JPS61106561A - シクロヘキセノン誘導体、その製法及び該化合物を含有する除草剤 - Google Patents

シクロヘキセノン誘導体、その製法及び該化合物を含有する除草剤

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、シクロヘキセノン誘導体、その製法並びに該
化合物を含有する除草剤に関する。
従来の技術 ドイツ連邦共和国特許出願公開第3121355号明細
書、同第3123312号明細書及び同第323907
1号明細書から、除草剤としで有効である一連のシクロ
ヘキセノン誘導体が公知である。
発明が解決しようとする問題点 婦   **″A01°“、 l!LFrlJ、: 1
.−cH%fzftrm**を提供することであった。
問題点を解決するための手段 ところで、一般式1: 〔式中。
R1は水素原子又は2〜5個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基を表わし。
R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わし
。
Pは5員の複素環を表わし、該複素環はN、0゜Sの群
から選択される1〜3個の複素原子、場合により2個ま
での二重結合及び場合により01−4 ”’アルキル基
1a1−4−アルコキシ基、ハロゲン原子。
トリフルオルメチル基、−4−アルフキジメチル基1a
、+4−アルキルチオメチル基、ビニル基又はフェニル
基の群から成る2個までの置換基を含有 ・し。
かは1又は2個の同じか又は異なった拶素原子。
又はN、0,3.So及びSo、の群から選択される環
員、及び場合により3個までの2重結合を含有し、かつ
場合により夫々1〜4個の炭素原子を有する最高2個の
アルキル基又はアルコキシ基によって置換されていても
よい5〜7員の複素環、又は式■: で示される基又は式■a: で示される基を表わし、上記式中X及びYは夫々N、O
,S、So又はS02を表わす〕で示されるシクロヘキ
セノン誘導体及び該化合物の塩が見い出された。
新規シクロヘキセノン誘導体は、特に良好な。
大抵の場合また種特有の除草作用を示す。
式Iの化合物は多数の互変異性で生成することができ、
これらは全て特許請求の範囲に包含される: 式!中のR1は、水素原子又は1〜4個の炭素原子を有
するアルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル
、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル又はブト
キシカルボニルを表わす。有利な基R1はメトキシカル
ボニル及び特に水素原子である。
式I中のR2は、メチル、エチル、n−プロピル。
1−プロピル、n−ブチル、S−ブチル、1−ブチル又
はt−ブチルを表わし、この場合には2又は3個の炭素
原子を有する基が有利である。
置換基蔚は群N、O,Sの1〜3個の神前原子を有する
5員の複素環式環であり、この場合環内に2個よりも多
い酸素原子又は1佃よりも多い硫黄原子を有する複素環
は除外されている。複素環式環は2個までの二重結合及
び最高2個の置換基例えば01−4−アルキルl at
−4−アルコキシ、ハロゲン、トリフルオルメチルI 
 01.4−アルコキシメチルl  a、+4−アルキ
ルチオメチル、ビニル又ハフェニルを有していてもよい
。特に好ましい作用を惹起するような置換基の例は、7
ランー2−イル。
テトラヒドロ7ランー2−イ/I/、1,3−ジオキソ
ラン〜2−イル、2−フェニル−1,3−’;tキソラ
ンー2−イル、2.2−ジメチル−1,3−ジオキソラ
ン−4−イル、4.5−ジメチル−1,3−ジオキソラ
ン−2−イル、2−ビニル−31,3〜ジオキソラン−
4−イル、3−7zニルト 1 −イ′キサシー′−5−イ′・ 3−′チ′−4V
キサゾールー5−イル、3−メトキシメチル−インキサ
シ−ルー5−イル、5−クロルナエン−2−イル、2−
クロルチエン−3−イル、3.5−ジクロルナエン−2
−イル、2.5−ジクロルナエン−3−イル、2.3−
ジクロルナエン−4−イル、2−クロルナエン−4−イ
ル、2−イソプロピル−1,3,4−オキサジアゾール
−5−イル、2−メチル−1,3,4−チアジアゾール
−5−イル、5−クロル−1,2,3−チアジアゾール
−4−イル、チエン−2−イル及びチエン−3−イルで
ある。
特に有利な基R3は、場合により夫々1又は2個の塩素
原子によって置換されたチエン−2−イル及びチエン−
3−イルである。
式1中のかは、1又は2個の同じか又は異なった複素原
子、又はN、O,S、So及びSO,の群から選択され
る環員、及び場合により3個までの2重結合を含有し、
かつ場合により夫々1〜4個の炭素原子を有する最高2
個のアルキル基又はアルコキシ基によって置換されてい
てもよい5〜7員   ゛の複素環、又は式TI: で示される基又は式■a: で示される基を表わし、上記式中X及びYは夫々N、O
,S、So又はSO,を表わす。
−が表わす典型的な例は、4−メチルテトラヒドロピラ
ン−3−イル、3−メチルテトラヒドロピラン−4−イ
ル、2−メチルテトラヒドロピラン−4−イル、2−メ
トキシテトラヒドロピラン−4−イル、3−メトキシテ
トラヒドロピラン−4−イル、2.6−シメチルテトラ
ヒドロチオビランー3−イル、1−オキソ−テトラヒド
ロチオピラン−3−イル、1,l−ジオキソテトラヒド
ロチオピラン−3−イル、2−メチルテトラヒドロフラ
ン−3−イル、2.5−ジメチルテトラヒドロフラン−
3−イル、2−メトキシメチルテトラヒドロフラン−3
−イル、テトラヒトロチエン−3−イル、2.2−ジメ
チルテトラヒトロチエン−3−イル、2−メチル−1,
3−ジオキモパン−5−イル、2−イソプロピル−1,
3−ジオキセバンー5−イル、4a、’y、a、8a−
テトラヒドロー2H,5H−チイン(4,3−b〕ビラ
ン−3−イル及び3,4,4a、?、8.8a−ヘキサ
ヒトcr−2H,5H−チイノー[4,3−b)ビラン
−3−イルである。有利な基?は、テトラヒト四ビラン
ー3−イル、テトラヒト四ビランー4−イル、テトラヒ
ドロチオピラン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−
4−イル、テトラヒドロフラン−3−イル、テトラヒト
ロチエン−3−イル、ピリド−3−イル、1,3−ジオ
キ七パンー5−イル及び式■及びII&で表わされる基
4a、?。
8.8a−テトラヒドロ−2H,5H−ピラノ〔4゜3
−b〕ピラン−3−イル、 3. 4.4m、 7. 
8゜8&−へキサヒドロ−,2H,5H−ピラノ(4,
3−b〕ビラン−3−イル、4a、’y、a、13a−
テトラヒドワー2H,5H−チイン(4,3−b)−チ
イン−3−イル及び3,4.4a、7,8.8a−ヘキ
サヒドロ−2H,5H−チイン(4,3−b”1チイン
−3−イルである。
式!の化合物の塩としては、a業で使用可能な塩1例え
ばアルカリ金属塩、特にカリウム又はナトリウム壌、ア
ルカリ土類金属壌、特にカルシウム、マグネシウム又は
バリウム塩、マンガン、銅。
° 亜鉛又は鉄塩並びにアンモニウム、ホスホニウム。
スルホニウム及びスルホキソニウム塩9例えばアンモニ
ウム塩、テトラアルキルアンモニウム塩。
ベンジルトリアルキルアンモニウム塩、トリアルキルス
ルホニウム墳、トリアルキルスルホキソニウム塩が該当
する。
式1のシクロヘキ七゛ノン誘導体は、弐■:〔式中 R
1,12及び穿は前記のものを表わす〕で示されるトリ
カルボニル化合物を式:R3−OH,O−N馬Y(式中
、Yは陰イオン、例えば塩素、臭素又は硫酸イオンを表
わす)で示されるアンモニウム化合物と反応させること
により得ることができる。
このためには1両者の反応成分を溶剤中で塩基の存在下
に十分な温度2例えば0〜80℃で、場合により水の存
在下に2反応させる。適当な塩基は。
例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属、特にナトリ
ウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムの炭酸塩、
炭酸水素塩、炭酸塩、アルフラート。
酸化物又は水酸化物、又は有機塩基1例えばピリジン又
は第三級アミン例えばトリエチルアミンである。
溶剤としては1例えばジメチルスルホキシド。
アルコール例えばメタノール、エタノール、イソプロパ
ツール、ベンゼン、トルエンl 場合により塩素化され
た炭化水素1例えばクロロホルム、ジ  ゛クロルエタ
ン、ヘキサン、シクロヘキサン、エステル、例えば酢酸
エチルエステル、エーテル、例えばジオキサン、テトラ
ヒドロ7ランである。
反応は数時間後に終了する9次いで反応生成物は混合物
を濃縮し、その残留分を塩化メチレン/水中に分配しか
つ溶剤を減圧下に留失することにより単離することがで
きる。
さらに1式■の化合物は、弐Iのトリカルボニル化合物
を式: R3−az o−yy6の相応するアルコキシ
ルアミンと適当な溶剤中で反応させることにより得るこ
とができる。適当な反応温度は一般に15〜70℃であ
る。この場合には、アルコキシルアミンは水溶液の形で
使用することもできる。別の反応成分のためのその都度
の使用溶剤に基づき、1又は2相の反応混合物が得られ
る。
この反応のための適当な溶剤は1例えばアルコール例え
ばメタノール、エタノール、イソプロパツール、シクロ
ヘキサノール、場合により塩素化された炭化水素1例え
ばヘキサン、シクロヘキサン、塩化メチレン、トルエン
、ジクロルエタン。
エステル例えば酢酸エチルエステル、ニトリル。
例えばアセトニトリル、環式エーテル、例えばテトラヒ
ドロフランである。
式Iの化合物のアルカリ金属塩は、該化合物を水酸化ナ
トリウム又はカリウム、又はナトリウム又はカリウムア
ルコラードで水溶液中で又は有機+1i1J、nえばメ
タノール、エタノール、アセトン。
トルエン中で処理することにより得ることができる。
別の金属塩1例えばマンガン、銅、亜鉛、鉄。
カルシウム、マグネシウム及びバリウム塩は、ナトリウ
ム塩から常用で、同様にアンモニウム及びホスホニウム
塩は水酸化アンモニウム、−ホスホニウム、−スルホニ
ウム又は−スルホキソニウムから製造することができる
。
式■のトリカルボニル化合物は一般に公知である。これ
らは例えば相応するシクロヘキサン−1゜°3−ジオン
(F/)又は(IV&)又は(F/b) :RI   
ORI   OHRI   0(IV)       
       (Iゾa)             
(IV&)から公知方法で製造することができる〔テト
ラヒドロン・レターズ(Tetrahydron Le
tters ) 29 。
2491(1975) )。
従って、これらはまた、化合物(F/)のアシル化の際
に場合により異性体混合物として生成しかつイミダゾー
ル又はピリジン誘導体の存在下に転移させる(特公昭5
4−63Q52号公報)エノールエステルの中間段階を
介して製造することができる。
式(■)の化合物には、同様に以下の反応工程図で表わ
されるような公知方法で到達することかできる: □ ・1′[。
4−0HO 次に実施例で式Iのシクロヘキセン誘導体の製法を説明
する。
実施例 2−ブチリル−3−ヒドロキシ−5−(テトラヒドロチ
オピラン−3−イル)−シクロ)キモ−2−エン−1−
オン2.82 g (10ミリモル)をテトラヒドロフ
ルー2−イル−メトキシアミン塩酸塩1.69 g (
11ミリモル)及び炭酸水素ナトリウム0.93 g 
(11ミリモル)と−緒にメタノール20−中で25℃
で12時間攪拌した。この混合物を濃縮し、ジクロルメ
タンで回収しかつ水で振り出した。乾燥したジクロルメ
タン溶液の濃縮後、粘性油状物として3−ヒドロキシ−
2−(1−テトラヒドロフルー2−イルメトキシイミノ
ブチル)−5−(テトラヒドロチオピラン−3−イル)
−シフ四ヘキセー2−エンー1−オン3.1 g(8,
1ミリモル)が得られた: 計算値: 062.96  H8,19N 3.67実
測値: 063.OH7,9N 4.1別の本発明によ
るシクロヘキセノンは、以下の表に記載する。この場合
A NYは以下の意味を有する: A=2−フリル B=テトラヒドロ7ランー2−イル 0=1,3−ジオキソラン−2−イル n=2−フェニル−1,3−ジオキソラン−2−イル に:2,2−ジメチ/l/−1,3−ジオキソラン−4
−イル ?=4.5−ジメチルー1.3−ジオキソラン−2−イ
ル G=2−ビニル−1,3−ジオキソラン−4−イル m=3−フェニル−インキサシ−ルー5−イル1=3−
メチル−イソキサゾール−5−イルに=3−メトキシメ
チル−イソキサゾール−5−イル I+=5−クロルチェソー2−イル N=3.5−ジクロルナエン−2ーイル0=2.5−ジ
クロルナエン−3ーイルP:2,3−ジクロルチェジ−
4−イルQ= m=2−イソプロピル−1.3.4−オキサジアゾール
−5−イル 5=2−メチル−1.3.4−チアジアゾール−5−イ
ル m=5−クロル−1.2.3−チアジアゾール−4−イ
ル □):    U=チェンー2−イル ■=チェンー3ーイル m=5−プロムチエン−2−イル X=4−プロムチエン−2−イル m=5−プロムチエン−3−イル IH−NMR  スペクトルは0DGI,中で内部標準
としてTM8を用いて測定した。表中,s=単線,(1
=二重線,1=三重線, q=四重線及びm=多重線を
表わす。
−  山  −1  ツ  >  −  冨  χ  
0  −  σガ ♂ 吟  H〜  −− り一ロq聞島Oシl−1kl− ♂ 工  工  工  工  罵  大  工  工  ×
  f  図上 ! 八 Iへ 」 )、1.       p 」 +r11 ト 101+Q)01   ロ  −NW’J4C@−一一
   −〜  〜  〜  〜  〜  〜  〜真 
 寓  011+(r   頗  リ  h   −+
ガ χ 閑  工  傾  工  エ  工  側  工   
     工ζ 37   4−メチ7−tトラヒドーヒ°ラン   H
ち4     L−3−イル 33     #                 
 l(#        M3S   3−メチルテト
ラヒドロピラン   HIf       L−4−イ
ル 4Q      #                
  H#        M41     #    
              Hn−C,%    X
542    y                 
 HN        M2S   2−メチルテトラ
ヒドロピラン   H#       L−4−イル 44     ty                
 HIf       M45     p     
            H//       H46
tt                 Htp   
    K47     N            
     H/l       T四   0へ呻 −1−1真  −真  臣  勇      ロ  θ
  目ガ ロ 1     築   篭  職    職   ζ  
概      職  篭   職制 閃    襄  82   ミ    工  閣  閑
     ミ  工  ミW     ?   If)
   II)     1oIf’)   10   
   10  10  11’)58   テトラヒト
もチオヒヲンー3−イル )i       n−(:
!3E。
59     M                H
IF60     #               
 H/F61     #             
   H〃62     #            
   li        p63     If  
              lli        
y64     #                
H#65     #               
 Hp66     #              
  If        #倉 o   o、S7(t);a、93(s);s、9s(
a)67  テトラヒドーチオビヲンー3−イル Hn
−03馬  P68    IF          
      H#       Q69    /l 
                 H#      
  RフOr                  H
#        S71   1         
         H#        T72 テト
ラヒドロチオヒヲンー4−イルH#       L’
/3    #                H#
       N74    If         
       HII       N75    #
                  H#     
   0762.6−シメチルデトラヒドーチオ H/
/       Aピラン−3−イル 77    IF                 
H#       B−!”5Qn− o、92(t):+、9a(s)ニア、23(s)o、
55(t);+、93(s);6°、92(s);7.
06(s) ビラン−3−イル 80#               HN31   
  /’               H/f82 
    #               H#83 
  1.1−ジオキソ−テトラヒトOH/Fチオヒラン
ー3−イル 84    7F               H/
F85     /’               
H/186     #              
 H/FL   O,96(t);3.5(m);5.
0?(a);6.8.Mm)87   テトラヒドロ7
ランー3−イル   Hn−03Hy   P88  
   If                 H//
       Qf39     tt       
           HIfI+90     # 
                H/F      
 M91   2−メチルデトラヒドロ7ランー  H
/F       L3−イル 92     #                 
H/l       M932.5−ジメチルテトラヒ
ト−H#      M7ランー3−イル g4     //                
Hp       L95   2−メトキシメチジ1
tトラヒドロ  H//        I+7ランー
3−イル 96   2−メトキシメチダL+)ラヒドロ  Hn
−03Ey    N97   テトラヒトロチエン−
3−イル   H/F       P98     
#                 H//    
   Q。
99     N                 
HN       L100#           
      H/F       M101//   
              HON5    171
02    #                 H
#       V103    //       
          H/’       LiO2#
                 H#      
 N105    /f              
   H#       N106   B、2−ジメ
チルテトラヒドロ   Hn−034lチエン−3−イ
ル o、95(t);4.97(s);7.xs(s)o、
95(t);4.94(s);6,5a(s);7.o
3(s)7.34(m) 107  2.2−ジメチルテトラヒドロ   H!l
−03HFチェンー3−イル 108#               H#109#
               H#110    #
               H0Hs111   
 #               Hp112   
 #               li      
tp113    ty              
 fl      #114 3−ヒ1ジル     
        H〃115/F          
     H#116#              
 H#工 工 工 L   1.16(t);2.9(q);5.1(s)
117   3−ヒ)ノジル            
  H(耳e  Hll      M118   ’
l’              Hn−03%   
Q119    ff               
  H#        工120    /F   
              H#       L:
B211,3−ジ四嗜4ソ勺/−5−イル  H、f 
       L’1!2  2−メチル−1,3−ジ
オキセ   H#       Lパン−5−イル 124    N                H
7B125   7F               
 H#       0o、9s(t);1.55(q
):5,1(a)一      − の      の N      〜 1o1 o      。
I:1   閏  勲  Oト  H−−冨  ミ  
ロ  内杓 、也 P−1℃ M   I+Is   S   S   s   r4
   r4   FI   PIl+LA■ ■ 〜 一                     〇〇σ
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  ズ、Ω の 、夜 Sヤ 一−M   P−I   M       l−I  
   F4−1−1  −149    IF    
             HN150#      
          H/F151    IF   
              H#152    # 
                H/F153   
 #                 H#154 
   #                H#155
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−〇 aP      悶  ω  −−罵  −224? 1        k    職   靴   麹  
     職   概       篭   坂頴  
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    閑  工′:A  −凄  χ  〇  −凄
  ミ鍔 閑        ミ  ミ      閤  閤  
1) 工  閃  閑の ()If)   Q t−DJ −ス  md2   χ  ¥      σ  シヱ
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   工  ニー   阿   )    Her> 
   OF    H工    閤    χ    
エ  ミ  工    寓    ミ作用 式■のシクロヘキセノン誘導体は、禾本科植物類に対し
て極めて良好な除草性有効物質である。
これらは広葉類栽培植物に対しては相容性であり、ひい
ては選択性である。
式にて示される除草剤は、例えば直接的に噴霧可能な溶
液、粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性、油性又はそ
の他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油性分散液、
ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形゛で噴震、ミ
スト法、ダスト法、散布法又は注入法によって適用する
ことができる。
適用形式は、完全に使用目的に基いて決定される;いず
れの場合にも、本発明の有効物質の可能な限りの微細分
が保証されるべきである。
直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト又は油分散液を
製造するために、中位乃至高位の沸点の鉱油留分例えば
産油又はディーゼル油、支にコールタ−油等、並びに植
物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳香族炭
化水素例えばペンゾール、ドルオール、キジロール、パ
ラフィン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換す7
タリン又はその誘導体、例えばメタノール、エタノ−〃
。
プロパツール、ブタノール、クロロフォルム、四塩化炭
素、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、クロルベ
ンゾール、イン7オロン4、強am溶剤例えばN、N−
ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフオキシ′ド、
N−メチルピロリドン及び水が使用される。
水性使用形は乳濁液濃縮物、ペースト又は湿潤可能の粉
末(噴射粉末)、油分散液より水の添加により製造され
ることができる。乳濁液、ペースト又は油分散液を製造
するためには、物質はそのまま又は油又は溶剤中に溶解
して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤により水中に
均質に混合されることができる。しかも有効物質、湿潤
剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場合により溶剤又は
油よりなる濃縮物を製造することもでき、これは水にて
希釈するのに遇する。
聚面活性物質としては次のものが挙げられる=IJ り
二ンスルフオン酸、ナフタリンスル7オyl1,フェノ
ールスルフォン酸のアルカリ塩、アルカリ土類塩、アン
モニウム塩、アルキルアリールスルフオナート、アルキ
ルスルフアート、アルキルスルフア−ト、ジプチルナフ
タリンスルフォン酸のアルカリ塩及びアルカリ土類塩、
2ウリルエーテルスル7アート、脂肪アルコールスルフ
アート、脂肪酸アルカリ塩及びアルカリ土類塩、硫酸化
ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノー
ルの塩、硫酸化脂肪アルコールグリコールエーテルの塩
、スルフォン化ナフタリン又はナフタリン誘導体とフォ
ルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフタ
リンスルフォン酸とフェノール及びフォルムアルデヒド
との縮合生成物、ポリオキシエチレン−オクチルフェノ
ールエーテル、エトキシル化インオクチルフェノール、
オクチルフェノール、ノニルフェノール、アルキルフェ
ノ1(−ルポリグリコールエーテル、トリフチル7エ二
ルボリグリコールエーテル、アルキルアリールポリエー
テルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂肪アル
コールエチレンオキシド−縮合物、エトキシル化ヒマシ
油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、エトキシル
化ポリオキシプロピレン、ラクリルアルコールホリグリ
コールエーテルアセタール、ソルビットエステル、リグ
ニン、亜硫酸廃液及びメチル繊維素。
粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と固状担体物質
とを混合又は−緒に磨砕することにより製造されること
ができる。
粒状体例えば被覆−1透浸−及び均質粒状体は、有効物
質な固状担体物質に結合することにより製造されること
ができる。固状担体物質は例えば鉱物上例えばシリカゲ
ル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、−滑石、カリオン、アタ
クレ、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土
、粘土、白雲石、珪礫土、硫酸カルシクム、硫酸マグネ
シウム、酸化マグネシウム、踏枠合成樹脂、肥料例えば
硫酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウ
ム、:尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、衝風、木材
及びクルミ穀扮、繊維素粉末及び他の固状担体物質であ
る。
使用形は有効物質o、i乃至95重量%、ことに0.5
乃至900重量部含有する。
製剤例は以下の通りである。
1.90重量部の化合物61をN−メチル−α−ピロリ
ド710重量部と混合する時は、極めて小さい滴の形に
て使用するのに適する溶液が得られる。
If、 10重量部の化合物61を、キジロール90重
量部、エチレンオキシド8乃至10モルをオレイン酸−
N−モノエタノールアミド1モルに附加した附加生成物
6重量部、ドデシルペンゾールスルフォン酸のカルシウ
ム塩2重量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ油
1モルに附加した附加生成物2重量部よりなる混合物中
に溶解する。
1.20重量部の化合物36を、シクロヘキサノンsu
n量s、インブタノール30重量部、エチV7オキシド
7モルをインオクチルフェノール1モルに附加した附加
生成物5重量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ
油1モルに附加した附加生成物5重量部よりなる混合物
中に溶解する。
■、20重量部の化合物63を、シクロヘキサノール2
5重量部、沸点210乃至280℃の鉱油留分65重量
部及ヒエチレンオキシド40モルをヒマシ油1モルに附
加した附加生成物lO重量部よりなる混合物中に溶解す
る。
v、sox量部の化合物63を、ジイソブチル−ナフタ
リン−α−スルフォン酸のナトリウム塩3重量部、亜硫
酸−廃液よりのりゲニンスルフォン酸のナトリウム塩i
on量部及び粉末状珪酸ゲ/L/7重量部と充分に混和
し、且つ71ンマーミル中に於て磨砕する。
V1,  5重量部の化合物36を、細粒状カオリン9
5重量部と密に混和する。かくして有効物質5重量−を
含有する噴霧剤が得られる。
■、30x量部の化合物63を、粉末状珪酸ゲル92重
量部及びこの珪酸ゲルの底面上に吹きつげられたパラフ
ィン油8重量部よりなる混合物と密に混和する。かくし
て良好な接着性を有する有効物質の製剤が得られる。
1.40重重部の化合物61を、フェノールスルフォン
酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮合物のすトリウム塩
lO重量部、珪素ゲ# 2 z置部及び水48重量部と
混合する。かくして安定した水性分散液が得られる。
■、20重量部の化合物36を、ドデシルペンゾールス
ルフォン酸のカルシウム塩12重量部、脂肪アルコール
ポリクリコールエーテル8重1部、フェノールスルフォ
ン酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮合物のす) IJ
ウム塩塩型重量部びパラフィン系鉱油68重量部と密に
混和する。安定な油状分散液が得られる。
本発明による有効物質を含有する薬剤の適用は、発芽前
処理法又は発芽後処理法で行なうことができる。特定の
栽培植物に対して有効物質の相容性が低い場合には、除
草剤を噴霧器を用いて、敏感な栽培植物の葉にはできる
だけ当らず、一方有効′ 物質がその下で生長した好ま
しからぬ植物又は露:1111.  出した土壌面に達
するよう噴霧する散布技術(ポスト・ダイレフテッド、
レイ−バイ法〕を適用することもできる。
有効物質の施用は、季節、目的植物及び生長段階に基づ
いてU、Ll5〜5 kIVha 1有利にはL1,1
〜3)qj/h aである。
植物生長に対する式Iのシクロヘキセノン霞導体の作用
を温室実験によって示す。
栽培容器としては、容積30(l cdを有しかつ培養
土として腐植土約3.0sを有するローム砂を有するプ
ラスチック製植木鉢を使用した。試験植物の種を種類毎
に分けて浅く播種した。発芽前処理法においては、有効
物質を播種直後に土壌面に散布した。この場合、有効物
質を分配剤としての水中に分散又は乳化させかつ微細分
ノズルを用いて噴 。
霧した。施用量は0.25.0.5及び3.0Vhaで
あった。
薬剤の散布した後に、発芽及び生長を促進するために、
容器に軽(水をまいた。次いで、植物が発芽するまで、
容器に透明なプラスチック裂フードをかぶせた。このお
おいは試験植物が有効物質 ゛によって害されない限り
、該植物の均一な発芽を保証した。
発芽後処理法のためには、試験植物をその都度の生長形
に基づきまず3〜l!1)IIの生長高さになるまで世
話しかつその後初めて処理した。発芽後処理法のために
は、直接播種しかつ同じ容器で生長した植物を選択する
か、又はまず苗として別に生育させかつ処理の数日前に
試験容器に移植した。
発芽性処理法のための施用量は有効物質0.25.0.
5及び3k17haであった。発芽性処理法のためには
、おおいは行なわなかった。
実験容器を温室に入れた。その際高温を好む種のために
は高温範囲(20〜35℃)をかつ程度の気候を好む種
のためには10〜25℃に調節した。
実験期間は2〜4週間であった。この期間中、植物の世
話をしかつその個々の処理に対する反応を評価した。0
〜100のスケールで評価した。この場合、100は植
物が発芽しないか又は少1;りとも地上部分の完全な枯
死を表わす。
温室実験で使用した植物は以下の品種から構成されてい
た: 和 名       ラテン塩 オートムギ   Av@na 5alivaイヌビエ 
   Echlnoehloa arus−galll
ネズミムギ   Lolium multiflora
mハツカ     M@ntha pip*ritim
シナビス・アルパ   5inapis  m1baム
ラサキウマゴヤシ MsdicmgOロt1マaオオム
ギ    Hord@um vu1gareトウモロコ
シ  Zea mays カラスムギ   ムマ・na fatuaコアワ   
  8etaria、ltalicm発芽後処理法にお
いては、実施例化合物A61及び36は禾本科植物に対
して除草剤として有効であり、一方双子葉植物の代弄的
植物とし℃のシロガラスは全く薬害を受けなかった。
発芽後処理法においては、実施例化合物ムロ1及び36
で種々の雑草を極めて良好に防除されたが、ハツカでは
何らの薬害の徴候も生じなかった。
ウマゴヤシにおいて廃棄栽培植物を含むこともある好ま
しからぬ禾本科類植生の防除は、例示栽培植物に薬害を
及はすことなく、実施例化合物ムロ1及び63で可能で
ある。
雑草防除に対する検出されうる作用スペクトル、栽培植
物に対する相容性又はその生長の好ましからぬ影響並び
に施用法の多様性に基づき、本発明による化合物は多数
の栽培植物で使用することができる。
例えば以下の栽培植物が該当する: タマネギ(AAlllu 6@P& )パイナツプル(
ムnanas aomosus )テンキンマメ(ムr
aahim hypoga*a )アスパラガス(As
paragus offlcinalig )フダンソ
ウ(B@ta vtslgaris spp、 alt
iamlmm)サトウジシャ(Beta vulgar
la lPP−rapa)アカテンサイ(B@ta v
ulgrim app、 emculenta)ブラシ
ー力 ナパス(変種ナバス) (Braaaica napus vhr、 napu
a)゛    ブラシー力 ナパス(変種ナボプラシー
カ))[ G               (Br畠5aia息
 napum  マar、n畠pobrasxicリブ
ラシーカ ナパス(変種ラバ) (Brassiea napus v&r、 rapa
)ブラシー力 ナバス(変株シルベストリス)’  (
Brassiea napui var、a口vest
r1m)トウツバキ(Camellia 5lnens
is )ベニバナ(Cirthamus tlncto
rium )キャリヤ イリノイネンシス (Caryi  1111noin++nm1s  )
マルプシュカン(CltyIlimon )グレープフ
ルーツ(引tru畠maz1mm )ダイダイ(01t
rus retlenlata )ナラミカン(01t
rus sin*asim )コーヒーツキ(: Co
ffea arabicm(C!offeacanep
hora、Coffea lib@riea))アミメ
ロン(Cuaumla mole )キュウリ(Ouc
umla aatlvu*ノギョウギシバ(Cynod
on dactylon )ニンジン(Daucui 
”carota )アプラヤミ(F21aeis gu
ins*n1m )イチビ(Fragarla v*s
ea )大豆(Glycln* max ) 木綿(Goaaypium hirmutum(Gos
ayplum 。
arbor@um 、  Goaaypium  h@
rbaeeum 。
Gossypit+mマitifolium))ヒマワ
リ(Hsllanthus annuus )キクイー
E: (Halianthu@tub@rosum )
ゴムツキ(Rave&brasiliensis )大
麦(Hordeum vulgars )カラハナソウ
(Hunsulua 1upulua )アメリカイモ
(Ipomoca batatas )オニグルミ(J
uglans r@gim )ラクチュカ・プテイバ(
Lactuca 5ativa)レンズマメ(Lens
 cullnarim )アマ(Linum ualt
atimsimum )ト マ ト  (Lyaop@
riicon   1yeop @rglcum  )
リンゴ属(Malumすp) キャラサバ(Manlhoj emculenta )
ムラサキウマゴヤシ(M@dLeago 5atlva
 )ハツカ(Mentha pip@rita )バシ
ョウ属(Musa畠pp、) タバコ(Nlaotimn−a tabaeum (N
、rustlca )〕。
オリーブ(01ea europaea )イネ(0r
yza 5ativi ) アズキ(Phaseolua 1t+natus )サ
サゲ(Phaaeolua mungo )ゴガツササ
ゲ(Phaseolua vulgarim )パセリ
(I’ennimstum glaucum )ペトロ
セリクム クリスパス (変種チュベロサムン (P@trossllnum erispum app
、 tub@rosun )トウヒ(Picea ab
ies ) モミ(Ables alha ) マツ属(Plnus 5pp−) シロエントウ(FLsum aatlvum )サクラ
(Prunua avlurn )アンス(Prunu
m dom*atica )プルヌス ダルシス(Pr
unum dulcis )モモ(prunu烏per
s1cm )ナシ(Pyrum comrnunlm 
)サグリ(Rlbes mylv*5tra )サンザ
シ(Rlbei uva −crispm )トウゴ’
T (Eicinum com+nunim )サトウ
キビ(Saacharum offlelnarum 
)ライムギ(5eeale cereals )ゴム(
S@samum indicum )ジャガイモ(So
lanum tub@rosam )ツルガム・ドツチ
ュナ(Sorghum dochna)ホウレンソウ(
8pinaaia oleraesa )カカオツキ(
Theobroma cacao )ムラサキツメフサ
(Trifolium pratense )小麦(T
ritiaum a*atlvum )イワツツジ(V
acolnium corymbosum )コケモモ
(Vaceinlum vitla −1daea )
ソウマメ(Viaia faba ) ビグナ シネンシス(変種ウングイキュラータ)(Vi
gna sin*n5is (V、unguict+1
ata)]ブドウ(Viti@vlnifera )ト
ウモロコシ(20a mays ) 作用ベクトルを改良しかつ相乗効果を達成する、、、 
 ために、本発明による新規有効物質は、別の除草””
  iよ、、□□。工。□。ケア、1イしかつ一緒に散
布することかできる。混合成分の例としては、ジアジン
、4H−3,1−ベンゾオキサジン誘導体、ベンゾチア
ジアジノン、2.6−シニトロアニリン、N−フェニル
カルバメート、チオールカルバメート、ハロゲンカルボ
ン酸、トリアジン、アミド、尿素、ジフェニルエーテル
、ドリアジノン、ウラシル、ベンゾフラン霞導体、キノ
リンカルボン酸及びその他の群から成る化合物が該当す
る。
さらに、式Iのシクロヘキセノン誘導体又は該誘導体を
含有する除草剤それたけ又は別の除草剤と組合せたもの
をなお別の植物保護剤、例えば害虫又は植物病原性真菌
類又はmwiを防除する薬剤と混合して一緒に散布する
のが有利な場合もある。
さらに、栄養分及び微量元素不足を補充するために使用
される鉱物塩溶液との混合可能性も重要である。また、
非植物性油及び油製線切を添加することもできる。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 R^1は水素原子又は2〜5個の炭素原子を有するアル
    コキシカルボニル基を表わし、 R^2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
    し、 R^3は5員の複素環を表わし、該複素環はN、O、S
    の群から選択される1〜3個の複素原子、場合により2
    個までの二重結合及び場合によりC_1_−_4−アル
    キル基、C_1_−_4−アルコキシ基、ハロゲン原子
    、トリフルオルメチル基、C_1_−_4−アルコキシ
    メチル基、C_1_−_4−アルキルチオメチル基、ビ
    ニル基又はフェニル基の群から成る2個までの置換基を
    含有し、 R^4は1又は2個の同じか又は異なった複素原子、又
    はN、O、S、SO及びSO_2の群から選択される環
    員、及び場合により3個までの2重結合を含有し、かつ
    場合により夫々1〜、4個の炭素原子を有する最高2個
    のアルキル基又はアルコキシ基によって置換されていて
    もよい5〜7員の複素環、又は式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基又は式IIa: ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) で示される基を表わし、上記式中X及びYは夫々N、O
    、S、SO又はSO_2を表わす〕で示されるシクロヘ
    キセノン誘導体及び該化合物の塩。
  2. (2)式 I 中のR^3が、フラン−2−イル、テトラ
    ヒドロフラン−2−イル、1,3−ジオキソラン−2−
    イル、2−フェニル−1,3−ジオキソラン−2−イル
    、2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル
    、4,5−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−イル
    、2−ビニル−1,3−ジオキソラン−4−イル、3−
    フェニル−イソキサゾール−5−イル、3−メチル−イ
    ソキサゾール−5−イル、3−メトキシメチル−イソキ
    サゾール−5−イル、5−クロルチエン−2−イル、2
    −クロルチエン−3−イル、3,5−ジクロルチエン−
    2−イル、2,5−ジクロルチエン−3−イル、2,3
    −ジクロルチエン−4−イル、2−クロルチエン−4−
    イル32−イソプロピル−1,3,4−オキサジアゾー
    ル−5−イル、2−メチル−1,3,4−チアジアゾー
    ル−5−イル、5−クロル−1,2,3−チアジアゾー
    ル−4−イル、チエン−2−イル及びチエン−3−イル
    を包含する群から選択される置換基を表わす、特許請求
    の範囲第1項記載の化合物。
  3. (3)式 I 中のR^4が、テトラヒドロピラン−3−
    イル、テトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチ
    オピラン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−4−イ
    ル、テトラヒドロフラン−3−イル、テトラヒドロチエ
    ン−3−イル、ピリド−3−イル、1,3−ジオセパン
    −5−イル、上記式IIaによるテトラヒドロ−ピラノ−
    ピラニル、式IIaによるテトラヒドロチイノ−チイニル
    、式IIによるヘキサヒドロピラノピラニル及び式IIによ
    るヘキサヒドロチイノチイニルを包含する群から選択さ
    れる置換基を表わす、特許請求の範囲第1項記載の化合
    物。
  4. (4)式 I 中のR^3がチエン−2−イル又はチエン
    −3−イルを表わし、これらは夫々1又は2個の塩素原
    子によって置換されていてもよい、特許請求の範囲第1
    項記載の化合物。
  5. (5)一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 R^1は水素原子又は2〜5個の炭素原子を有するアル
    コキシカルボニル基を表わし、 R^2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
    し、 R^3は5員の複素環を表わし、該複素環はN、O、S
    の群から選択される1〜3個の複素原子、場合により2
    個までの二重結合及び場合によりC_1_−_4−アル
    キル基、C_1_−_4−アルコキシ基、ハロゲン原子
    、トリフルオルメチル基、C_1_−_4−アルコキシ
    メチル基、C_1_−_4−アルキルチオメチル基、ビ
    ニル基又はフェニル基の群から成る2個までの置換基を
    含有し、 R^4は1又は2個の同じか又は異なった複素原子、又
    はN、O、S、SO及びSO_2の群から選択される環
    員、及び場合により3個までの2重結合を含有し、かつ
    場合により夫々1〜4個の炭素原子を有する最高2個の
    アルキル基又はアルコキシ基によって置換されていても
    よい5〜7員の複素環、又は式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基又は式IIa: ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) で示される基を表わし、上記式中X及びYは夫々N、O
    、S、SO又はSO_2を表わす〕で示されるシクロヘ
    キセノン誘導体を製造する方法において、式III: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、R^1、R^2及びR^4は前記のものを表わ
    す〕で示されるトリカルボニル化合物を (a)式:R^3−CH_2O−NH_3Y(式中、R
    ^3は前記のものを表わしかつYは陰イオンを表わす)
    で示されるアンモニウム化合物と、不活性希釈剤中で、
    場合により水の存在下に、0〜80℃の温度で塩基の存
    在下に反応させるか又は (b)場合により水溶液中に存在する、式:R^3−C
    H_2O−NH_2(式中、R^3は前記のものを表わ
    す)で示されるヒドロキシルアミンと、不活性溶剤中で
    反応させることを特徴とするシクロヘキセノン誘導体の
    製法。
  6. (6)一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 R^1は水素原子又は2〜5個の炭素原子を有するアル
    コキシカルボニル基を表わし、 R^2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
    し、 R^3は5員の複素環を表わし、該複素環はN、O、S
    の群から選択される1〜3個の複素原子、場合により2
    個までの二重結合及び場合によりC_1_−_4−アル
    キル基、C_1_−_4−アルコキシ基、ハロゲン原子
    、トリフルオルメチル基、C_1_−_4−アルコキシ
    メチル基、C_1_−_4−アルキルチオメチル基、ビ
    ニル基又はフェニル基の群から成る2個までの置換基を
    含有し、 R^4は1又は2個の同じか又は異なった複素原子、又
    はN、O、S、SO及びSO_2の群から選択される環
    員、及び場合により3個までの2重結合を含有し、かつ
    場合により夫々1〜4個の炭素原子を有する最高2個の
    アルキル基又はアルコキシ基によって置換されていても
    よい5〜7員の複素環、又は式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基又は式IIa: ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) で示される基を表わし、上記式中X及びYは夫々N、O
    、S、SO又はSO_2を表わす〕で示されるシクロヘ
    キセノン誘導体を含有する除草剤。
  7. (7)不活性添加物及び一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 R^1は水素原子又は2〜5個の炭素原子を有するアル
    コキシカルボニル基を表わし、 R^2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
    し、 R^3は5員の複素環を表わし、該複素環はN、O、S
    の群から選択される1〜3個の複素原子、場合により2
    個までの二重結合及び場合によりC_1_−_4−アル
    キル基、C_1_−_4−アルコキシ基、ハロゲン原子
    、トリフルオルメチル基、C_1_−_4−アルコキシ
    メチル基、C_1_−_4−アルキルチオメチル基、ビ
    ニル基又はフェニル基の群から成る2個までの置換基を
    含有し、 R^4は1又は2個の同じか又は異なった複素原子、又
    はN、O、S、SO及びSO_2の群から選択される環
    員、及び場合により3個までの2重結合を含有し、かつ
    場合により夫々1〜4個の炭素原子を有する最高2個の
    アルキル基又はアルコキシ基によって置換されていても
    よい5〜7員の複素環、又は式II: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基又は式IIa: ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) で示される基を表わし、上記式中X及びYは夫々N、O
    、S、SO又はSO_2を表わす〕で示されるシクロヘ
    キセノン誘導体を含有する除草剤。
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