JPS608860B2 - 無水フタル酸製造用触媒 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はオルトキシレンまたはナフタリンを分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して無水フタル酸を製造す
るための触媒に関する。

詳しく述べると触媒活性物質として酸化バナジウムおよ
び酸化チタンを含みこれを不活性担体上に担特せしめた
無水フタル酸製造用触媒に関するもので、とくに高濃度
にオルトキシレンやナフタリンを含む原料ガスを接触気
相酸化して工業的に安定して無水フタル酸を製造し得る
酸化バナジウムおよび酸化チタン含有の担持型触媒に関
する。酸化バナジウムおよび酸化チタンを主成分とする
触媒活性物質を不活性担体に担特せしめた無水フタル酸
製造用触媒は広く知られ、特公昭４７−１５３２３号、
特開昭４９−８９６９４号、特開昭４７−５６６１号、
特公昭４９−１４０３６号、特公昭５２−４５３８号各
公報明細書などに報告されている。

これらの公知触媒はそれぞれ特徴点を備え、工銀的にも
使用され実績をあげているものもある。とくに特公昭４
９−１４０３６号および特公昭５２−４５３８号発明に
よる触媒は、その高い水準と耐久性のゆえに工業的にき
わめて有効な触媒であることを本発明者らは確認してい
る。無水フタル酸は、酸化剤として空気を用いてナフタ
リンまたはオルトキシレンの接触気相酸化によって製造
されてきたが、殆んどの場合、原料ガス濃度はそれぞれ
の爆発下限界以下に保って反応が行なわれてきた。

しかし、この数年、単位反応器あたりの生産性の向上、
および省エネルギーを目的として触媒の選択性および耐
熱性等の面での技術水準の向上と反応工学の面での技術
水準の向上とともにナフタリンやオルトキシレンの空気
中における濃度を爆発下限値以上に高めて反応を行なわ
しめるという、いわゆる爆発範囲内操業が一般化する傾
向を持ち、このようなプロセスに関する文献も以下のよ
うに報告されている。特開昭５０−４０５３９号公報明
細書、特関昭５０−４０５１４号公報明細書、ケミカル
エンジニアリング第８２頁（１９７仏王３月号）など。
これらの文献から明らかなことは、たとえばオルトキシ
レンを使用する場合、従来はガス濃度が空気中で４０タ
ーオルトキシレン／ＮＭ３以下である必要があったが４
０／ＮＭ３以上６０夕／ＮＭ３まで高濃度とすることが
可能であることが示された。

その理由の一つとしては、反応器以降の生成ガス組成を
爆発範囲より外せば危険かないという知見のえられたこ
とが挙げられよう。すなわち、原料ガス側（反応器入口
側）は、原料投入部より反応器触媒層に至るまでの間の
ガス線速度を高めることにより、たとえばそのガス組成
が静止状態において爆発範囲に入っていてもある程度ま
でのガス濃度であれば爆発の危険性は回避できる。しか
し、反応器以降の生成ガス側は無水フタル酸補集室とい
う空間を不可避的に必要とする関係上、爆発範囲をガス
の線速度を上げて狭くするというような手段をとること
ができず、結局６０夕／ＮＭ３程度までが爆発回避の限
界として上記した如く知見されたためであろう。しかし
、このような従来にない高濃度反応においては、使用さ
れる触媒にも種々の制約が謀せられれることになる。

オルトキシレンやナフタリンを接触気相酸化して無水フ
タル酸をえる反応は著しい発熱を伴うのでとくにガス濃
度を高めた場合、ホットスポット部での温度上昇はきわ
めて激しくなる。このために過度酸化反応が増大し、無
水フタル酸収率が低下し、しかもホットスポット部での
触媒劣化が著しく促進される。このような傾向は、従来
の４０夕／ＮＭ３以下の濃度できわめて高水準を維持し
た触媒でも濃度が６０夕／ＮＭ３付近になると顕著にあ
らわれ、濃度がそれを越え、とくに８０夕／ＮＭ３にま
で達するとホットスポット部の温度は５００００を越え
、しかも無水マレィン酸、安息香酸、炭酸ガスなどの副
反応も増大することも知見されたのである。一方、これ
ら高濃度反応に対応するため水蒸気を原料ガス中に加え
（主としてこの水蒸気は反応生成ガスからの循環水蒸気
が採用される）、爆発下限を上げて安全城を広げつつ、
しかもこの水蒸気によってホットスポットでの温度上昇
を抑制しようとする試みもある。

なお、水蒸気がホットスポットでの温度上昇を抑制する
効果については特開昭５０−４０５１４号公報明細書に
記載されている。しかし、このような従来にない新しい
反応条件に適合するためには、従来の触媒では不十分で
あることが判明した。なるほど反応開始から久ら〈の間
は、所期の無水フタル酸の生産性を維持するが次第にそ
の触媒活性を失い工業的使用には耐ええないことが判明
したのである。本発明者らは「 すでに特願昭５３−１
４６４５ｙ号（特開昭５５−７３６７５号）および特願
昭５４−１５５６０８号発明（特開昭５９−１３７８号
公報参照）として高濃度反応に耐えうるすぐれた無水フ
タル酸製造用触媒を提案した。

とくに特願昭５４−１５５６０８号（特公昭５９−１３
７８号公報参照）発明では、Ｖ２Ｑ−Ｔｉ０２系触媒に
アンチモンを添加することにより耐熱性、耐水蒸気性を
改善することが明らかにされた。これらの触媒は「 １
１２〜１１４重量という高い無水フタル酸収率を与える
点て工業上の使用に耐えうるものであるが、本発明者ら
はさらに高い選択性を与えるべく触媒探求を行ない、以
下の如く特定しうる本発明を完成した。オルトキシレン
またはナフタリンを分子状酸素含有ガスにより接触気相
酸化して無水フタル酸を製造するための触媒において、
酸化バナジウムがＶ２Ｑとして１〜２０重量部、好まし
くは２〜１６重量部、および実質的に０．４〜０．７ミ
クロンの平均直径よりなり、且つ、比表面積１０〜６０
の／夕の多孔性アナターゼＴｉ０２がＴｊ０２として９
９〜８の重量部、好ましくは９８〜８５重量部、さらに
これら２成分の合計１００に対してニオブがＮｂ２Ｑと
して０．０１〜１重量部、好ましくは０．０１〜０．５
重量部、カリウム（Ｋ）、セシウム（Ｃｓ）、ルビジウ
ム（Ｒｂ）およびタリウム（ＴＩ）よりなる群から選ば
れた少なくと１成分が酸化物として０．０５〜１．２重
量部、リン０がＰ２０５として０．０５〜１．２重量部
、およびアンチモンがＳＱ０３として０．５〜１の重量
部を含有してなる触媒活性物質を多孔性担体に１５〜２
００夕／１００ｃｃ担体（ただし１５夕／１００ｃｃ担
体は除く）担特せしめてなることを特徴とする無水フタ
ル酸製造用触媒。本発明においては、触媒活性物質の担
体への担持量は１５〜２０Ｍ／１００ｃｃ担体（ただし
１５夕／１００ｃｃ担体は除く）と多いことが特徴であ
り、しかも反応温度を３５０００以下好ましくは３３０
ｑｏ以下とすることが可能であり、それにより非常にす
ぐれた無水フタル酸への選択性を有する触媒が提供され
る。そしてＶ２ＱとＴｉ０２との合計１０の重量部に対
してアンチモンを０．５〜１の重量部存在させ、しかも
その含量を変化させることによって高選択性を維持する
とともに活性コントロールをも可能にすることも特徴で
あり、以下に述べる如くきわめて安定的な工業的使用法
が可能である。そして上記特定にか）る本発明の無水フ
タル酸製造用触媒において特徴的な点は実質的に０．４
〜０．７ミクロン、好ましくは０．４５〜０．６０ミク
ロンの平均直径よりなり、かつ比表面積が１０〜６０枕
／夕、好ましくは１５〜４０〆／夕の多孔性アナターゼ
型酸化チタンを使用することであるＭ この多孔性アナ
ターゼ型酸化チタンは「溶液法」として知られる方法で
製造されるもので多孔性でありながら機械的強度は高く
、通常のボールミル等の機械的粉砕ではつぶれず、その
限り「一次粒子」と見倣しうるほどの強度を有する。

溶液法による酸化チタンは、ィルメナィト（ＦｅＯＴｊ
０２）を硫酸で処理して製造されるが、固化法による酸
化チタンの精造にくらべ濃度の低い硫酸（すなわち通常
は７０〜８０％といわれる）で処理され、加水分解も１
５０００近辺で加圧下に処理され、焼成されて製造され
る。

えられる酸化チタンは多孔・性の大きな粒径のもので、
しかも表面積の大きいものである。つぎにこ〉で用いら
れる多孔性担体とは酸化アルミニウム（ＡＩ２０３）が
１０重量％以下、好ましくは５重量％以下でありシリコ
ンカーバィド（ＳＩＣ）含量が８の重量％以上、好まし
くは９５重量％以上よりなり、、かつ見掛け気孔率（以
下、気孔率と略記）が１０％以上、好ましくは１５〜４
５％の担体である。

この代表的な担体として純度９８％以上のＳＩＣの粉末
を自焼結し、気孔率を１５〜４０％に調製したものが挙
げられる。担体の形状はその大きさが２〜１５肌の径で
あればどのようなものでもよいが、球状もしくは円柱状
のものが取扱い上好適である。触媒活性物質を担体に担
特せしめる方法はとくに限定しないが外部より加熱でき
る回転ドラムに一定量の担体を入れ、２００〜３００ｑ
０に保ちつつ触媒活性物質を含有する液状物（スラリー
）を曙霧し活性物質を担特せしめる方法が最も簡便であ
る。

この際活性物質の担体に対する担持量は使用する担体の
大きさによって異るが１５〜２００ｃｃ活性物質／１０
０ｃｃ−担体（ただし１５タ活性物質／１００ｃｃ−担
体は除く）が好適である。なお、完成触媒に前記した如
き物性、すなわち触媒活性物質の担持層の１０ミクロン
以下の直径を有する紬孔による紬孔容積の５０％以上、
とくに７５％以上が０．１〜０．４５ミクロンの紬孔の
細孔容積よりなる物性を具有するためには多孔性アナタ
ーゼ型酸化チタンの本質的な一次粒子の大きさによって
特公昭４９−４１０３６号公報明細書記載と同様にスラ
リー濃度を調整する必要がある。本発明触媒に用いる実
質的に０．４〜０．７ミクロンの大きな粒子径をもち、
それにも拘らず１０〜６０の／夕の高い比表面積を有す
る多孔性アナターゼ型酸化チタンは本質的には小さな径
をもつ一次粒子の会合体でありその微視的な個々の粒子
径は水銀圧入式ポロシメータで測定可能である。従って
一次粒子が０．００５〜０．０５ミクロンの径よりなる
ものと測定された多孔性アナターゼ型酸化チタンを使用
する場合はスラリ−濃度を５〜２５重量％、好ましくは
１０〜２０重量％に、一次粒子が０．０５ミクロンより
大きい径よりなるものと測定された多孔性アナターゼ型
酸化チタンを使用する場合はスラリー濃度を１０〜４広
重量％、好ましくは１５〜２５重量％に調整する必要が
ある。このようにして得られた担持組成物は４００〜７
００℃の温度に空気流通下２〜１畑時間焼成して完成触
媒となる。

なお、酸化チタンはその原鉱石の関係で、鉄、亜鉛、ア
ルミニウム、マンガン、クロム、カルシウム、鉛等が混
入する場合があるが酸化チタン（Ｔｉ０２）に対して酸
化物として０．５重量％以下であれば触媒性能上とくに
支障はない。

一方、Ｖ２４、ＮＱ０５、Ｐ２０５、Ｋ２０、ＣＳ２０
、ＲＱ０、Ｔ１２０で示される各成分はそれらの酸化物
に限らず、それら各金属のアンモニウム塩、硝酸塩、硫
酸塩、ハロゲン化物、有機酸塩、水酸化物など加熱によ
って上記の如き酸化物に変化する物質から適当に選ぶこ
とができる。

本発明において触媒活性物質中に添加されるアンチモン
源としては、三酸化アンチモン（ＳＱ０３）をはじめ、
焼成することにより酸化物を形成しうるものであればい
ずれでもよいし、またバナジウムとアンチモンとをあら
かじめ反応させてえられるバナジン酸アンチモン（Ｓｂ
Ｖ０４）を用いることも好ましい結果を与える。

本発明触媒はオルトキシレンおよびナフタリン、最も好
適にはオルトキシレンの接触気相酸化による無水フタル
酸の製造に使用される。

この場合、触媒を内径１５〜４０側、好ましくは１５〜
２７側の管に１〜５メートル、好ましくは１．５〜３メ
ートルの高さに充填し、管は熱媒体によって２５０〜３
５０００、とくに２７０〜３３０００の温度に保持され
る。

これに原料のオルトキシレンまたはナフタリンを酸化剤
として空気または５〜２１容量％の分子状酸素を含有す
るガスとともに濃度５〜６０夕−原料／ＮＭ３−空気ま
たは５〜１１０夕−原料／ＮＭ３−分子状酸素含有ガス
、空間速度１０００〜６０００ｈｒ‐１（ＳＴＰ）、と
くに１０００〜４０００ｈｒ−１（ＳＴＰ）で導通させ
る。本発明触媒のさりこ有利な使用方法は管中でのガス
流れ方向に沿って管入口側より管出口側にかけて、上述
した如く、アンチモン舎量を変化させることにより触媒
の活性をコントロールし、オルトキシレンやナフタリン
を上述の如き条件の下で酸化せしめる方法である。

具体的には、全触媒層高のうち、ガス入口側より３０〜
７０％の層高にＶ２０５１〜２０重量部、および前記物
性を有するアナターゼ型Ｔｉ０２９９〜８０重量部、お
よびこれら両成分の合計１００に対して０．０１〜１重
量部のＮｂ２０５、０．０５〜１．２重量部のＰ２０５
、０．０５〜１．２重量部のＫ２０、Ｃｓ２０、Ｒｂ２
０、ｎ２０よりなる群からより選ばれた少なくとも１成
分、および２〜１の重量部のＳｂ２０３よりなる活性物
質をアルミニウム化合物がＡＩ２０３として１Ｑ重量％
下、好ましくは５重量％以下、ＳＩＣ含量が８の重量％
以上、好ましくは９５重量％以上よりなり、気孔率が１
０％以上の多孔性担体に担特せしめてよりなる触媒（前
段触媒）を、またガス出口側の残部７０〜３０％の層高
には前記前段触媒においてＮｂ２Ｑのみを０．５〜２．
０重量部と変化させ、前段触媒よりもより高活性にした
触媒（後段触媒）を積層に充填し反応を行なわしめる。

た）、し、前述の前および後段触媒におけるＮＱ０５の
添加量関係内において触媒層を２層以上に区切ることも
可能である。このような積層触媒の採用によって触媒層
におけるホットスポット部の温度の高さがほ）、３８０
００以下まで抑えられ、無水フタル酸収率は１１り重量
％の水準が維持される。

実施例 １ ィルメナィトに８０％の濃硫酸を混合し、十分反応を行
なわしめたのち、水で希釈し硫酸チタン水溶液とした。

これに還元剤として鉄片を加え、ィルメナィト中の鉄分
を第１鉄イオンに還元し、しかるのち冷却して硫酸第１
鉄として析出分離した。このようにしてえられた硫酸チ
タン水溶液に１５００のこ加熱された水蒸気を吹き込み
含水酸化チタンを沈殿させた。これを水洗、酸洗および
二次水洗したのち、８００００の温度で空気流通下４時
間焼成した。これをジェット気流粉砕処理し、平均粒子
蚤約０．５ミクロンでＢＥＴ法比表面積２０で／夕の多
孔性アナターゼ型Ｔｊ０２をえた。脱イオン水６４００
ｃｃに修酸２００夕を溶解させ修酸水溶液とし、そこへ
メタバナジン酸アンモニウム７１．６１夕、第一リン酸
のアンモニウム６．０２夕、塩化ニオブ１８．８６夕、
硫酸セシウム９．５３夕および三酸化アンチモン４６．
３９夕を添加し十分櫨拝した。

このようにしてえられた溶液に上記Ｔｉ０２１８００夕
を加え、乳化機により礎拝して触媒スラリ−液を調製し
た。外部より加熱できる直径３５ｃｍ、長さ８０肌のス
テンレス製回転炉中に直径５柳、気孔率３５％のＳＩＣ
目焼給担体２０００ｃｃを入れ、２００〜２５０００に
子熱しておき、炉を回転させなから担体上に上記触媒ス
ラリー液を噴露して触媒活性物質を３０．０夕／１００
ｃｃ−担体の割合で担持させた。ついで空気を流通させ
ながら電気炉中で５００００の温度にて６時間焼成した
。このようにしてえられた触媒の恒持物質の組成は、Ｖ
２〇５：Ｔｊ〇２：Ｐ２〇５：ＮＱＱ。

：ＣＳ２〇：ＳＱ〇３＝３：９７：０．２：０．５：０
．４：２．５（重量比）であった。また、調製された触
媒について水銀圧入式ポロシメーターで紬孔分布の測定
を行なったところ０．１５〜０．４５ミクロンの細孔の
占める紐孔容積が１０ミクロン以下の全細孔容積の８５
％であった（以下、これを“０．１５〜０．４５ミクロ
ンの細孔容積が８５％”のように略記する）。この触媒
を前段触媒とする。一方、後段触媒は三酸化アンチモン
の添加量を１８．５６夕とした以外は上記前段触媒と同
様にして調製した。

えられた触媒の担持物質の組成は、Ｖ２４：Ｔｉ０２：
Ｐ２Ｑ。：Ｎｂ２４：Ｃｓ２０：Ｓｂ２０３：３：９７
：０．２：０．５：０．４：１（重量比）であり、０．
１５〜０．４５ミクロンの紬孔容積は８７％であった。
３１３００の温度（以下、Ｎ．Ｔ．と略記する）に保た
れた溶融塩浴中にひたされた内径２仇奴、長さ３メート
ルの鉄製反応管に先ず後段触媒を１．２５メートルの高
さ‘こ充填し、次いで前段触媒を１．２５メートルの高
さに充填し、反応管上部よりオルトキシレンを酸素１畔
容量％、水１庇容量％、および８庇容量％の窒素よりな
る合成ガスに対して８３夕／ＮＭ３−合成ガスの割合で
混合せしめたガスを空間速度（以下、Ｓ．Ｖ．と略記す
る）２０００ｈｒ‐１（ＳＴＰ）でオルトキシレンを接
触酸化せしめると初期において無水フタル酸は１１８．
５重量％の収率でえられ、約１８０日経過後には最適Ｎ
．Ｔは３１０００で安定し、無水フタル収率は１１８．
母重量％と若干増大した。実施例 ２実施例１記載の前
段および後段触媒の調製法において担体として直径４柳
、気孔率３５％のＳＩＣ目嘘結品を用いた以外同じよう
にして次のような触媒を調製しそれぞれ６ケ月間触媒活
性の変化の様子について調べた。

桃 船 雌 船 トＱ 樹 し 溝 ヤ 峠 Ｓ 総 血 ト ら Ｍ キ 滋 中 ト 鞭 息 Ｒ り 鰭 器 鍵 ｇ 甘 Ｚ 実施例 ３ 脱イオン水２０００ｃｃに確酸２５０夕を溶解させ蔭酸
溶液としそこへメタバナジン酸アンモニウム１１７＃を
加えて溶解さす。

かくしてえられた水溶液に三酸化アンチモン１４６夕を
加え、充分に混合し蒸発乾固した。その後７００℃で焼
成し固形物をえた。このものはＸ線回折分析の結果２８
＝２７．４ｏ一 にメインピークがあり、ｌｎｏｒ舞ｎ
ｉｃ Ｉｎｄｅｘ ○ｆｍｅＰｏｗｄｅｒＤｉｆｆｒａ
ｃｔｉｏｎＦｉｌｅ（１９７０）の同定によりＳｂＶ０
４（ＡｎｔｉｍｏｎｙＶａｎａｄｉｕｍ○ｋｉｄｅ）で
あることが判明している。脱イオン水６４００ｃｃに第
一リン酸アンモニウム６．０２夕、塩化ニオブ１８．８
６夕、硫酸セシウム７．１５夕を添加し十分鷹拝した。

このようにしてえられた溶液に上記バナジン酸アンチモ
ン１４４．９７夕、実施例１の方法でえられたＴｉ０２
１８００夕を加え乳化機により鷹拝して触媒スラリー液
を調製した。外部より加熱できるステンレス製回転炉に
直径３柳、気孔率３５％のＳＩＣ目焼結担体２０００ｃ
ｃを入れ担体上に上記スラリー液を贋露して触媒活性物
質を５０夕／１００ｃｃ−担体の割合で担持させた。つ
いで空気流通下電気炉中で５００Ｃ０の温度で３時間焼
成した。このようにしてえられた触媒の担持物質の組成
はＶ２０５：Ｔｉ０２：ＮＱ０５：Ｐ２０５：Ｃｓ２０
：ＳＱ０３＝３：９７：０．５：０．２：０．３：４．
母重量比である（但し、厳密にはＴｉ０２：Ｎｂ２Ｑ：
Ｐ２０５：Ｃｓ２０：ＳｂＶ０４＝１００：０．５２：
０．２１：０．３１：８．０５重量比）。また調製され
た触媒の０．１５〜０．４５山の細孔容積は８４％であ
った。この触媒を前段触媒とした。一方、後段触媒は脱
イオン水６４００ｃｃに修酸を１４０タ溶解して修酸溶
液とし、そこへメタバナジ＊＊ン酸アンモニウムを５６
．６８夕、第１リン酸アンモニウム１２．０４２、塩化
ニオブ１８．８６夕、硫酸セシウム７．１５夕を添加し
充分溶解させた。このようにしてえられた溶液に前段触
媒調製時に使用したバナジン酸アンチモンを３０．２１
夕および実施例１に於いて使用したのと同じＴｉ０２１
８００夕を加え、乳化器により櫨拝して触媒スラリー液
を調製し前段と同様の坦体に同機の方法で５０夕／１０
０ｃｃ担体の割合で担持させた。触媒の焼成は５００℃
で３時間行った。このようにしてえられた触媒の担持物
質の組成はＶ２０５：Ｔｉ０２：Ｎｂ２０５：Ｐ２Ｑ：
Ｃｓ２０：ＳＱ０３＝３：９７：０．５：０．４ミ０．
３：１．の重量比であった（但し、厳密にはＶ２Ｑ−Ｔ
ｊ０２−Ｎｂ２０３−Ｐ２０５−Ｃｓ２０−ＳｂＶ０４
＝２．４：９７．６：０．５：０．４：０．３：１．６
重量比となる。）。こうしてえられた後段触媒の０．１
５〜０．４ミクロンの紬孔類積は８５％であった。３０
５００の温度に保たれた溶融塩浴中にひたされた内径２
仇吻、長さ３メートルの鉄製反応管に先ず後段触媒を１
．２メートルの高さに充填し、次いで前段触媒を１．３
メートルの高さに充填した。

反応管上部よりオルトキシレンを酸素１舷容量％、水１
０容量％および８坪容量％の窒素よりなる合成ガスに対
して８５夕／ＮＭ３−合成ガスの割合で混合せしめたガ
スを空間速度（Ｓ．Ｖ．）２０００ｈｒｌ（ＳＴＰ）で
オルトキシレンを接触酸化せしめると初期において無水
フタル酸は１１７．４重量％の収率でえられ、約１５０
日経過後には最適熔融塩温度は３０を０で安定し無水フ
タル酸収率は１１７．母重量％となった。実施例 ４実
施例１記載の調製法と同様な方法で次の２種の触媒をえ
た。

第３表 ３２０００の温度に保たれた熔融塩浴中にひたされた内
径２５肌、長さ３メートルの鉄製反応管に先ず後段触媒
を１．１メートルの高さに充填し、次いで前段触媒を１
．４メートルの高さに充填した。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ オルトキシレンまたはナフタリンを分子状酸素によ
   り接触気相酸化して無水フタル酸を製造するための触媒
   において、酸化バナジウムがＶ＿２Ｏ＿５として１〜５
   重量部、および実質的に０．４〜０．７ミクロンの平均
   直径よりなり、かつ比表面積が１０〜６０ｍ＾２／ｇの
   多孔性アナターゼ型酸化チタンがＴｉＯ＿２として９９
   〜８０重量部、さらにこれら２成分の合計１００に対し
   て、ニオブがＮｂ＿２Ｏ＿５として０．０１〜１重量部
   、カリウム、セシウム、ルビジウムおよびタリウムより
   なる群から選ばれた少くとも１成分が酸化物として０．
   ０５〜１．２重量部、リンがＰ＿２Ｏ＿５として０．０
   ５〜１．２重量部、およびアンチモンがＳｂ＿２Ｏ＿３
   として０．５〜１０重量部含有してなる触媒活性物質を
   多孔性担体に１５〜２００ｇ／１００ｃｃ担体（ただし
   １５ｇ／１００ｃｃ担体は除く）担持せしめてなること
   を特徴とする無水フタル酸製造用触媒。