JPS6093758U - スパツタ装置における基板ホルダ−の位置可変機構 - Google Patents
スパツタ装置における基板ホルダ−の位置可変機構Info
- Publication number
- JPS6093758U JPS6093758U JP18579783U JP18579783U JPS6093758U JP S6093758 U JPS6093758 U JP S6093758U JP 18579783 U JP18579783 U JP 18579783U JP 18579783 U JP18579783 U JP 18579783U JP S6093758 U JPS6093758 U JP S6093758U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate holder
- rod
- variable position
- position mechanism
- sputtering equipment
- Prior art date
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は従来のカーセル型スパッタ装置を一部省略して
示す斜視図、第２図はこの考案に係るスパッタ装置にお
ける基板ホルダーの位置可変機構を示す平面図、第３図
は同上実施例における要部を取り出して示す斜視図、第
４図〜第６図は基板上における軸方向の膜厚分布を示す
曲線図で、第４図および第５図は従来装置による膜厚分
布、第６図は第２図の実施例による膜厚分布を示すもの
である。 １ａ〜１ｄ：基板ホルダー、２：基板、３：ターゲット
、６ａ〜６ｄ：ロッド、７：支持枠、９ａ〜９ｄ：ギヤ
、１１：チェーン、１２：駆動ギヤ、１４：溝付アーム
、１４ａ：溝、１５：ピン、Ｕ：回動・直線運動変換手
段。
示す斜視図、第２図はこの考案に係るスパッタ装置にお
ける基板ホルダーの位置可変機構を示す平面図、第３図
は同上実施例における要部を取り出して示す斜視図、第
４図〜第６図は基板上における軸方向の膜厚分布を示す
曲線図で、第４図および第５図は従来装置による膜厚分
布、第６図は第２図の実施例による膜厚分布を示すもの
である。 １ａ〜１ｄ：基板ホルダー、２：基板、３：ターゲット
、６ａ〜６ｄ：ロッド、７：支持枠、９ａ〜９ｄ：ギヤ
、１１：チェーン、１２：駆動ギヤ、１４：溝付アーム
、１４ａ：溝、１５：ピン、Ｕ：回動・直線運動変換手
段。
Claims (1)
- 基板ホルダーの背面にロッドを垂設し、該ロッドを支持
枠に移動自在に支持させ、回動運動を前記ロッドの直線
移動運動に変換する回動・直線運動変換手段を配設し、
当該ロッドを移動させることにより前記基板ホルダーの
位置を可変することを特徴とするスパッタ装置における
基板ホルダーの位置可変機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18579783U JPS6093758U (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | スパツタ装置における基板ホルダ−の位置可変機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18579783U JPS6093758U (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | スパツタ装置における基板ホルダ−の位置可変機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6093758U true JPS6093758U (ja) | 1985-06-26 |
Family
ID=30401492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18579783U Pending JPS6093758U (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | スパツタ装置における基板ホルダ−の位置可変機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6093758U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023036155A (ja) * | 2021-09-02 | 2023-03-14 | キヤノンアネルバ株式会社 | 真空処理装置 |
-
1983
- 1983-12-02 JP JP18579783U patent/JPS6093758U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023036155A (ja) * | 2021-09-02 | 2023-03-14 | キヤノンアネルバ株式会社 | 真空処理装置 |
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