JPS6099382A - 上水処理における異臭味の除去方法 - Google Patents
上水処理における異臭味の除去方法Info
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- JPS6099382A JPS6099382A JP20665383A JP20665383A JPS6099382A JP S6099382 A JPS6099382 A JP S6099382A JP 20665383 A JP20665383 A JP 20665383A JP 20665383 A JP20665383 A JP 20665383A JP S6099382 A JPS6099382 A JP S6099382A
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は上水処理における異臭味の除去方法に関するも
のである。
のである。
昨今、河川水の富栄養化などによる上水処理における異
臭味の残存が問題視さ扛るようになり、エアレージロン
法、オゾン法、粉末活性炭注入法、さらには粒状活性炭
ρ適法等により除去することが行われていた。
臭味の残存が問題視さ扛るようになり、エアレージロン
法、オゾン法、粉末活性炭注入法、さらには粒状活性炭
ρ適法等により除去することが行われていた。
ところが近時においては、水源のより多様化などにより
異臭味の発生原因がより複雑になると共に発生する異臭
味の種類もより多くなり、このため上述したような従来
方法では十分に対応し得なくなってきた。
異臭味の発生原因がより複雑になると共に発生する異臭
味の種類もより多くなり、このため上述したような従来
方法では十分に対応し得なくなってきた。
すなわち各種の異臭味のうち、特に問題視されるのはか
び臭であるが、従来のエアレージロン法では硫化水素臭
を除去できてもかび臭を除去することができなかった。
び臭であるが、従来のエアレージロン法では硫化水素臭
を除去できてもかび臭を除去することができなかった。
これに対しオゾン法、粉末活性炭注入法、粒状活性炭ｐ
適法によればかび臭も一応除去することができるが、そ
の除去率が７０９６前後というように低率であり、かつ
前記注入法においては繁雑な汚泥処理等が必要とされ、
他のオゾン法及び粒状活性炭ρ適法においては運転費が
かかりすぎるという欠点があった。
適法によればかび臭も一応除去することができるが、そ
の除去率が７０９６前後というように低率であり、かつ
前記注入法においては繁雑な汚泥処理等が必要とされ、
他のオゾン法及び粒状活性炭ρ適法においては運転費が
かかりすぎるという欠点があった。
なお旧来の緩速ｐ適法においては異臭味が除去されたと
いわれているが、−過面積が広く必要とされ用地の確保
に費用がかかりすぎるという点から水需要の増加に伴な
い急速ｒ適法に転換されてきた経緯がある。
いわれているが、−過面積が広く必要とされ用地の確保
に費用がかかりすぎるという点から水需要の増加に伴な
い急速ｒ適法に転換されてきた経緯がある。
本発明はこのようなことに注目し、これを解決すべく各
方面から鋭意検討した結果、上水処理において紫外線照
射処理すれば極めて短時間で異臭味が完全に除去できる
という実用的な方法を見い出したのである。
方面から鋭意検討した結果、上水処理において紫外線照
射処理すれば極めて短時間で異臭味が完全に除去できる
という実用的な方法を見い出したのである。
すなわち本発明に係る上水処理における異臭味の除去方
法は、編集沈殿固液分離工程から一過工程へ送られる上
澄水もしくは滅菌工程から配水池へ送られる滅菌水を紫
外線照射処理することを特徴とするものである。
法は、編集沈殿固液分離工程から一過工程へ送られる上
澄水もしくは滅菌工程から配水池へ送られる滅菌水を紫
外線照射処理することを特徴とするものである。
周知のごとく」三水処理は、河川等から取水した原水の
沈砂処理工程→凝集沈殿固液分離工程→ｄ５過工程→滅
菌工程→配水池というようなフローにより行われるが、
本発明においては、沈砂処理工程から凝集沈殿固液分離
工程へ送られるｔｑ水に塩素を添加する場合（いわゆる
前塩素添加を行う場合）においては凝集沈殿固液分離工
程から一過工程へ送られる上澄水を紫外線照射処理し、
また前記汚水に塩素を添加しないで滅菌工程において塩
素を添加する場合（いわゆる後塩素添加を行う場合）に
おいてはこの滅菌工程から配水池へ送られる滅菌水を紫
外線照射処理するのである。
沈砂処理工程→凝集沈殿固液分離工程→ｄ５過工程→滅
菌工程→配水池というようなフローにより行われるが、
本発明においては、沈砂処理工程から凝集沈殿固液分離
工程へ送られるｔｑ水に塩素を添加する場合（いわゆる
前塩素添加を行う場合）においては凝集沈殿固液分離工
程から一過工程へ送られる上澄水を紫外線照射処理し、
また前記汚水に塩素を添加しないで滅菌工程において塩
素を添加する場合（いわゆる後塩素添加を行う場合）に
おいてはこの滅菌工程から配水池へ送られる滅菌水を紫
外線照射処理するのである。
図面に基いてより具体的に述べるに、第１図は前塩素添
加を行う場合の上水処理フローを示すが、図中、（１）
は取水口、（２）は砂やにごりを沈殿させる沈砂池、（
３）は導水ポンプ、（４）はくみ上げられた原水量をは
かる量水井、（５）は硫酸バンドにより原水中の細いに
とりゃ細菌を固まらせて沈殿させる薬品沈殿池、（６）
は急速ｒ通油、（７）は浄水井、（８）はきれいになっ
た水を高い所へ送り出す送水ポンプ、（９）は配水池で
あり、導水ポンプ（３）の所で塩素ａ０が添加されて原
水中の不純物を酸化し消毒している。
加を行う場合の上水処理フローを示すが、図中、（１）
は取水口、（２）は砂やにごりを沈殿させる沈砂池、（
３）は導水ポンプ、（４）はくみ上げられた原水量をは
かる量水井、（５）は硫酸バンドにより原水中の細いに
とりゃ細菌を固まらせて沈殿させる薬品沈殿池、（６）
は急速ｒ通油、（７）は浄水井、（８）はきれいになっ
た水を高い所へ送り出す送水ポンプ、（９）は配水池で
あり、導水ポンプ（３）の所で塩素ａ０が添加されて原
水中の不純物を酸化し消毒している。
本発明においては、このような上水処理フローにおいて
は薬品沈殿池（５）に紫外線ランプａ１）を設置して処
理するのである。
は薬品沈殿池（５）に紫外線ランプａ１）を設置して処
理するのである。
また第２図は浄水井（７）で塩素ａ・が添加されて原水
中の不純物を酸化し消毒する、所謂後塩素添加を行う場
合の上水処理を示すが、このような上水処理フローにお
いては浄水井（７）に紫外線ランプｔＩＤを設置して処
理するのである。
中の不純物を酸化し消毒する、所謂後塩素添加を行う場
合の上水処理を示すが、このような上水処理フローにお
いては浄水井（７）に紫外線ランプｔＩＤを設置して処
理するのである。
なおこれらいず扛の場合においても照射する紫外線の波
長は２０００〜４０００Ａ、その照射足間は０．００５
〜０．０５ＫＷ’Ｈ／ｍ’、照射時間は ５〜１０分が
好ましく、その照射処理に当って効果促進のため上水処
理における従来からの塩素添加と別個に史に塩素を添加
してもよい。
長は２０００〜４０００Ａ、その照射足間は０．００５
〜０．０５ＫＷ’Ｈ／ｍ’、照射時間は ５〜１０分が
好ましく、その照射処理に当って効果促進のため上水処
理における従来からの塩素添加と別個に史に塩素を添加
してもよい。
紫外線照射処理に当って塩素を添加しない場合において
はジオヌミン臭気度６０〜７０を１．０にするに６分の
処理時間を要したが、塩素を３〜５ｍ９／ｌ添加した場
合においては４分であった。また塩素を添加しない場合
において２−メチルイソボルネオール臭気度５０〜６０
を１．０にするに１０分の処理時間を要したが、塩素を
３〜５ｍＱ／ｌ添加した場合においては７分であった。
はジオヌミン臭気度６０〜７０を１．０にするに６分の
処理時間を要したが、塩素を３〜５ｍ９／ｌ添加した場
合においては４分であった。また塩素を添加しない場合
において２−メチルイソボルネオール臭気度５０〜６０
を１．０にするに１０分の処理時間を要したが、塩素を
３〜５ｍＱ／ｌ添加した場合においては７分であった。
このように上水処理における塩素添加と別個に更に塩素
を添加して処理する方がより一層処理時間を短縮するこ
とができる。
を添加して処理する方がより一層処理時間を短縮するこ
とができる。
なお上述した紫外線照射処理は常時、行わず、」三水処
理において臭気が基準値以上になったときのみに行うよ
うにしてもよい。
理において臭気が基準値以上になったときのみに行うよ
うにしてもよい。
たとえば臭気のガスマドグラフィー等での計器検知によ
り紫外線照射のタイミング制１ｉ１ｉ１を自動的に行う
ように設ければよい。第１図及び第２図における（１２
＋は逆洗タンクである。
り紫外線照射のタイミング制１ｉ１ｉ１を自動的に行う
ように設ければよい。第１図及び第２図における（１２
＋は逆洗タンクである。
而して本発明の方法により９５チ以上の臭気除去率を得
ることができると共に既設の上水処理設備の槽の一部、
導水路等を利用して紫外線ランプを設けるだけで処理が
可能になり、設備投資の而においても有利である。
ることができると共に既設の上水処理設備の槽の一部、
導水路等を利用して紫外線ランプを設けるだけで処理が
可能になり、設備投資の而においても有利である。
第１図及び第２図は本発明の実施例を示し、第１図は前
塩素添加を行う場合の上水処理フローにおける紫外線照
射処理態様を示す図、第２図は後塩素添加を行う場合の
上水処理フローにおける紫外線照射処理態様を示す図で
ある。 （５）：薬品沈殿池、（６）：急速ｒ通油、（７）：浄
水井、ａＱ：塩素、０１）：紫外線ランプ。
塩素添加を行う場合の上水処理フローにおける紫外線照
射処理態様を示す図、第２図は後塩素添加を行う場合の
上水処理フローにおける紫外線照射処理態様を示す図で
ある。 （５）：薬品沈殿池、（６）：急速ｒ通油、（７）：浄
水井、ａＱ：塩素、０１）：紫外線ランプ。
Claims (1)
- 凝集沈殿固液分離工程から一過工程へ送られる上澄水も
しくは滅菌工程から配水池へ送られる滅菌水を紫外線照
射処理することを特徴とする上水処理における異臭味の
除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20665383A JPS6099382A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 上水処理における異臭味の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20665383A JPS6099382A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 上水処理における異臭味の除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6099382A true JPS6099382A (ja) | 1985-06-03 |
| JPS6325832B2 JPS6325832B2 (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=16526908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20665383A Granted JPS6099382A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 上水処理における異臭味の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6099382A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4769131A (en) * | 1986-05-09 | 1988-09-06 | Pure Water Technologies | Ultraviolet radiation purification system |
-
1983
- 1983-11-02 JP JP20665383A patent/JPS6099382A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4769131A (en) * | 1986-05-09 | 1988-09-06 | Pure Water Technologies | Ultraviolet radiation purification system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6325832B2 (ja) | 1988-05-26 |
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