JPS6097359A - 投影形露光装置 - Google Patents
投影形露光装置Info
- Publication number
- JPS6097359A JPS6097359A JP58205518A JP20551883A JPS6097359A JP S6097359 A JPS6097359 A JP S6097359A JP 58205518 A JP58205518 A JP 58205518A JP 20551883 A JP20551883 A JP 20551883A JP S6097359 A JPS6097359 A JP S6097359A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- piezoelectric body
- error
- trapezoidal
- projection type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holders For Sensitive Materials And Originals (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野〕
本発明は、投影形露光装置に１３１６゜〔発明の技術的
背景〕 従来、半導体基板やフォトマスク基板上に所定のパター
ンを転写するために投影形露光装置が使用されている。
背景〕 従来、半導体基板やフォトマスク基板上に所定のパター
ンを転写するために投影形露光装置が使用されている。
而して、この装置のレチクル設置台に所定のレチクルを
設置し、光源からの光をコンデンサレンズを介してレチ
クルに透過させ、この光を投影レンズで集光して移動台
上の半導体基板等に照射することによりパターンの形成
を行なっている。
設置し、光源からの光をコンデンサレンズを介してレチ
クルに透過させ、この光を投影レンズで集光して移動台
上の半導体基板等に照射することによりパターンの形成
を行なっている。
（背景技術の問題点）
しかしながら、従来の投影形露光装置では、レチクルの
設置位置の調整は平面的にしかできなかった。このため
次のような問題があった。その一つは倍率誤差といわれ
るものである。すなわち、第１図に示す如く、レチクル
面の位置が上下に変位していると結像面での像の歪が発
生し、第１図に示す如く本来の像１よりも小さい像２や
大きい像３ができてしまう。その２は、台形誤差と言わ
れるものである。これはレチクル面が傾いている場合に
発生するものであり、第２図に示す如く、本来の像に比
べて台形状に変形した像４ができる。
設置位置の調整は平面的にしかできなかった。このため
次のような問題があった。その一つは倍率誤差といわれ
るものである。すなわち、第１図に示す如く、レチクル
面の位置が上下に変位していると結像面での像の歪が発
生し、第１図に示す如く本来の像１よりも小さい像２や
大きい像３ができてしまう。その２は、台形誤差と言わ
れるものである。これはレチクル面が傾いている場合に
発生するものであり、第２図に示す如く、本来の像に比
べて台形状に変形した像４ができる。
このような問題を解消するために、レチクルとレチクル
設置台との間にスペーサーを介在してレチクルの上下方
向の設定位置を調節することが行なわれている。このよ
うな手段によるものでは、調節作業に長時間を要すると
共に、調節はスペーサーの厚さ分しかできないため、前
述の問題を完全には解消できなかった。なお、これらの
誤差は、サブミクロンから数ミクロンオーダーのもので
ある。
設置台との間にスペーサーを介在してレチクルの上下方
向の設定位置を調節することが行なわれている。このよ
うな手段によるものでは、調節作業に長時間を要すると
共に、調節はスペーサーの厚さ分しかできないため、前
述の問題を完全には解消できなかった。なお、これらの
誤差は、サブミクロンから数ミクロンオーダーのもので
ある。
本発明は、倍率誤差および台形誤差の発生を阻止して、
所定のパターンを極めて高い形状精度で形成することが
できる投影形露光装置を提供づることをその目的とする
もので゛ある。
所定のパターンを極めて高い形状精度で形成することが
できる投影形露光装置を提供づることをその目的とする
もので゛ある。
本発明は、レチクル設置台のレチクル支持部に通電作用
によって伸縮する圧電体を設【ノたことにより、倍率誤
差、台形誤差の発生を完全に阻止して所定のパターンを
極めて高い形状精度で容易に形成できる投影形露光装置
である。
によって伸縮する圧電体を設【ノたことにより、倍率誤
差、台形誤差の発生を完全に阻止して所定のパターンを
極めて高い形状精度で容易に形成できる投影形露光装置
である。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第３図は、本発明の一実施例の概略構成を示づ説明図で
ある。図中１０は、半導体基板１１やマスク基板等の被
処理体が設置される移動台である。
ある。図中１０は、半導体基板１１やマスク基板等の被
処理体が設置される移動台である。
移動台１０の上方には、これと対向して所定間隔を設け
て投影レンズ１２が設置されている。投影レンズ１２の
上方には、レチクル設置台１３を介してコンデンサレン
ズ１４が設置されている。コンデンサレンズ１４の上方
には、光源１５が設りられている。レチクル設置台１３
のレチクル支持部１６には、圧電体１７が取イ１けられ
ている。圧電体１７には、図示しない電源部から所定の
電場がかけられるようになっている。圧電体１７は、例
えば、水晶、セレン、硫化力ドミュムなどの圧電効果を
示す材該で形成されている。電圧体１７の大きさは１１
節するレチクル１８の上下の移動量に応じて適宜設定す
るのが望ましい。また、圧電体１７の設置箇所は、レチ
クル１８の垂直方向の位置調整を行ってレチクル１８を
所定の水平状態に設置できるように、少くとも３箇所設
けるのが望ましい。
て投影レンズ１２が設置されている。投影レンズ１２の
上方には、レチクル設置台１３を介してコンデンサレン
ズ１４が設置されている。コンデンサレンズ１４の上方
には、光源１５が設りられている。レチクル設置台１３
のレチクル支持部１６には、圧電体１７が取イ１けられ
ている。圧電体１７には、図示しない電源部から所定の
電場がかけられるようになっている。圧電体１７は、例
えば、水晶、セレン、硫化力ドミュムなどの圧電効果を
示す材該で形成されている。電圧体１７の大きさは１１
節するレチクル１８の上下の移動量に応じて適宜設定す
るのが望ましい。また、圧電体１７の設置箇所は、レチ
クル１８の垂直方向の位置調整を行ってレチクル１８を
所定の水平状態に設置できるように、少くとも３箇所設
けるのが望ましい。
このように構成された投影形露光装置２０によれば、第
４図に示す如く、圧電体１７に所定の通電を施すことに
よりこれを自在に伸縮することができる。なお、同図中
１７ａは、電圧体１７の伸びた領域を示す。その結果、
レチクル設置台１３上のレチクル１８を常に所定の水平
度に保つことができる。このため、倍率誤差や台形誤差
の発生を阻止して所定のパターンを被処理体である半導
体基板１１等に高い形状精度で容易に形成することがで
きる。
４図に示す如く、圧電体１７に所定の通電を施すことに
よりこれを自在に伸縮することができる。なお、同図中
１７ａは、電圧体１７の伸びた領域を示す。その結果、
レチクル設置台１３上のレチクル１８を常に所定の水平
度に保つことができる。このため、倍率誤差や台形誤差
の発生を阻止して所定のパターンを被処理体である半導
体基板１１等に高い形状精度で容易に形成することがで
きる。
以上説明した如く、本発明に係る投影形露光装置によれ
ば、倍率誤差や台形誤差の発生を阻止して所定のパター
ンを半導体基板等に高い形状精度で容易に形成できるも
のである。
ば、倍率誤差や台形誤差の発生を阻止して所定のパター
ンを半導体基板等に高い形状精度で容易に形成できるも
のである。
第１図は、従来の投影形露光装置で投影した際に倍率誤
差が発生している状態を示す説明図、第２図は、同装置
にて投影した際に台形誤差が発生している状態を示す説
明図、第３図は、本発明の一実施例の概略構成を示す説
明図、第４図は、圧電体の伸びた状態を示す説明図であ
る。 １０・・・移動台、１１・・・半導体基板、１２・・・
投影レンズ、１３・・・レチクル設置台、１４・・・コ
ンデンサレンズ、１５・・・光源、１６・・・レチクル
、１７・・・圧電体、２０・・・投影形露光装置。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第３図 第２図 ム 第４ｒｙＪ ８
差が発生している状態を示す説明図、第２図は、同装置
にて投影した際に台形誤差が発生している状態を示す説
明図、第３図は、本発明の一実施例の概略構成を示す説
明図、第４図は、圧電体の伸びた状態を示す説明図であ
る。 １０・・・移動台、１１・・・半導体基板、１２・・・
投影レンズ、１３・・・レチクル設置台、１４・・・コ
ンデンサレンズ、１５・・・光源、１６・・・レチクル
、１７・・・圧電体、２０・・・投影形露光装置。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第３図 第２図 ム 第４ｒｙＪ ８
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被処理体が設置される移動台と、該移動台に対向して設
置された光源と、該光源と前記移動台間に設置された投
影レンズと、該投影レンズと前記光源間に設置されたコ
ンデンサレンズと、該コンデンサレンズと前記投影レン
ズ間に設置されたレチクル設置台と、該レチクル設置台
のレチクル支持部に取付【Ｊられた圧電体とを具備する
ことを特徴ジる投影形露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58205518A JPS6097359A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 投影形露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58205518A JPS6097359A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 投影形露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6097359A true JPS6097359A (ja) | 1985-05-31 |
Family
ID=16508198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58205518A Pending JPS6097359A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 投影形露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6097359A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62139330A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-23 | Toshiba Mach Co Ltd | 被処理材の固定方法および装置 |
| JPH0638541U (ja) * | 1992-11-06 | 1994-05-24 | 勝男 榎本 | ソニックシンカー |
| JPH0661076U (ja) * | 1993-02-12 | 1994-08-30 | 勝男 榎本 | ブラスフットボールヘッド |
| JPH0982606A (ja) * | 1995-09-13 | 1997-03-28 | Nikon Corp | レチクルホルダ |
-
1983
- 1983-11-01 JP JP58205518A patent/JPS6097359A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62139330A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-23 | Toshiba Mach Co Ltd | 被処理材の固定方法および装置 |
| JPH0638541U (ja) * | 1992-11-06 | 1994-05-24 | 勝男 榎本 | ソニックシンカー |
| JPH0661076U (ja) * | 1993-02-12 | 1994-08-30 | 勝男 榎本 | ブラスフットボールヘッド |
| JPH0982606A (ja) * | 1995-09-13 | 1997-03-28 | Nikon Corp | レチクルホルダ |
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