に適当な大きさの均一バイアス磁場を加える
と磁性膜内に周辺部と磁化の方向が逆の単一磁壁よりな
る円筒磁区が出来ることが知られている。
する磁性膜に適当な大きさの均一バイアス磁場を加える
と磁性膜内に周辺部と磁化の方向が逆の単一磁壁よりな
る円筒磁区が出来ることが知られている。
この円筒磁区に磁場勾配を与えると円筒磁区はその磁場
勾配にそって移動する。この性質を用いることによって
磁気記憶装置を実現することが可能である。円筒磁区を
移動させる方法としては磁性膜の上にT文字、1文字の
ような欧磁性薄膜パターンを配列し、磁性膜の面内方向
に回転磁場を加える方法がもっともよく用いられている
。
勾配にそって移動する。この性質を用いることによって
磁気記憶装置を実現することが可能である。円筒磁区を
移動させる方法としては磁性膜の上にT文字、1文字の
ような欧磁性薄膜パターンを配列し、磁性膜の面内方向
に回転磁場を加える方法がもっともよく用いられている
。
磁気記憶装置に用いられる円筒滋区素子を実現するため
には円筒磁区の単純な移動の他に円筒滋区の発生、検出
、消去を行なう手段が必要である。
には円筒磁区の単純な移動の他に円筒滋区の発生、検出
、消去を行なう手段が必要である。
さらに、円筒磁区素子ではメジャー・ループとマイナー
・ループと呼ばれる2種類の転送路を設けアクセス時間
を短縮する方法が一般に使用されている。
・ループと呼ばれる2種類の転送路を設けアクセス時間
を短縮する方法が一般に使用されている。
この方法はメジャーノマィナ一方式(M/m方式)と称
されている。M/m方式の円筒滋区素子ではメジャール
ープとマイナーループの間に円筒滋区の授受を行なうト
ランスフア・ゲートあるいは円筒滋区の分割を行なうリ
プリケータ(replicator)が必要である。リ
プリケータとしては例えばアイ・イー・イー・イー・ト
ランザクシヨンズ・オン・マグネテイツクス(mEET
ransactionsonMa靴etics)第MA
G−9巻477ページ(1973年)のFig−8に例
示されている。しかし乍ら上記文献におけるリプリケー
タはリプリケータ部における円筒磁区の進行方向が互い
に逆方向である。
されている。M/m方式の円筒滋区素子ではメジャール
ープとマイナーループの間に円筒滋区の授受を行なうト
ランスフア・ゲートあるいは円筒滋区の分割を行なうリ
プリケータ(replicator)が必要である。リ
プリケータとしては例えばアイ・イー・イー・イー・ト
ランザクシヨンズ・オン・マグネテイツクス(mEET
ransactionsonMa靴etics)第MA
G−9巻477ページ(1973年)のFig−8に例
示されている。しかし乍ら上記文献におけるリプリケー
タはリプリケータ部における円筒磁区の進行方向が互い
に逆方向である。
このため、この部分での円筒磁区の相互作用が増加する
ため円筒滋区の転送マージンが低下する。又、このリプ
リケータは、円筒磁区を導体ループで引伸し、この引伸
された円筒磁区が前記導体ループと交叉してから、円筒
磁区切断のための電流を流す必要がある。ところが円筒
磁区が導体ループと交叉するまでの期間が長いために、
バイアス磁界が高くなると引伸された円橋磁区が、縮ん
でしまい、円筒磁区を分割することができなくなり、動
作マージンが低下する欠点がある。本発明の目的は従来
知られているリブリケータと形式が異なりかつ、十分な
動作マージンを有するリプリケータを提供することにあ
る。
ため円筒滋区の転送マージンが低下する。又、このリプ
リケータは、円筒磁区を導体ループで引伸し、この引伸
された円筒磁区が前記導体ループと交叉してから、円筒
磁区切断のための電流を流す必要がある。ところが円筒
磁区が導体ループと交叉するまでの期間が長いために、
バイアス磁界が高くなると引伸された円橋磁区が、縮ん
でしまい、円筒磁区を分割することができなくなり、動
作マージンが低下する欠点がある。本発明の目的は従来
知られているリブリケータと形式が異なりかつ、十分な
動作マージンを有するリプリケータを提供することにあ
る。
以下実施例を用いて詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例のリプリケータ部を示してい
る。
る。
第1の円筒磁区転送路11と第2の円筒磁区転送路12
が接近したりプリケータ中心部13の付近には円筒磁区
引伸用の第1の導体14と円筒滋区切断用の第2の導体
15が配置されている。
が接近したりプリケータ中心部13の付近には円筒磁区
引伸用の第1の導体14と円筒滋区切断用の第2の導体
15が配置されている。
ここでは第1の導体と第2の導体が絶縁層を介して別の
層で形成されていることが本質的であり、従来の公知例
との相違点でもある。通常は製造プロセスの工数をなる
べく少〈することが要求されるので、例えば第1の導体
を第1の薄膜層で形成すればL第2の導体は円筒磁区転
送路を形成するものと同じ第2の薄膜層で形成するのが
よい。
層で形成されていることが本質的であり、従来の公知例
との相違点でもある。通常は製造プロセスの工数をなる
べく少〈することが要求されるので、例えば第1の導体
を第1の薄膜層で形成すればL第2の導体は円筒磁区転
送路を形成するものと同じ第2の薄膜層で形成するのが
よい。
円筒磁区転送路を形成する薄膜層は通常パーマロィ膜等
の磁性膜層が用いられているが電気伝導度を増すために
金、アルミ、銅等の膜が磁性薄膜に重ね合わされていて
もよい。第2の導体を第1の薄膜層で形成し、第1の導
体を第2の薄膜層で形成してもよいことはもちろんであ
る。さらに第1図による実施例では第1の導体!4と第
2の導体15はリプリケータ中心部13付近において交
叉するように配置されている。ここで第1の導体14と
第2の導体15は電気的に短絡しないよう絶縁層を介し
て配置されている。第1又は第2の円筒磁区転送路】6
717のいずれかから入ってきた円筒磁区が円筒磁区引
伸用の第1の導体ループ部14に到達したとき、第1の
導体ループに電流を流すと円筒磁区が第1と第2の円筒
滋区転送路の両方にまたがるように引伸ばすことができ
る。一般に円筒滋区を保持するためのバイアス磁場が強
くなると円筒磁区が伸びにくくなるため第1の導体ルー
プの電流を切ってしまうと円筒磁区が再び縮んで第1又
は第2の円筒磁区転送路の一方にしか存在しなくなる傾
向にある。従来報告されているリプリケータにおいては
いずれも一旦のびた円筒磁区が円筒滋区引伸用の電流を
切っても縮まないバイアス範囲でのみ動作するように設
計されている。一方本発明によるリプリケー外こおいて
は円筒滋区引伸用の第1の導体と円筒磁区切断用の第2
の導体が交叉するように配置されているので円筒磁区引
伸用の電流を流している状態で円筒滋区切断用の電流を
同時に流すことができる。したがって本発明のリプリケ
ー外こよれば従来のリプリケータより高いバイアス磁場
の所まで動作させることが出来、結局動作マージンが広
くなる。
の磁性膜層が用いられているが電気伝導度を増すために
金、アルミ、銅等の膜が磁性薄膜に重ね合わされていて
もよい。第2の導体を第1の薄膜層で形成し、第1の導
体を第2の薄膜層で形成してもよいことはもちろんであ
る。さらに第1図による実施例では第1の導体!4と第
2の導体15はリプリケータ中心部13付近において交
叉するように配置されている。ここで第1の導体14と
第2の導体15は電気的に短絡しないよう絶縁層を介し
て配置されている。第1又は第2の円筒磁区転送路】6
717のいずれかから入ってきた円筒磁区が円筒磁区引
伸用の第1の導体ループ部14に到達したとき、第1の
導体ループに電流を流すと円筒磁区が第1と第2の円筒
滋区転送路の両方にまたがるように引伸ばすことができ
る。一般に円筒滋区を保持するためのバイアス磁場が強
くなると円筒磁区が伸びにくくなるため第1の導体ルー
プの電流を切ってしまうと円筒磁区が再び縮んで第1又
は第2の円筒磁区転送路の一方にしか存在しなくなる傾
向にある。従来報告されているリプリケータにおいては
いずれも一旦のびた円筒磁区が円筒滋区引伸用の電流を
切っても縮まないバイアス範囲でのみ動作するように設
計されている。一方本発明によるリプリケー外こおいて
は円筒滋区引伸用の第1の導体と円筒磁区切断用の第2
の導体が交叉するように配置されているので円筒磁区引
伸用の電流を流している状態で円筒滋区切断用の電流を
同時に流すことができる。したがって本発明のリプリケ
ー外こよれば従来のリプリケータより高いバイアス磁場
の所まで動作させることが出来、結局動作マージンが広
くなる。
第1図の実施例においてはリプリケータ中心部付近の第
1および第2の円筒磁区転送路は山形(シェブロン)パ
ターンをそれぞれ3段重ねたものから構成されているが
この段数はこれ以外でもよいことはもちろんのこと〜Y
形、半円形等他の形のパターンから構成されていてもよ
い。
1および第2の円筒磁区転送路は山形(シェブロン)パ
ターンをそれぞれ3段重ねたものから構成されているが
この段数はこれ以外でもよいことはもちろんのこと〜Y
形、半円形等他の形のパターンから構成されていてもよ
い。
図において導体パターン14,15は直線状であるよう
に示されているが曲がっていてもよいことはもちろんで
あり、太さも一様である必要はない。
に示されているが曲がっていてもよいことはもちろんで
あり、太さも一様である必要はない。
図は本発明の一実施例におけるリブリケータ部を示す平
面図である。 11は第1の円筒磁区転送路、12は第2の円筒磁区転
送路、13はリプリケータ中心部、14は円筒磁区引伸
用導体、15は円筒磁区切断用導体「 16,17は円
筒磁区の進行方向である。
面図である。 11は第1の円筒磁区転送路、12は第2の円筒磁区転
送路、13はリプリケータ中心部、14は円筒磁区引伸
用導体、15は円筒磁区切断用導体「 16,17は円
筒磁区の進行方向である。
Claims (1)
- 1 円筒磁区を保有しうる磁性膜とその磁性膜中の円筒
磁区を安定に存在させるための磁気的手段および円筒磁
区を移動させるための磁気的手段を有する磁気記憶装置
において、第1の円筒磁区転送路と第2の円筒磁区転送
路と、これら2種の転送路の接近部に円筒磁区引伸用の
第1の導体と円筒磁区切断用の第2の導体とを別の層に
形成しかつ交叉するように配置したリプリケータとを備
えてなることを特徴とする円筒磁区素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2846277A JPS608551B2 (ja) | 1977-03-14 | 1977-03-14 | 円筒磁区素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2846277A JPS608551B2 (ja) | 1977-03-14 | 1977-03-14 | 円筒磁区素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53112620A JPS53112620A (en) | 1978-10-02 |
| JPS608551B2 true JPS608551B2 (ja) | 1985-03-04 |
Family
ID=12249315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2846277A Expired JPS608551B2 (ja) | 1977-03-14 | 1977-03-14 | 円筒磁区素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS608551B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62112325U (ja) * | 1985-12-31 | 1987-07-17 |
-
1977
- 1977-03-14 JP JP2846277A patent/JPS608551B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62112325U (ja) * | 1985-12-31 | 1987-07-17 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53112620A (en) | 1978-10-02 |
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