JPS6112694A - 有機けい素化合物 - Google Patents
有機けい素化合物Info
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- JPS6112694A JPS6112694A JP59134175A JP13417584A JPS6112694A JP S6112694 A JPS6112694 A JP S6112694A JP 59134175 A JP59134175 A JP 59134175A JP 13417584 A JP13417584 A JP 13417584A JP S6112694 A JPS6112694 A JP S6112694A
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- Japan
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- formula
- hydrocarbon group
- trimethylsiloxy
- monofunctional
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
- C08G77/18—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to alkoxy or aryloxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は文献未載の新規な有機化合物、特には−液型ま
たは二液型の室温硬化性オルガノシロキサン組成物の架
橋剤として有用とされる新規な有機けい素化合物に関す
るものである。
たは二液型の室温硬化性オルガノシロキサン組成物の架
橋剤として有用とされる新規な有機けい素化合物に関す
るものである。
(発明の構成)
本発明忙係わる有機けい素化合物はつぎの一般式
(こ−にHl 、 R2は炭素数1〜8の同Mまたは異
種の1価炭化水素基、工価ハ四グン化炭化水累基、トリ
メチルシロキシ基から選択される基。
種の1価炭化水素基、工価ハ四グン化炭化水累基、トリ
メチルシロキシ基から選択される基。
R3、R4は水素原子または炭素数1〜8の同種または
異種の非置換または置換1価炭化水素基。
異種の非置換または置換1価炭化水素基。
R6は炭素数1〜8の同種または異種の非置換または置
換1価炭化水素基1mは0−1.2または3、nは2.
3または4.’m+nは4または5)で示されるもので
ある。
換1価炭化水素基1mは0−1.2または3、nは2.
3または4.’m+nは4または5)で示されるもので
ある。
このR1−R2−18−R4およびI で示される炭素
数1〜8の1価炭化水素基としてはメチル基−エチル基
、プロピル基−プチル基、オクチル基などのアルキル基
、シクロヘキシル基、シクロペンチル基などのシクロア
ルキル基−ビニル基。
数1〜8の1価炭化水素基としてはメチル基−エチル基
、プロピル基−プチル基、オクチル基などのアルキル基
、シクロヘキシル基、シクロペンチル基などのシクロア
ルキル基−ビニル基。
アリル基などのアルケニル基、フェニル基、キシリル基
などのアリール基、アラルキル基が、またR1− R2
としての1価ハロゲン化炭化水素基につい”Cはクロ日
メチル基−3−クロロブ四ピル基。
などのアリール基、アラルキル基が、またR1− R2
としての1価ハロゲン化炭化水素基につい”Cはクロ日
メチル基−3−クロロブ四ピル基。
3.3.3−)リフルオロプロピル基などがあげられる
。
。
つぎに本発明の有機けい素化台°物を例示するが。
これらはいずれも代表例であり一本発明の有機けい素化
合物はこれに限定されるものではない。なお1例中のM
eはメチル基、Etはエチル基−Prはプレビル基−B
uはブチル基−0ctはオクチル基を示したもの(以下
同じ)である。
合物はこれに限定されるものではない。なお1例中のM
eはメチル基、Etはエチル基−Prはプレビル基−B
uはブチル基−0ctはオクチル基を示したもの(以下
同じ)である。
本発明の有機けい素化合物は例えば式
(こ\にR’ 、 R” 、 m−nは上記と同じ)で
示されるけい素結合水素原子(=siH結合)を含有す
る環状シロキサンと一式 (コ> K R” 、 R’ ハ上記と同シ、 R’
OH,−)’!Rと同じ意味)で示されるα、β−不飽
和エステルとを1式(Ph3P)3RhQ、t(Phは
フェニル基)で示されるウィルキンソン触媒の存在下で
反応させて、上記した81−H結合含有環状シロキサン
にα、β不飽和エステルを1.4−付着することによっ
て得ることができる。この反応におけるSiH結合金有
環状シpキサン(1)とα、β−不飽和エステルin)
との反応モル比((ml/(Ilの81H゛のモル数)
は1以上、好ましくは1.1〜1,2とすることがよく
1反応温度は60〜150℃の範囲とすることが好まし
い。また、この反応は溶媒の存在下で行なうこともでき
、この溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレンある
いはへキサンなどが例示される。
示されるけい素結合水素原子(=siH結合)を含有す
る環状シロキサンと一式 (コ> K R” 、 R’ ハ上記と同シ、 R’
OH,−)’!Rと同じ意味)で示されるα、β−不飽
和エステルとを1式(Ph3P)3RhQ、t(Phは
フェニル基)で示されるウィルキンソン触媒の存在下で
反応させて、上記した81−H結合含有環状シロキサン
にα、β不飽和エステルを1.4−付着することによっ
て得ることができる。この反応におけるSiH結合金有
環状シpキサン(1)とα、β−不飽和エステルin)
との反応モル比((ml/(Ilの81H゛のモル数)
は1以上、好ましくは1.1〜1,2とすることがよく
1反応温度は60〜150℃の範囲とすることが好まし
い。また、この反応は溶媒の存在下で行なうこともでき
、この溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレンある
いはへキサンなどが例示される。
本発明の有機けい素化合物は種々の用途に使用されるが
−これは特にシリコーンゴムの主原料とされる分子鎖両
末端が水酸基で封鎖されたジオルガノシロキサンの架橋
剤として有用であり、これを添加した組成物はシーリン
グ材料、コーティング材料、電気絶縁材料、エラストマ
ーの製造に広く応用することができる。
−これは特にシリコーンゴムの主原料とされる分子鎖両
末端が水酸基で封鎖されたジオルガノシロキサンの架橋
剤として有用であり、これを添加した組成物はシーリン
グ材料、コーティング材料、電気絶縁材料、エラストマ
ーの製造に広く応用することができる。
また−この有機けい素化合物を架橋剤として配合してな
る硬化性シリコーンゴム組成物は、大気中での硬化時に
毒性または腐蝕性をもつガスを放出せず−しかも室温下
での硬化特性にすぐれた一液型または二液型の室温硬化
性オルガノシロキサン組成物を提供する。
る硬化性シリコーンゴム組成物は、大気中での硬化時に
毒性または腐蝕性をもつガスを放出せず−しかも室温下
での硬化特性にすぐれた一液型または二液型の室温硬化
性オルガノシロキサン組成物を提供する。
つぎに本発明の実施例をあげるが、これらは本発明に係
わる有機けい素化合物の代表的な例を示したものであり
一本発明はこれらに限定されるものではない。
わる有機けい素化合物の代表的な例を示したものであり
一本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
環飾冷却器、温度計および滴下ロートを付した50/罰
の三ツロフラスコに、1,3,5.7−テトラメチル−
1,5−ビス(トリメチルシロキシ)シクロテトラシロ
キサン9.8g、クロトン酸メチル9.41およびクロ
ロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム0.01
1iを仕込み、90℃で4時間電磁攪拌下に反応させた
。
の三ツロフラスコに、1,3,5.7−テトラメチル−
1,5−ビス(トリメチルシロキシ)シクロテトラシロ
キサン9.8g、クロトン酸メチル9.41およびクロ
ロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム0.01
1iを仕込み、90℃で4時間電磁攪拌下に反応させた
。
反応後、低留分を留去したところ屈折率(25℃)1.
421の生成物14.zg(収率97.7%)が得られ
たが、このものはIR−NMRおよび元素分析によ皓〕
下記の構造式を有する化合物であることが確認された。
421の生成物14.zg(収率97.7%)が得られ
たが、このものはIR−NMRおよび元素分析によ皓〕
下記の構造式を有する化合物であることが確認された。
工R: 第1図
NMR: δ 0.31 (8,8l−OH3,3
0)()a 1.06 (t、0−0H3、6H)
δ 2.00 ((1,0−CI(2,4H)δ 3
.60 (s、0−C3HB 、 6H)計算
値 38.9 7.8 27.3実測値 3
9.1 7.6 27.0実施例2 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で、1゜3.5.
7−テトラメチル−1,5−ジグロビルシクロテトラシ
ロキサン19.6gとクロトン酸メチル12.6pとを
クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム0.
01gの存在下で実施例1と同じ方法で反応させたとこ
ろ、屈折率(25℃)が1.433の生成物30.6i
収率97.6%)が得られたが、このものはIR−NM
Rおよび元素分析によって下記構造式を有する化合物で
あることが確認された。
0)()a 1.06 (t、0−0H3、6H)
δ 2.00 ((1,0−CI(2,4H)δ 3
.60 (s、0−C3HB 、 6H)計算
値 38.9 7.8 27.3実測値 3
9.1 7.6 27.0実施例2 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で、1゜3.5.
7−テトラメチル−1,5−ジグロビルシクロテトラシ
ロキサン19.6gとクロトン酸メチル12.6pとを
クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム0.
01gの存在下で実施例1と同じ方法で反応させたとこ
ろ、屈折率(25℃)が1.433の生成物30.6i
収率97.6%)が得られたが、このものはIR−NM
Rおよび元素分析によって下記構造式を有する化合物で
あることが確認された。
工R: 第2図
NMp、: δ 0.29 (s、8l−OH3,
12B)δ ・1.10 (t、0−OH、6B)δ
1.98 (ci、0−OH2,4H)δ 3.5
9.(s、〇−0R8,6H)元素分析: Oチ H俤 81% 計算値 45.8 8.4 21.4実測値 45
.7 8.5 21.1実施例3 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
12B)δ ・1.10 (t、0−OH、6B)δ
1.98 (ci、0−OH2,4H)δ 3.5
9.(s、〇−0R8,6H)元素分析: Oチ H俤 81% 計算値 45.8 8.4 21.4実測値 45
.7 8.5 21.1実施例3 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
1.3,5.7−テトラメチル−1,5−ビス(トリメ
チルシロキシ)シクロテトラシロキサン9.7gとクロ
トン酸エチル9.6gとをクロロトリス(トリフェニル
ホスフィン)ロジウムo、oigの存在下に実施例1と
同じ方法で反応させたところ、屈折率(25℃)が1.
420の生成物15.0g(収率99.7%)が得られ
、このものはIR,NMRおよび元素分析によって下記
構造式を有する化合物であることが確認された。
チルシロキシ)シクロテトラシロキサン9.7gとクロ
トン酸エチル9.6gとをクロロトリス(トリフェニル
ホスフィン)ロジウムo、oigの存在下に実施例1と
同じ方法で反応させたところ、屈折率(25℃)が1.
420の生成物15.0g(収率99.7%)が得られ
、このものはIR,NMRおよび元素分析によって下記
構造式を有する化合物であることが確認された。
IR:wJB図
NMR: J O,31、、(a、5i−OH3,
30I()8 1.08 (t、、o−OR、6H)
δ 2.03 (q 、0−OH2,4H)δ 3.
91 (q、0−OH,、4H)元素分析: 0憾 n% 81% 計算値 41゜(1B、1 26.1 、集測値
41.3 7.9 25.9実施例4 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
30I()8 1.08 (t、、o−OR、6H)
δ 2.03 (q 、0−OH2,4H)δ 3.
91 (q、0−OH,、4H)元素分析: 0憾 n% 81% 計算値 41゜(1B、1 26.1 、集測値
41.3 7.9 25.9実施例4 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
1.3,5.7−テトラメチル−1,5−ビス(トリメ
チルシロキシ)シクロテトラシロキサン10.4gとク
ロ≠トン酸ブチル7.2gとをクロロトリス(トリフェ
ニルホスフィン)ロジウム0.01gの存在下で実施例
1と同じ方法で反応させたところ。
チルシロキシ)シクロテトラシロキサン10.4gとク
ロ≠トン酸ブチル7.2gとをクロロトリス(トリフェ
ニルホスフィン)ロジウム0.01gの存在下で実施例
1と同じ方法で反応させたところ。
屈折率(25℃)が1.424の生成物16.2.!i
’(′ 収率92.6%)が得られ、このものは工R
−NMRおよび元素分析によって下記構造式をもつ化合
物であることが確認された。
’(′ 収率92.6%)が得られ、このものは工R
−NMRおよび元素分析によって下記構造式をもつ化合
物であることが確認された。
工R: 第4図
hMR: δ 0.30 (s、8l−OH3,30
H)a 1.06 (t、0−0H3、6H)−δ
2.02 (q、0−OH2、4H)J 3.8
6 (t、0−OH2、4H)元素分析: Oチ H% Si% 計算値 44.5 8.6 24.0実測値 44
.4 8.5 24.3実施例5 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
H)a 1.06 (t、0−0H3、6H)−δ
2.02 (q、0−OH2、4H)J 3.8
6 (t、0−OH2、4H)元素分析: Oチ H% Si% 計算値 44.5 8.6 24.0実測値 44
.4 8.5 24.3実施例5 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
1.3,5,7−テトラメチル−1,5−ビス(トリメ
チルシロキシ)シクロテトラシロキサン10.4gとク
ロトン酸2−エチルヘキシル15.3gとをり目ロトリ
ス(トリフェニルホスフィン)ロジウムo、oigの存
在下に実施例1と同じ方法で反応させたところ、屈折率
(25℃)が1.432の生成物xr、5gc収率86
%)が得られ、このものはIR,NMRおよび元素分析
によって下記構造式を有する化合物であることが確認さ
れた。
チルシロキシ)シクロテトラシロキサン10.4gとク
ロトン酸2−エチルヘキシル15.3gとをり目ロトリ
ス(トリフェニルホスフィン)ロジウムo、oigの存
在下に実施例1と同じ方法で反応させたところ、屈折率
(25℃)が1.432の生成物xr、5gc収率86
%)が得られ、このものはIR,NMRおよび元素分析
によって下記構造式を有する化合物であることが確認さ
れた。
IR: 第5図
NMR: δ 0.25 (S 、 8l−OH
3,30H)δ 0.8〜1.7 (m 、 Oct
、 30B)δ 2.00 Cqa=a−O
H2,4H)δ 3.75 (t、O−0褐 、
4E)元素分析: 0% H係 Si% 計算値 50.2 9.4 20.7実測値 50
.0’9.3 20.8実施例6 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
3,30H)δ 0.8〜1.7 (m 、 Oct
、 30B)δ 2.00 Cqa=a−O
H2,4H)δ 3.75 (t、O−0褐 、
4E)元素分析: 0% H係 Si% 計算値 50.2 9.4 20.7実測値 50
.0’9.3 20.8実施例6 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
1.3,5.7−テトラメチル−1,5−ビス(′トリ
メチルシロキシ)シクロテトラシロキサン10.4gと
メタクリル酸n−ブチル7.3gとをクロロトリス(ト
リフェニルホスフィン)−ジウム0.01gの存在下に
実施例1と同じ方法で反応させたところ、屈折率(25
℃)が1.426の生成物17.0II(収率97,0
%)が得られ、このものはIR,NMRおよび元素分析
によって下記の構造式を有する化合物であることが確認
された。
メチルシロキシ)シクロテトラシロキサン10.4gと
メタクリル酸n−ブチル7.3gとをクロロトリス(ト
リフェニルホスフィン)−ジウム0.01gの存在下に
実施例1と同じ方法で反応させたところ、屈折率(25
℃)が1.426の生成物17.0II(収率97,0
%)が得られ、このものはIR,NMRおよび元素分析
によって下記の構造式を有する化合物であることが確認
された。
lR: 第6図
NMR: δ 0,28 (s t 510Hs
−30H)δ 0.9〜1.5(m、Bu
、14H)δ 1.66 (s 、 =a−a
−aH3,l“2m)δ 3.78 (t、0−O
H2,4H)元素分析: 0% H係 81% 計算値 44.5 8.6 24.0実測値 44
.6 8.3 23.8実施例7 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
−30H)δ 0.9〜1.5(m、Bu
、14H)δ 1.66 (s 、 =a−a
−aH3,l“2m)δ 3.78 (t、0−O
H2,4H)元素分析: 0% H係 81% 計算値 44.5 8.6 24.0実測値 44
.6 8.3 23.8実施例7 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で。
1.3,5.7−テトラメチル−1−トリメチルジキシ
シシクロテトラシロキサン8.7gとクロトン酸メチ/
I/10.3.Fとをりpロトリス(トリフェニルホス
フィン)ロジウム0.01liの存在下で反応させたと
ころ、屈折率(25℃)が1.431の生成物15.6
.j9(収率97.9 % )が得られ、このものはI
R,NMRおよび元素分析によって下記の構造式を有す
る化合物であることが確認された。
シシクロテトラシロキサン8.7gとクロトン酸メチ/
I/10.3.Fとをりpロトリス(トリフェニルホス
フィン)ロジウム0.01liの存在下で反応させたと
ころ、屈折率(25℃)が1.431の生成物15.6
.j9(収率97.9 % )が得られ、このものはI
R,NMRおよび元素分析によって下記の構造式を有す
る化合物であることが確認された。
IRz 第7図
NMR: δ O,’28 (s、8l−OH3,2
1H)a 1.05 (t、0−0H3,9H)δ
1.99 (q 、 a−cH2,6H)δ 3.60
(a、 0−OH,、9H)元素分析: 0% H% 81% 計算値 44.0 8.1 18.7実測値 43
.7 8.2 18.8実施例8 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で、テトラメチル
シクロテトラシロキサン4.8gとりpトン酸n−ブチ
ル11.8.9とをクロ四トリス(トリフェニルホスフ
ィン)ロジウム0.01pの存在下に実施例1と同じ方
法で反応させたところ、屈折率(25℃)が1.442
の生成物1s、sl収率97.6%)が得られ、このも
のはIR,NMR−および元素分析によって下記構造式
を有する化合物であることが確認された。
1H)a 1.05 (t、0−0H3,9H)δ
1.99 (q 、 a−cH2,6H)δ 3.60
(a、 0−OH,、9H)元素分析: 0% H% 81% 計算値 44.0 8.1 18.7実測値 43
.7 8.2 18.8実施例8 実施例1で使用した三ツロフラスコ中で、テトラメチル
シクロテトラシロキサン4.8gとりpトン酸n−ブチ
ル11.8.9とをクロ四トリス(トリフェニルホスフ
ィン)ロジウム0.01pの存在下に実施例1と同じ方
法で反応させたところ、屈折率(25℃)が1.442
の生成物1s、sl収率97.6%)が得られ、このも
のはIR,NMR−および元素分析によって下記構造式
を有する化合物であることが確認された。
IR: 第8図
NMR: δ 0.40 (s 、 8l−OH3
、12H)J O,8〜1.9(m、Bu 、2
8H)δ 1.98 ((L、0−(3H、8H)δ
3.79 (s、0−OH,8H)元素分析: 0% Hチ 81係 計算値 53.4 9.0 13.9、 実測
値 53.2 8.8 14.1
、12H)J O,8〜1.9(m、Bu 、2
8H)δ 1.98 ((L、0−(3H、8H)δ
3.79 (s、0−OH,8H)元素分析: 0% Hチ 81係 計算値 53.4 9.0 13.9、 実測
値 53.2 8.8 14.1
図はいずれも本発明の有機けい素化合物の赤外線吸収ス
ペクトル(rR)を図示したものであり、第1図〜第8
図はそれぞれ実施例1〜8で得られた有機けい素化合物
のIRを図示したものである。
ペクトル(rR)を図示したものであり、第1図〜第8
図はそれぞれ実施例1〜8で得られた有機けい素化合物
のIRを図示したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (こゝにR^1、R^2は炭素数1〜8の同種または異
種の1価炭化水素基、1価ハロゲン化炭化水素基、トリ
メチルシロキシ基から選択される基、R^3、R^4は
水素原子または炭素数1〜8の同種または異種の非置換
または置換1価炭化水素基、R^5は炭素数1〜8の同
種または異種の非置換または置換1価炭化水素基、mは
0、1、2または3、nは2、3または4、m+nは4
または5)で示される有機けい素化合物。 2、R^1がメチル基、エチル基、プロピル基またはブ
チル基、R^2がメチル基、R^3が水素原子またはメ
チル基、R^4、R^5がメチル基またはエチル基であ
る特許請求の範囲第1項記載の有機けい素化合物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59134175A JPS6112694A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 有機けい素化合物 |
| US06/749,174 US4577041A (en) | 1984-06-29 | 1985-06-26 | Cyclic organopolysiloxane compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59134175A JPS6112694A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 有機けい素化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6112694A true JPS6112694A (ja) | 1986-01-21 |
| JPS6348277B2 JPS6348277B2 (ja) | 1988-09-28 |
Family
ID=15122193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59134175A Granted JPS6112694A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 有機けい素化合物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4577041A (ja) |
| JP (1) | JPS6112694A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH027990U (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-18 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4824981A (en) * | 1987-07-06 | 1989-04-25 | Dow Corning Corporation | Process to produce silyl ketene acetals |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2615039A1 (de) * | 1976-04-07 | 1977-10-20 | Bayer Ag | Silylaether und ein verfahren zur initiierung radikalisch auszuloesender polymerisationsreaktionen |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP59134175A patent/JPS6112694A/ja active Granted
-
1985
- 1985-06-26 US US06/749,174 patent/US4577041A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH027990U (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-18 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6348277B2 (ja) | 1988-09-28 |
| US4577041A (en) | 1986-03-18 |
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