JPS61114403A - Composition for metalization - Google Patents

Composition for metalization

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Publication number
JPS61114403A
JPS61114403A JP23651784A JP23651784A JPS61114403A JP S61114403 A JPS61114403 A JP S61114403A JP 23651784 A JP23651784 A JP 23651784A JP 23651784 A JP23651784 A JP 23651784A JP S61114403 A JPS61114403 A JP S61114403A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal layer
metallized metal
ceramic body
composition
metallized
Prior art date
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Pending
Application number
JP23651784A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
佐川 信和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
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Publication of JPS61114403A publication Critical patent/JPS61114403A/en
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks

Landscapes

  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はセラミック体にメタライズ金属層を形成するた
めのメタライズ用組成物に関し、より詳細には電子部品
ζこおける外部リード端子がロウ付けされるメタライズ
金属層の形成に使用されるメタライズ用組成物に関する
ものである。
Detailed Description of the Invention (Industrial Field of Application) The present invention relates to a metallizing composition for forming a metallized metal layer on a ceramic body, and more specifically, to a metallizing composition for forming a metallized metal layer on a ceramic body, and more specifically to a metallizing composition for forming a metallized metal layer on a ceramic body. The present invention relates to a metallizing composition used for forming a metallized metal layer.

(従来の、技術) 従来、セラミックは電気絶縁性、化学的安定性等の特性
に優れていることから半導体素子を収納する工Cパフケ
ージや回路配線を有する回路基板等の電子部品に多用さ
れてtす、セラミック体の表面には外部リード端子がロ
ウ付けされるメタライス金属層が被着形成されている。
(Conventional technology) Conventionally, ceramics have excellent properties such as electrical insulation and chemical stability, so they have been widely used in electronic components such as puff cages that house semiconductor devices and circuit boards with circuit wiring. A metal rice layer to which external lead terminals are brazed is formed on the surface of the ceramic body.

かかるセラミック体表面のメタライズ金属層は、通常、
タングステン(W)、マンガン(Mn )等の高融点金
属粉末に有機バインダー及び有機溶剤を添加し、ペース
ト状と成したものを生セラミツク体表面にスクリーン印
刷により被着させ、しかる后前記生セラミック体を還尤
雰凹気中で焼成し、高融点金属とセラミック体とを焼結
一体化させることにより作製されて諮り、メタライズ金
属層表面にはロウ材との濡れ性を向上させるため(こニ
ッケル(Ni)めっきが施されている。
The metallized metal layer on the surface of such a ceramic body is usually
An organic binder and an organic solvent are added to high-melting point metal powder such as tungsten (W) and manganese (Mn), and a paste is formed onto the surface of the raw ceramic body by screen printing, and then the raw ceramic body is coated. The metallized metal layer is manufactured by sintering it in a recessed atmosphere and sintering and integrating the high-melting point metal and the ceramic body. (Ni) plating is applied.

(発明が解決しようとする問題点) しかし乍ら、この従来のタングステン(W)等を使用し
たメタライズ金属層は表面にロウ材との濡れ性を向上さ
せるためにニッケル(N1)めっきを施こした場合、セ
ラミック体tこは直接めっきができないこと及びめっき
液の循環が悪いこと等からメタライズ金属層の側面で、
セラミック体表耐近傍部分にはニッケルめっき層を被着
させることができず、ニッケルめっき層とセラミック体
表面との間にわずかな間隙が形成される。そのためこの
間隙の一部に大気中昏こ含まれる水分等が付着すると該
水分がメタライズ金属層及びニッケルめっき層に接触し
て電解質として働き、メタライズ金属層とめつき金属層
との間に両金属のエネルギー準位の相違から電流が流れ
るS:池作用を生じ、その結果、この電池作用によりエ
ネルギー準位が低いメタライズ金属層が除々1ζ溶出し
、金属層表面を変色させることがある。また多数の外部
リード端子が近接してロウ付番すされている電子部品で
は前起メタライズ金属層の溶出りより隣接する外部リー
ド端子が短絡したり、メタライズ金属層が断線したりし
、その結果、電子部品としての機能に支障を来たすとい
う重大な欠点を誘発する。
(Problem to be solved by the invention) However, the surface of this conventional metallized metal layer using tungsten (W) or the like is plated with nickel (N1) to improve wettability with the brazing material. In this case, the ceramic body cannot be plated directly and the circulation of the plating solution is poor, so the side surface of the metallized metal layer is
The nickel plating layer cannot be deposited in the vicinity of the ceramic body surface, and a slight gap is formed between the nickel plating layer and the ceramic body surface. Therefore, when moisture, etc. contained in the atmosphere adheres to a part of this gap, the moisture comes into contact with the metallized metal layer and the nickel plating layer and acts as an electrolyte. Due to the difference in energy levels, a current flows, causing a S:pool action, and as a result, the metallized metal layer with a low energy level is gradually eluted by 1ζ due to this battery action, which may discolor the surface of the metal layer. In addition, in electronic components where a large number of external lead terminals are brazed in close proximity, adjacent external lead terminals may short-circuit or the metallized metal layer may be disconnected due to elution of the pre-formed metallized metal layer. This causes a serious drawback in that it interferes with the function of the electronic component.

(発明の目的) 本発明者は上記欠点に鑑み種々の実験の結果、メタライ
ズ用組成物としてタングステン(W)にモリブデン(M
o)を50重量%以上含有させて詔くと該メタライズ用
組成物により形成されるメタライズ金属層はそのエネル
ギー準位がめつき金属層のものと近似し、メタライズ金
属層及びめっき金属層に水分が付着したとしてもメタラ
イズ金属層は電池作用により溶出することが有効に防止
されることを知見した。
(Object of the Invention) In view of the above-mentioned drawbacks, the present inventor has conducted various experiments and found that molybdenum (M
When o) is contained in an amount of 50% by weight or more, the metallized metal layer formed by the metallizing composition has an energy level similar to that of the plated metal layer, and the metallized metal layer and the plated metal layer are free from moisture. It has been found that even if the metallized metal layer adheres, it is effectively prevented from being eluted by the action of the battery.

本発明は上記知見に基づき、大気中に含まれる水分が付
着したとしても変色や電子部品としての機能に支障を来
たすようなメタライズ金属層の溶出が皆無でかつ外部リ
ード端子等を強固にロウ付けすることが可能なメタライ
ズ金属層を形成することのできるメタライズ用組成物を
提供することをその目的とするものである。
Based on the above findings, the present invention has been developed to firmly braze external lead terminals, etc., without any elution of the metallized metal layer that would cause discoloration or impede the function of electronic components even if moisture contained in the atmosphere adheres. The object of the present invention is to provide a metallizing composition capable of forming a metallized metal layer.

本発明のメタライズ用組成物は外部リード端子を有する
電子部品、具体的tζはハイブリッドIC用配線基板、
ICパッケージ等の外部リード端子をロウ付けするメタ
ライズ金属層の形成に好適に使用される。
The metallizing composition of the present invention is an electronic component having an external lead terminal, specifically tζ is a wiring board for a hybrid IC,
It is suitably used for forming a metallized metal layer to which external lead terminals of IC packages and the like are brazed.

(問題点を解決するための手段) 本発明のメタライズ用組成物はタングステン及びモリブ
デンから成り、モリブデンの含有量が50重量%以上で
あることを特徴とするものである。
(Means for Solving the Problems) The metallizing composition of the present invention is composed of tungsten and molybdenum, and is characterized in that the content of molybdenum is 50% by weight or more.

(実施例) 次に本発明を実施例に基づいて説明する。(Example) Next, the present invention will be explained based on examples.

出発原料として粒径l〜5Bmsのタングステン(W)
及びモリブデン(MO)を下表に示すよう之秤量し、こ
れに有機バインダー、溶剤を添加するとともに混線機で
10時間混練し、メタライズ用ペースト試料を得た。
Tungsten (W) with particle size 1~5Bms as starting material
and molybdenum (MO) were weighed as shown in the table below, an organic binder and a solvent were added thereto, and the mixture was kneaded for 10 hours using a mixer to obtain a metallizing paste sample.

なお、試料番号9は本発明品と比較するための比較試料
であり、従来−搬に使用されているメタライズ用ペース
トである。
Note that sample number 9 is a comparative sample for comparison with the product of the present invention, and is a metallizing paste that has been conventionally used for transportation.

かくして得られたメタライズ用ペースト試料を使用して
アルミナから成る生セラミツク体表面に長さLOa、幅
1.3a+、厚み2Q pryのパターン50個を間隔
1.4 alあけて印刷し、次にこれを還元雰囲気(窒
素−水素雰囲気)中、約1600℃の温度で焼成してセ
ラミック体表面にメタライズ金属層を被着させるととも
に該メタライズ金属層表面に厚みL5μmのニッケルめ
っきを施こした。そして次1こ長さ8fl、幅1ff、
厚さ0.25 al (D 42 A11oyから成る
外部リード端子の一端を銀ロウ(Ag 72%、Ou 
28%)を介してロウ付けし、各外部リード端子間に電
圧17 (1+’)を印加しながらM工I、 −5TD
−883−1004に規定の温湿度サイクル試験を24
0時間(10サイクル)行ない、その後ニッケルめっき
層表面を顕微鏡により観察し、表面が変色しているもの
の数を調べた。
Using the thus obtained metallizing paste sample, 50 patterns of length LOa, width 1.3a+, and thickness 2Q pry were printed at intervals of 1.4 al on the surface of a raw ceramic body made of alumina, and then these were printed. was fired at a temperature of about 1600° C. in a reducing atmosphere (nitrogen-hydrogen atmosphere) to deposit a metallized metal layer on the surface of the ceramic body, and the surface of the metallized metal layer was plated with nickel to a thickness of L5 μm. And the next one is 8 fl in length, 1 ff in width,
One end of the external lead terminal made of 0.25 Al (D 42 A11oy) was soldered with silver solder (Ag 72%, Ou
28%), and while applying a voltage of 17 (1+') between each external lead terminal,
-24 temperature and humidity cycle tests specified in 883-1004
After 0 hours (10 cycles), the surface of the nickel plating layer was observed using a microscope to determine the number of discolored surfaces.

また、同時に各外部リード端子間の絶縁抵抗を測定し、
その平均値を算出した。
At the same time, measure the insulation resistance between each external lead terminal,
The average value was calculated.

尚、外部リード端子間の絶縁抵抗はその初期値を5X1
0(Ω)に設定した。
The initial value of the insulation resistance between the external lead terminals is 5X1.
It was set to 0 (Ω).

上記の結果を下表に示す。The above results are shown in the table below.

O印を付したものは本発明の範囲外のものである。Items marked with an O are outside the scope of the present invention.

(発明の効果) 上記実験結果からも判るよう1こ従来のメタライズ用組
成物を使用したメタライズ金属層は該メタライズ金属層
の溶出による変色率が94%であり、かつ外部リード端
子間の絶縁抵抗もlXl0(Ω)lζまで低下してしま
うの多こ対し、本発明のメタラタングステン面10乃至
30重量%、モリブデン(MO) 70乃至90重量%
から成るメタライズ用組成物を使用したメタライズ金属
層は該メタライズ金属層の溶出による変色の発生が皆無
で、かつ絶縁抵抗の劣化も少なくメタライズ金属層を形
成するメタライズ用組成物として好適である。
(Effects of the Invention) As can be seen from the above experimental results, 1) the metallized metal layer using the conventional metallizing composition has a discoloration rate of 94% due to elution of the metallized metal layer, and an insulation resistance between external lead terminals. In contrast, in many cases, the metalla tungsten surface of the present invention decreases to 10 to 30% by weight and molybdenum (MO) 70 to 90% by weight.
A metallized metal layer using a metallized composition consisting of the following is suitable as a metallized composition for forming a metallized metal layer, as there is no discoloration due to elution of the metallized metal layer, and there is little deterioration in insulation resistance.

したがって、本発明のメタライズ用組成物は電子部品1
こおける外部リード端子がロウ付けされるメタライズ金
属層の形成に極めて有用である。
Therefore, the metallizing composition of the present invention is suitable for electronic components 1.
It is extremely useful for forming metallized metal layers to which external lead terminals are brazed.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)タングステン及びモリブデンから成り、モリブデ
ンの含有量が50%(重量%)以上であることを特徴と
するメタライズ用組成物。
(1) A metallizing composition comprising tungsten and molybdenum and having a molybdenum content of 50% (wt%) or more.
(2)タングステン10乃至30(重量%)及びモリブ
デン70乃至90(重量%)から成る特許請求の範囲第
1項記載のメタライズ用組成物。
(2) The metallizing composition according to claim 1, comprising 10 to 30 (wt%) tungsten and 70 to 90 (wt%) molybdenum.
JP23651784A 1984-11-08 1984-11-08 Composition for metalization Pending JPS61114403A (en)

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JP23651784A JPS61114403A (en) 1984-11-08 1984-11-08 Composition for metalization

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JP23651784A JPS61114403A (en) 1984-11-08 1984-11-08 Composition for metalization

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JPS61114403A true JPS61114403A (en) 1986-06-02

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ID=17001873

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JP23651784A Pending JPS61114403A (en) 1984-11-08 1984-11-08 Composition for metalization

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