JPS6097581A - 遠赤外線輻射加熱方法 - Google Patents
遠赤外線輻射加熱方法Info
- Publication number
- JPS6097581A JPS6097581A JP20488183A JP20488183A JPS6097581A JP S6097581 A JPS6097581 A JP S6097581A JP 20488183 A JP20488183 A JP 20488183A JP 20488183 A JP20488183 A JP 20488183A JP S6097581 A JPS6097581 A JP S6097581A
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- JP
- Japan
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- radiant
- far
- enamel
- infrared
- heated
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- Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、エナメル線の焼付等のエナメル加熱の際、エ
ナメル質材料の被覆物の近傍に設けられた遠赤外線輻射
材を加熱用熱源によシ加熱して、尚該輻射相より遠赤外
線等を輻射せしめ尚該エナメル質材料を加熱する遠赤外
線輻射加熱方法に閾する。
ナメル質材料の被覆物の近傍に設けられた遠赤外線輻射
材を加熱用熱源によシ加熱して、尚該輻射相より遠赤外
線等を輻射せしめ尚該エナメル質材料を加熱する遠赤外
線輻射加熱方法に閾する。
〈従来技術の背景とその問題点〉
本発明者等が既に提案してｈるように、エナメル線の焼
付において、焼付炉内を通過するエナメル線の周りに遠
赤外線輻射体を設置すれば、炉の熱源による直接加熱（
対流）の他に、輻射体よりの遠赤外線輻射加熱も加わる
ため、熱源を新たに増大させなくとも、焼付の高速化を
図ることができる。すなわち、遠赤外線輻射を増大させ
れば、エナメル質材料の加熱をより効果的なものにする
ことができる。遠赤外線輻射によって最も効率的にエナ
メル質材料を加熱するＶＣは、理論的にはエナメル質材
料の吸光波長特性に最も対応した輻射波長特性ｔ−１す
る輻射材を選定すべきと考えられるが、具体的にエナメ
ル線の焼付などに２いて如何なるものを選定すべきか問
題となる。
付において、焼付炉内を通過するエナメル線の周りに遠
赤外線輻射体を設置すれば、炉の熱源による直接加熱（
対流）の他に、輻射体よりの遠赤外線輻射加熱も加わる
ため、熱源を新たに増大させなくとも、焼付の高速化を
図ることができる。すなわち、遠赤外線輻射を増大させ
れば、エナメル質材料の加熱をより効果的なものにする
ことができる。遠赤外線輻射によって最も効率的にエナ
メル質材料を加熱するＶＣは、理論的にはエナメル質材
料の吸光波長特性に最も対応した輻射波長特性ｔ−１す
る輻射材を選定すべきと考えられるが、具体的にエナメ
ル線の焼付などに２いて如何なるものを選定すべきか問
題となる。
本発明者等は、この点を検討すべく、各種の輻射材につ
きその輻射加熱効果の大小を比較してみることとした。
きその輻射加熱効果の大小を比較してみることとした。
具体的に杜、第１図に示すように、ポリエステル系エナ
メル質材料１を銅基板２に被覆してなるエナメル板３に
対向するように輻射板４を設置し、該輻射板４を同一条
件で加熱し、輻射板４よりの輻射により加熱されるエナ
メル板３の上昇温度をこれに接続した温度測定装置５で
測定した。
メル質材料１を銅基板２に被覆してなるエナメル板３に
対向するように輻射板４を設置し、該輻射板４を同一条
件で加熱し、輻射板４よりの輻射により加熱されるエナ
メル板３の上昇温度をこれに接続した温度測定装置５で
測定した。
第２図は、その結果を示す。曲線イ〜へは、輻射板４に
それぞれ、酸化クロム板（Ｏｒ２０３９８％）、二酸化
チタン板（Ｔｉ０２９９ ％ ）、アルミナ板（Ａ１２
０５９８ ’ｌｙ ）、ジルコン酸マグネシウム板（Ｚ
ｒ０２７６％、Ｍｇｏ２４％）、ジルコニア板（Ｚｒ、
０２９３％、０ａ０５％、Ａｌ２Ｏ５，５１０２少Ｊｔ
）、ステｙｖス板（ＳＵ８３０４酸化膜）を用いた場合
を示す。そして、同図から理解式れるように、エナメル
質材料への輻射加熱効果は、酸化クロムを主成分とする
輻射材を使用した場合が最も僅、＜、次いで二酸化チタ
ンを主成分とする輻射材を使用した場合が高く、その次
にアルミナを主成分とする輻射材を使用した場合が高い
ことを見い出した。
それぞれ、酸化クロム板（Ｏｒ２０３９８％）、二酸化
チタン板（Ｔｉ０２９９ ％ ）、アルミナ板（Ａ１２
０５９８ ’ｌｙ ）、ジルコン酸マグネシウム板（Ｚ
ｒ０２７６％、Ｍｇｏ２４％）、ジルコニア板（Ｚｒ、
０２９３％、０ａ０５％、Ａｌ２Ｏ５，５１０２少Ｊｔ
）、ステｙｖス板（ＳＵ８３０４酸化膜）を用いた場合
を示す。そして、同図から理解式れるように、エナメル
質材料への輻射加熱効果は、酸化クロムを主成分とする
輻射材を使用した場合が最も僅、＜、次いで二酸化チタ
ンを主成分とする輻射材を使用した場合が高く、その次
にアルミナを主成分とする輻射材を使用した場合が高い
ことを見い出した。
しかしながら、酸化クロムや二酸化チタンは、５４０℃
付近に変態点をもつため、変態点を超える温度［１で加
熱して使用すれば、脆弱になって変形や損壊する處れが
あり、耐熱耐久性に限界がある。
付近に変態点をもつため、変態点を超える温度［１で加
熱して使用すれば、脆弱になって変形や損壊する處れが
あり、耐熱耐久性に限界がある。
これに対し、アルミナは、輻射加熱効率の面で酸化クロ
ムや二酸化チタンのそれより劣るものの、低温域から高
温域にわたって（１ｏｏｏ’ｃ程度゛まで）物理的にも
化学的にも安定であす、側熱耐久性に優れている。
ムや二酸化チタンのそれより劣るものの、低温域から高
温域にわたって（１ｏｏｏ’ｃ程度゛まで）物理的にも
化学的にも安定であす、側熱耐久性に優れている。
〈発明の目的〉
本発明は、上記の事情を考慮してなされたもので、その
目的とするところは、エナメル質材料の加熱に２いて、
遠赤外純輻射材の加熱使用温度に応じ次最適の遠赤外線
輻射加熱方法を提供することにある。
目的とするところは、エナメル質材料の加熱に２いて、
遠赤外純輻射材の加熱使用温度に応じ次最適の遠赤外線
輻射加熱方法を提供することにある。
〈発明の概要〉
本発明に係る遠赤外線輻射加熱方法は、エナメル加熱の
際、エナメル質拐料の被覆物近傍の遠赤外純輻射材を加
熱して該輻射材より遠赤外線を輻射せしめ当該エナメル
質材料を加熱するに寂いて、前記遠赤外線輻射材が５４
０℃以下の温度領域で加熱使用されるときには、該輻射
材は酸化クロムまたは二酸化チタンを主成分とするもの
を用い、前記遠赤外線輻射材が５４０℃を超える温度領
域で加熱使用されるときＫは、該輻射材はアルミナを主
成分とするものを用いることを特徴とするものである。
際、エナメル質拐料の被覆物近傍の遠赤外純輻射材を加
熱して該輻射材より遠赤外線を輻射せしめ当該エナメル
質材料を加熱するに寂いて、前記遠赤外線輻射材が５４
０℃以下の温度領域で加熱使用されるときには、該輻射
材は酸化クロムまたは二酸化チタンを主成分とするもの
を用い、前記遠赤外線輻射材が５４０℃を超える温度領
域で加熱使用されるときＫは、該輻射材はアルミナを主
成分とするものを用いることを特徴とするものである。
酸化クロムや二酸化チタンを主成分とする遠赤外線輻射
材を用いれば、該輻射材を適当な熱源により加熱して遠
赤外線、赤外線等をエナメル質材料の被覆物に輻射せし
めたとき、遠赤外線がエナメル質材料内に最も効率的に
吸収辿れ、この結果エナメル質材料が最も効果的に加熱
でれる。しかも、輻射材が５４０℃以下（変態点以下）
の温度領域で加熱使用されるときには、輻射材の物理的
性質を変化させることなく遠赤外線輻射を安定して維持
することができる。
材を用いれば、該輻射材を適当な熱源により加熱して遠
赤外線、赤外線等をエナメル質材料の被覆物に輻射せし
めたとき、遠赤外線がエナメル質材料内に最も効率的に
吸収辿れ、この結果エナメル質材料が最も効果的に加熱
でれる。しかも、輻射材が５４０℃以下（変態点以下）
の温度領域で加熱使用されるときには、輻射材の物理的
性質を変化させることなく遠赤外線輻射を安定して維持
することができる。
ｔた、アルばすを主成分とする遠赤外純輻射材を用いれ
ば、加熱してエナメル質材料の被穏物に遠赤外線輻射さ
せたとき、遠赤外線がエナメル質月料内に上記酸化クロ
ムや二酸化チタンの次に効率よく吸収され、エナメル質
材料が効果的に加熱される。それのみならず、アルミナ
は低温状態では勿論のこと、１０００℃程度の高温状態
でも安定な物質である故、輻射材を高熱源によって５４
０℃を超える高温に加熱しても、母材とのサーメット複
合構造をとるとと忙より、輻射材が変形、損壊等するこ
となく遠赤外線等の輻射を（・ケ続でき、安定なエナメ
ル加熱を行なえる。
ば、加熱してエナメル質材料の被穏物に遠赤外線輻射さ
せたとき、遠赤外線がエナメル質月料内に上記酸化クロ
ムや二酸化チタンの次に効率よく吸収され、エナメル質
材料が効果的に加熱される。それのみならず、アルミナ
は低温状態では勿論のこと、１０００℃程度の高温状態
でも安定な物質である故、輻射材を高熱源によって５４
０℃を超える高温に加熱しても、母材とのサーメット複
合構造をとるとと忙より、輻射材が変形、損壊等するこ
となく遠赤外線等の輻射を（・ケ続でき、安定なエナメ
ル加熱を行なえる。
く実施例〉
以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。
第３図は、本実施例の遠赤外線輻射加熱方法を実施した
エナメル線用焼付炉の玉要部を示す。
エナメル線用焼付炉の玉要部を示す。
６は、筒型の焼付炉であり、ａ％ｂはその然発部、硬化
部を示す。Ｔは、エナメル線で、エナメル質材料塗布の
後炉６内を通って下方から上方に一向かって走行するよ
うになっている（矢印Ａ）。
部を示す。Ｔは、エナメル線で、エナメル質材料塗布の
後炉６内を通って下方から上方に一向かって走行するよ
うになっている（矢印Ａ）。
炉内部の下方には、熱源８、例えばヒータが設置され、
この熱源により、炉内の蒸発部ａ付近は４５０℃前後で
加熱し、ここから次第に上昇して硬化部すの出口付近で
は５５０℃前後になるように加熱する。９Ｂ＠・・、９
ｂ・・・は輻射板で、熱源８上方のエナメル線Ｔの周り
に複数適宜な間隔をもって設置されており、本例の場合
、５４０℃以下の温度領域であるＭ発部ａのものとして
は、酸化クロムや二酸化チタンを主成分とするものを用
い、５４０℃以上の温度領域である硬化部す付近のもの
としては、アルミナを主成分とするものを用いている。
この熱源により、炉内の蒸発部ａ付近は４５０℃前後で
加熱し、ここから次第に上昇して硬化部すの出口付近で
は５５０℃前後になるように加熱する。９Ｂ＠・・、９
ｂ・・・は輻射板で、熱源８上方のエナメル線Ｔの周り
に複数適宜な間隔をもって設置されており、本例の場合
、５４０℃以下の温度領域であるＭ発部ａのものとして
は、酸化クロムや二酸化チタンを主成分とするものを用
い、５４０℃以上の温度領域である硬化部す付近のもの
としては、アルミナを主成分とするものを用いている。
この輻射板９はより具体的には、第４図の拡大図にその
一部を示すように、ステンレス板等の母材１０のエナメ
ル線７側に１上述のアルばすあるいは酸化クロムや二酸
化チタンを主成分とする遠赤外線輻射材１１を付着せし
めてなり、熱源８により加熱されると、輻射材１１より
エナメル質材料被覆物のエナメル線１の方へ遠赤外線ｆ
：輻射し、エナメル質材料１２ｔ−加熱する。
一部を示すように、ステンレス板等の母材１０のエナメ
ル線７側に１上述のアルばすあるいは酸化クロムや二酸
化チタンを主成分とする遠赤外線輻射材１１を付着せし
めてなり、熱源８により加熱されると、輻射材１１より
エナメル質材料被覆物のエナメル線１の方へ遠赤外線ｆ
：輻射し、エナメル質材料１２ｔ−加熱する。
しかして、この炉付炉６を用いた加熱方法）（よると、
炉内を下方から上方に走行するエナメル線１は、先ず、
蒸発部ａで熱源８により、直接加熱されると共に、酸化
り四ムｉたは、二酸化チタンを主成分とする輻射材１１
を有する輻射板９ａ嗜−・からの遠赤外線によっても加
熱される。この除、酸化り日ムや二酸化チタンの場合、
その輻射特性が極めて良いため、優れた遠赤外線加熱効
果を得ることができる。
炉内を下方から上方に走行するエナメル線１は、先ず、
蒸発部ａで熱源８により、直接加熱されると共に、酸化
り四ムｉたは、二酸化チタンを主成分とする輻射材１１
を有する輻射板９ａ嗜−・からの遠赤外線によっても加
熱される。この除、酸化り日ムや二酸化チタンの場合、
その輻射特性が極めて良いため、優れた遠赤外線加熱効
果を得ることができる。
この蒸発部ａにおいては、その炉内雰囲気温度が４５０
℃前後であるため、酸化クロムや二酸化チタンの変態点
（５４０℃）以下であり、熱的に弱いとされるこれらの
輻射材１１でも十分使用に耐えられる。勿論、変形や損
傷したりすることもない。
℃前後であるため、酸化クロムや二酸化チタンの変態点
（５４０℃）以下であり、熱的に弱いとされるこれらの
輻射材１１でも十分使用に耐えられる。勿論、変形や損
傷したりすることもない。
次に、硬化部すでは、熱風で直接加熱される他、仁の熱
風加熱によって、アルミナを主成分とする輻射材１１１
！−有する輻射板９ｂ・・・からの遠赤外線によっても
加熱される。この硬化部すにおいて、加熱温度が５５０
℃前後であっても、輻射板１１は、アルミナを主成分と
するものであるため、変形、損傷等の恐れはない。
風加熱によって、アルミナを主成分とする輻射材１１１
！−有する輻射板９ｂ・・・からの遠赤外線によっても
加熱される。この硬化部すにおいて、加熱温度が５５０
℃前後であっても、輻射板１１は、アルミナを主成分と
するものであるため、変形、損傷等の恐れはない。
なお、上記実施例においては、同一炉内において、蒸発
部ａが４５０℃前後で、硬化部すが５５０℃前後で加熱
される場合のため、輻射板としてアルミナと酸化クロム
や二酸化チタンの両名を用い几ものを分けて使用しであ
るが、処理するエナメル樹脂劇料の種類、溶剤の種類、
塗布厚さ、線の走行速度、等の条件によっては、炉内の
全域が５４０℃を越えるとき、あるいは５４０℃以下で
あるときＫは、アルミナか、あるいは酸化クロムや二酸
化チタンのいずれか一方の輻射板のみを使用することも
勿論可能である。
部ａが４５０℃前後で、硬化部すが５５０℃前後で加熱
される場合のため、輻射板としてアルミナと酸化クロム
や二酸化チタンの両名を用い几ものを分けて使用しであ
るが、処理するエナメル樹脂劇料の種類、溶剤の種類、
塗布厚さ、線の走行速度、等の条件によっては、炉内の
全域が５４０℃を越えるとき、あるいは５４０℃以下で
あるときＫは、アルミナか、あるいは酸化クロムや二酸
化チタンのいずれか一方の輻射板のみを使用することも
勿論可能である。
′ｆた、本発明の遠赤外線輻射加熱方法は、エナメル線
の焼付だけでなく、エナメル質材料の塗布された自動車
部品、電気部品の乾燥など、エナメル加熱全搬に適用で
きるものである。
の焼付だけでなく、エナメル質材料の塗布された自動車
部品、電気部品の乾燥など、エナメル加熱全搬に適用で
きるものである。
〈発明の効果〉
本発明に係る遠赤外線輻射加熱方法は、以上説明したよ
うに、遠赤外線輻射材の加熱温度が５４０℃を境にして
低温域であるか高温域であるかによって、酸化りμム、
二酸化チタン主成分の輻射材とアルミナ主成分の輻射材
ｔ−使い分ける方法であり、低温域から高温域にわたっ
てエナメルの加熱を効果的にかつ安定に行なうことがで
きるという優れた効果を有する。
うに、遠赤外線輻射材の加熱温度が５４０℃を境にして
低温域であるか高温域であるかによって、酸化りμム、
二酸化チタン主成分の輻射材とアルミナ主成分の輻射材
ｔ−使い分ける方法であり、低温域から高温域にわたっ
てエナメルの加熱を効果的にかつ安定に行なうことがで
きるという優れた効果を有する。
第ｍｌ！２１はエナメルへの輻射加熱効果を調べる実験
装置を示す図、第２図はエナメル質拐料への輻射加熱効
果の実験結果を示すグラフ、第３図は本発明の実施例の
遠赤外線輻射加熱方法を５Ａ施したエナメル線焼付炉の
王要部を示す断面図、第４図は第３図の輻射板付近を示
す拡大図である。 １１●●噛遠赤外線輻射材、１２●●ψエナメル質材料
。
装置を示す図、第２図はエナメル質拐料への輻射加熱効
果の実験結果を示すグラフ、第３図は本発明の実施例の
遠赤外線輻射加熱方法を５Ａ施したエナメル線焼付炉の
王要部を示す断面図、第４図は第３図の輻射板付近を示
す拡大図である。 １１●●噛遠赤外線輻射材、１２●●ψエナメル質材料
。
Claims (1)
- エナメル質劇料の被覆物を遠赤外線輻射材を加熱して該
輻射材よシ遠赤外線を輻射せしめ尚該エナメル質材料を
加熱する遠赤外ｍ輻射加熱方法において、前記輻射材が
５４０℃以下の温度領域で加熱使用されるときには、酸
化クロムばたは二酸化チタンを主成分とする輻射材を用
い、同輻射材が５４０℃１−［える温度領域で加熱使用
式れるときには、アルミナを主成分とする輻射拐を用い
ることを特徴とする遠赤外線輻射加熱方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20488183A JPS6097581A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 遠赤外線輻射加熱方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20488183A JPS6097581A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 遠赤外線輻射加熱方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6097581A true JPS6097581A (ja) | 1985-05-31 |
| JPH0418648B2 JPH0418648B2 (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=16497938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20488183A Granted JPS6097581A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 遠赤外線輻射加熱方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6097581A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4863340A (ja) * | 1971-12-04 | 1973-09-03 | ||
| JPS4922633A (ja) * | 1972-06-24 | 1974-02-28 |
-
1983
- 1983-11-02 JP JP20488183A patent/JPS6097581A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4863340A (ja) * | 1971-12-04 | 1973-09-03 | ||
| JPS4922633A (ja) * | 1972-06-24 | 1974-02-28 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0418648B2 (ja) | 1992-03-27 |
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