JPS61104622A - バリアブルアバ−チヤ− - Google Patents
バリアブルアバ−チヤ−Info
- Publication number
- JPS61104622A JPS61104622A JP59227370A JP22737084A JPS61104622A JP S61104622 A JPS61104622 A JP S61104622A JP 59227370 A JP59227370 A JP 59227370A JP 22737084 A JP22737084 A JP 22737084A JP S61104622 A JPS61104622 A JP S61104622A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blade
- arm
- turning
- pins
- linked
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路の製造に使用されるフォトマ
スクのパターンの原版（以下、レティクル）を作成する
パターン描画装置のバリアプルアパーチャーに関するも
のである。
スクのパターンの原版（以下、レティクル）を作成する
パターン描画装置のバリアプルアパーチャーに関するも
のである。
半導体集積回路の製造に使用されるフォトマスクは、通
常実寸の１０倍、あるいは５倍のレティクルのパターン
を縮小投影露光装置を使用し、Ｍ行Ｎ列にステップアン
ドリヒートシて作成する。レティクルのパターンはＣＡ
Ｄ等の設計ツールにより作成され、その設計データに基
づき、パターンジェネレータ（以下Ｐ、Ｇ ）により描
画されるのが一般的である。
常実寸の１０倍、あるいは５倍のレティクルのパターン
を縮小投影露光装置を使用し、Ｍ行Ｎ列にステップアン
ドリヒートシて作成する。レティクルのパターンはＣＡ
Ｄ等の設計ツールにより作成され、その設計データに基
づき、パターンジェネレータ（以下Ｐ、Ｇ ）により描
画されるのが一般的である。
ＰＣは矩形スリットイメージを形成するバリアプルアパ
ーチャ一部と、ＸＹステージ部とから成り、そのパター
ン描画方法は被描画プレートを載せたＸＹステージを設
計データに従い適宜移動させ、バリアプルアパーチャー
による矩形スリットイメージと適宜組合せ使用すること
により矩形イメージを積分させ、所要のパターンを発生
させる。
ーチャ一部と、ＸＹステージ部とから成り、そのパター
ン描画方法は被描画プレートを載せたＸＹステージを設
計データに従い適宜移動させ、バリアプルアパーチャー
による矩形スリットイメージと適宜組合せ使用すること
により矩形イメージを積分させ、所要のパターンを発生
させる。
従来のＰＧのバリアプルアパーチャーは第５図に示す様
に、相対する２枚のブレード２２．２３と、それに直交
するもう一組のブレード２４．２５から構成され、これ
らブレード２２．２３．２４．、２５のエツジて矩形を
形成している。各ブレードにはアーム２６〜２９が取付
けられ、相対するプレートのアーム２６゜２７及び２８
，２９の一側に刻設された歯溝に歯車３０゜３１がそ」
ｔそれ噛合し、歯車の回転力向を違えることにより相対
するプレートの間隔は可変することが出来、Ｊ−１つ又
、これらのプレー１−’ ｆｄ：セクタギア３２とモー
タ３３の歯車３４との組合ぜにて円盤基板３５を回転さ
せることにより矩形イメージのセンタを中心に回転出来
る機構になっている。
に、相対する２枚のブレード２２．２３と、それに直交
するもう一組のブレード２４．２５から構成され、これ
らブレード２２．２３．２４．、２５のエツジて矩形を
形成している。各ブレードにはアーム２６〜２９が取付
けられ、相対するプレートのアーム２６゜２７及び２８
，２９の一側に刻設された歯溝に歯車３０゜３１がそ」
ｔそれ噛合し、歯車の回転力向を違えることにより相対
するプレートの間隔は可変することが出来、Ｊ−１つ又
、これらのプレー１−’ ｆｄ：セクタギア３２とモー
タ３３の歯車３４との組合ぜにて円盤基板３５を回転さ
せることにより矩形イメージのセンタを中心に回転出来
る機構になっている。
〔発明が角？ｒ決しようとする問題点〕しかしなから、
この様な従来のバリアプルアパーチャーの機構では三角
形や台形の様なパターンを描画し、１一つとする場合に
、鋭角のコーツーーを正確にパターンニングすることが
出来ないことはもとより、第６図（ａ）の形態のパター
ンはバリアプルアパーチャーの組合せにより近似的に第
６図（）））の形態に表現されるが、この場合でもデー
タ量が非常に大量になるため、描画時間が長くなるとい
う欠点を有している。
この様な従来のバリアプルアパーチャーの機構では三角
形や台形の様なパターンを描画し、１一つとする場合に
、鋭角のコーツーーを正確にパターンニングすることが
出来ないことはもとより、第６図（ａ）の形態のパター
ンはバリアプルアパーチャーの組合せにより近似的に第
６図（）））の形態に表現されるが、この場合でもデー
タ量が非常に大量になるため、描画時間が長くなるとい
う欠点を有している。
本発明ｄ、前記の従来のアパーチャーの欠点を除去し、
三角形や台形のパターンも正確、且つ迅速に描画可能な
バリアプルアパーチャーを提供する′ものである。
三角形や台形のパターンも正確、且つ迅速に描画可能な
バリアプルアパーチャーを提供する′ものである。
本発明は２組の相対する２枚のブレード対により１２Ｔ
ｌ廿れる空間内に、各組のプレートの姿勢を変化させて
該ブレードの端縁にて三角形或いは四辺形のパターンを
形成させるアパーチャーにおいて、一方向に前進又は後
退する支持アーム先端に各ブレードを一定角度範囲内で
回動可能に軸支したことを特徴とするバリアプルアパー
チャーである。
ｌ廿れる空間内に、各組のプレートの姿勢を変化させて
該ブレードの端縁にて三角形或いは四辺形のパターンを
形成させるアパーチャーにおいて、一方向に前進又は後
退する支持アーム先端に各ブレードを一定角度範囲内で
回動可能に軸支したことを特徴とするバリアプルアパー
チャーである。
以下に、本発明の一実施例を図によって説明する。
第１図は本発明によるバリアプルアパーチャーの一実施
例の概念図である。４枚のブレード］、２゜３．４はそ
の前端縁により四辺形等が形成されるように配列されて
おり、相対するプレート２．／Ｉはその中央部分で、Ｘ
方向（図中左右方向）に前後進する支持アーム５の先端
にピン７によシ枢支されているとともに、他の相対する
ブレード］、３はその中央部分で、Ｙ方向（図中上下方
向）に前後進する支持アーム６の先端にピン７により同
様に枢支されている（ブレード１及び３のものは図中省
略しである）。さらに、各々のプレー１−ニは支持アー
ムの両側に、該ブレードをピン７を中心に回転させるだ
めの回転運動伝達棒８が２本対称位置にピンにより連結
されておシ、各ブレードの２本の回転運動伝達棒８は支
持アームを中心に回転する回転駆動アーム９にピンによ
り連結されている０ ここで、個々のブレードシステムの機能は同等であるの
で、代表として１つのブレードシステムの詳細な構成機
能を、以下第２図（ａ） 、 （ｂ）により説明する。
例の概念図である。４枚のブレード］、２゜３．４はそ
の前端縁により四辺形等が形成されるように配列されて
おり、相対するプレート２．／Ｉはその中央部分で、Ｘ
方向（図中左右方向）に前後進する支持アーム５の先端
にピン７によシ枢支されているとともに、他の相対する
ブレード］、３はその中央部分で、Ｙ方向（図中上下方
向）に前後進する支持アーム６の先端にピン７により同
様に枢支されている（ブレード１及び３のものは図中省
略しである）。さらに、各々のプレー１−ニは支持アー
ムの両側に、該ブレードをピン７を中心に回転させるだ
めの回転運動伝達棒８が２本対称位置にピンにより連結
されておシ、各ブレードの２本の回転運動伝達棒８は支
持アームを中心に回転する回転駆動アーム９にピンによ
り連結されている０ ここで、個々のブレードシステムの機能は同等であるの
で、代表として１つのブレードシステムの詳細な構成機
能を、以下第２図（ａ） 、 （ｂ）により説明する。
ブレード１１には支持アーム１２と、それを中心に対称
関係に２本の回転運動伝達棒１３．１４がそれぞれピン
１５，１６．１７により連結されている。２本の回転運
動伝達棒１３ 、１４は、支持アーム１２を中心にモー
タ１８により回転される回転駆動アーム１９にピン２０
，２１により連結されている。ピン２０及び２１０回転
駆動アームに対する位置は、モータ７８に対して対称な
位置である。
関係に２本の回転運動伝達棒１３．１４がそれぞれピン
１５，１６．１７により連結されている。２本の回転運
動伝達棒１３ 、１４は、支持アーム１２を中心にモー
タ１８により回転される回転駆動アーム１９にピン２０
，２１により連結されている。ピン２０及び２１０回転
駆動アームに対する位置は、モータ７８に対して対称な
位置である。
本ブレードシステムＢ全体は支持アームの後部に伺いて
いる駆動システム（省略しである）に」：υ、前後に駆
動する。他方、モータ１８により回転駆動アーム１９を
例えば反時計方向に回転させると、回転運動伝達棒１３
はピン２０を介して図中左方向へ運動し、回転運動伝達
棒１４は対称に右方へ運動するＯ 従って、ブレード１１は第３図のように支持アーム］２
と連結しているピン１５を中心に反時計方向に回転する
。然るに第４図のように４つのブレードシステムＢｉｒ
夫々独立に操作することにより、任意の四辺形（三角形
を含む）を形成することが出来る。
いる駆動システム（省略しである）に」：υ、前後に駆
動する。他方、モータ１８により回転駆動アーム１９を
例えば反時計方向に回転させると、回転運動伝達棒１３
はピン２０を介して図中左方向へ運動し、回転運動伝達
棒１４は対称に右方へ運動するＯ 従って、ブレード１１は第３図のように支持アーム］２
と連結しているピン１５を中心に反時計方向に回転する
。然るに第４図のように４つのブレードシステムＢｉｒ
夫々独立に操作することにより、任意の四辺形（三角形
を含む）を形成することが出来る。
本発明は以上説明したように、一方向に前後進するアー
ムにブレードを一定角度範囲で回動するように支持した
ので、４つのブレードシステムヲ適宜組み合せることに
より任意の三角形あるいは四辺形を容易に形成すること
ができ、しかもブレードが一定範囲で回動するから、い
かなる角度のコーナーも正確に、かつ最小のショットで
４Ｗｉ画することができる効果を有するものである。
ムにブレードを一定角度範囲で回動するように支持した
ので、４つのブレードシステムヲ適宜組み合せることに
より任意の三角形あるいは四辺形を容易に形成すること
ができ、しかもブレードが一定範囲で回動するから、い
かなる角度のコーナーも正確に、かつ最小のショットで
４Ｗｉ画することができる効果を有するものである。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図（ａ）
ｔｄ：本発明のブレードシステムを示す一実施例の平
面図、（）〕）は同側面図、第３図は本発明のブレード
システムの任意角度にブレードを回転した状態を示す図
、第４図は本発明の一実施例に基づくブレードシステム
により任意の四辺形を形成した状態を示す図、第５図は
従来のバリアプルアパーチャーの概念図、第６図は従来
のバリアプルアパーチャーを使用して任意角度のパター
ンを近似して描画した状態を示す図で、（ａ）は形成し
たいパターンを示す図、（１つ）は実際の描画イメージ
を示す図である。 １．２．３．／ｌ ブレード、５・・・支持アーム、
６・・・支持アーム、７・ピン、８ 回転運動伝達棒、
９・・・回転１駆動アーム、］１・・プレート、１２・
・・支持アーム、１３．１４・・・回転運動伝達棒、１
５，１６．１７・・・ピン、］８・・・モータ、１９・
回転駆動アーム、２０．２１・・・ピン第１図 第２図 （Ｑ） （ｂ） （α） 第６図 （ｂ）
ｔｄ：本発明のブレードシステムを示す一実施例の平
面図、（）〕）は同側面図、第３図は本発明のブレード
システムの任意角度にブレードを回転した状態を示す図
、第４図は本発明の一実施例に基づくブレードシステム
により任意の四辺形を形成した状態を示す図、第５図は
従来のバリアプルアパーチャーの概念図、第６図は従来
のバリアプルアパーチャーを使用して任意角度のパター
ンを近似して描画した状態を示す図で、（ａ）は形成し
たいパターンを示す図、（１つ）は実際の描画イメージ
を示す図である。 １．２．３．／ｌ ブレード、５・・・支持アーム、
６・・・支持アーム、７・ピン、８ 回転運動伝達棒、
９・・・回転１駆動アーム、］１・・プレート、１２・
・・支持アーム、１３．１４・・・回転運動伝達棒、１
５，１６．１７・・・ピン、］８・・・モータ、１９・
回転駆動アーム、２０．２１・・・ピン第１図 第２図 （Ｑ） （ｂ） （α） 第６図 （ｂ）
Claims (1)
- （１）２組の相対する２枚のブレード対により囲まれた
空間内に、各組のブレードの姿勢を変化させて該ブレー
ドの端縁で三角形或いは四辺形のパターンを形成させる
アパーチャーにおいて、一方向に前進又は後退する支持
アーム先端に各ブレードを一定角度範囲内で回動可能に
軸支したことを特徴とするバリアブルアパーチャー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59227370A JPS61104622A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | バリアブルアバ−チヤ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59227370A JPS61104622A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | バリアブルアバ−チヤ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61104622A true JPS61104622A (ja) | 1986-05-22 |
Family
ID=16859739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59227370A Pending JPS61104622A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | バリアブルアバ−チヤ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61104622A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0869396A3 (en) * | 1997-03-31 | 2000-12-06 | Svg Lithography Systems, Inc. | Adjustable slit and method for varying line width |
| EP1020769A3 (en) * | 1999-01-15 | 2002-12-11 | Svg Lithography Systems, Inc. | Dynamically adjustable slit |
| WO2003050621A1 (en) * | 2001-12-07 | 2003-06-19 | Motorola, Inc. | Continuously adjustable neutral density filter |
| EP1431829A1 (en) * | 2002-12-19 | 2004-06-23 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus |
| US7224438B2 (en) | 2002-12-19 | 2007-05-29 | Asml Netherlands B.V. | Method of manufacturing a device, device manufactured thereby, computer program and lithographic apparatus |
| JP2009020441A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-29 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
| CN102955366A (zh) * | 2011-08-22 | 2013-03-06 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影曝光装置与拼接方法 |
| WO2014055585A1 (en) * | 2012-10-05 | 2014-04-10 | Rudolph Technologies, Inc. | Blade for substrate edge protection during photolithography |
-
1984
- 1984-10-29 JP JP59227370A patent/JPS61104622A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0869396A3 (en) * | 1997-03-31 | 2000-12-06 | Svg Lithography Systems, Inc. | Adjustable slit and method for varying line width |
| KR100548050B1 (ko) * | 1997-03-31 | 2006-05-02 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | 선폭을 변화시키는 조절가능한 슬릿 및 방법 |
| EP1020769A3 (en) * | 1999-01-15 | 2002-12-11 | Svg Lithography Systems, Inc. | Dynamically adjustable slit |
| WO2003050621A1 (en) * | 2001-12-07 | 2003-06-19 | Motorola, Inc. | Continuously adjustable neutral density filter |
| US6744494B2 (en) | 2001-12-07 | 2004-06-01 | Motorola, Inc. | Continuously adjustable neutral density area filter |
| EP1431829A1 (en) * | 2002-12-19 | 2004-06-23 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus |
| US7224438B2 (en) | 2002-12-19 | 2007-05-29 | Asml Netherlands B.V. | Method of manufacturing a device, device manufactured thereby, computer program and lithographic apparatus |
| JP2009020441A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-29 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
| CN102955366A (zh) * | 2011-08-22 | 2013-03-06 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影曝光装置与拼接方法 |
| CN102955366B (zh) * | 2011-08-22 | 2015-08-26 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影曝光装置与拼接方法 |
| WO2014055585A1 (en) * | 2012-10-05 | 2014-04-10 | Rudolph Technologies, Inc. | Blade for substrate edge protection during photolithography |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61104622A (ja) | バリアブルアバ−チヤ− | |
| GB2189622A (en) | Toy film projector | |
| JP7630522B2 (ja) | リソグラフィスティッチングのためのシステム、ソフトウェアアプリケーション、および方法 | |
| US3306176A (en) | Method and apparatus for making precision art work | |
| JP3674892B2 (ja) | ２面同時マーキング装置 | |
| JPS6025284A (ja) | 位置決め装置 | |
| JPS6153577B2 (ja) | ||
| JP2002162665A (ja) | 光量調節装置 | |
| GB1470470A (en) | Photographic film editing device | |
| JPH05253806A (ja) | 高精密部品の加工組立装置 | |
| JP2830759B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH0550383A (ja) | マイクロロボツト | |
| JP3718573B2 (ja) | 映像連動装置 | |
| JPH0720755B2 (ja) | 疑似円形描画用光学作図装置 | |
| JPS58108337U (ja) | 風向調整装置 | |
| JPS62103623A (ja) | 絞り装置 | |
| TWI887175B (zh) | 折疊式顯示裝置 | |
| CN110887023A (zh) | 一种灯光的无极旋转切割系统 | |
| JP2690498B2 (ja) | パターンジェネレータ | |
| JPS6190432A (ja) | あおり支持機構 | |
| JP3072564B2 (ja) | 荷電粒子ビーム露光方法における任意角図形発生方法 | |
| JPH0616365Y2 (ja) | 位置決めテーブル | |
| US3600513A (en) | Process for rapid recording of polygonal images | |
| JPH01143325A (ja) | パターン形成装置 | |
| JP3052837B2 (ja) | 磁気ヘッドレール面の露光方法 |