JPS61134310A - 望ましい稠度を有するゲル歯磨 - Google Patents

望ましい稠度を有するゲル歯磨

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JPS61134310A
JPS61134310A JP60270578A JP27057885A JPS61134310A JP S61134310 A JPS61134310 A JP S61134310A JP 60270578 A JP60270578 A JP 60270578A JP 27057885 A JP27057885 A JP 27057885A JP S61134310 A JPS61134310 A JP S61134310A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明は、望ましい稠度を有するゲル歯磨に関する。
(従来の技術) 代表的なゲル歯磨は少量すなわち約1−10重量%ばか
りの水と磨き材料を含有する。成核防止剤(αntin
tbcLgαtinσα(Hnt )を含めて調製する
と、最初は薄くて流動的な稠度を示しがちで、48乃至
72時間あるいはそれ以上の時間を経てやっと固まって
望ましい稠度になる。このことは調合ならびに包装を遅
らせ、特に視覚的に透明または乳白化したゲル歯磨部を
有する縞模様入り歯磨の製造を困難にする。
歯磨用に調製される低水分のゲ、ル組成物には、珪素質
磨き剤が頻々使用される。米国特許第3.538,23
0号(ペーダー(Padmr )等)に記載されている
ような、約2乃至20ミクロンの平均粒径お工び一般に
約300 m”/ g以上、代表的には約300−37
0s2/9;hるいは約60〇−800m2/ gの表
面積を有するシリカキセロゲルなどの珪素質磨き剤を含
有する低水分ゲル歯磨は、成核防止剤の存在下で調製す
ると、初期には薄くかつ流動的になりがちである。磨き
剤中に珪素質磨き剤が内部結合したアルミナを約10重
量%まで含有する場合にも、同様な現象が起りがちであ
る。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明では、英国公開特許出願第2.038.303A
号(フエイグ(Ji”gig)等)および同一出願人に
よる係属中の米国特許出願セリアル第576.046号
(1984年2月1日出願)に記載の非晶質シリカゲル
沈澱物を使用する。斯かる材料は、ブレース社(Gra
ea G、悔、b、H,)からサイロブランク(SyL
bLaxc ) 81、サイロブランク81cおよびサ
イロブランク82なる製品として販売されている。これ
は、ダブリュー、アール、ブレース社(W、R,Gra
ea and Co、)からサイロイド(SyLoid
)なる商品名で販売され、特にペーデル等の米国特許第
3.538.230号に記載されているキセロゲル型の
ものとは異なる。実際、サイロブランクなる商品名でブ
レース社(G、m、 b 、H,)が販売している幾徨
かの製品は、以前あるいは今でもサイロイドなる商品名
で入手できるものもあるが、サイロブランク81cまた
はサイロブランク82は、サイロイドなる商品名で販売
されたことはない。
本発明で使用するシリカゲルのグレードは、表面積の増
大をこつれて研磨性が低下するが、これに対し米国特許
第3.538.230号に記載されているシリカキセロ
ゲルのグレードは、一般に表面積が増大するにつれ一層
研磨性に冨むものとなることは、特に注目する必要がめ
る。
本発明は、水和シリカゲル磨き剤を少くとも1個のホス
ホ/基を含有する成核防止剤と組み合せて、望ましい初
期稠度を有する低水分歯磨を提供するものである。斯か
る望ましい稠度は、他の珪素質材料を使用した際、には
得られない。歯磨が初期に流動性稠度を有する際には、
それは一般に初期降伏点が低いことで特徴づけられる。
本発明の一利点は、水和シリカゲルと少くとも1個のホ
スホン基を含有する成核防止剤を含有する低水分ゲル歯
磨を提供することである。
本発明の更なる利点は、低水分ゲル歯磨の稠度を改善す
る方法を提供することである。
本発明の更なる諸利点は、以下の詳細な説明を考慮する
と明らかになるでろろう。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、歯磨の重量基準で、本釣1−10重量%、ゲ
ル化剤約0.05−5重量%、1−30ミクロンの平均
粒径と cL)  1乃至600 m2/ 、)i’の表面積、
6)0.05乃至0.5 cm3/ j!の孔容積、6
)240以下の表面積(fi2/IX孔容積(cIrL
”/ I )の積 d)  1.5乃至2.5nmの孔径計算値、および#
)25重量%未満の水含量 を有する合成非晶質シリカゲル沈澱物を含有する磨き小
鈎10−50重量%、ならびに少くとも1個のホスホ/
基を含有する成核防止小鈎1−15重量%からなる液状
ベヒクルを約20−90重量%含有するゲル歯磨に関す
る。
前述のように、合成沈澱シリカは、英国公開特許出願第
2.038.303A号および米国特許出願セリアル第
576.046号に記載されたタイプである。該特許に
記載さ九ている特定の諸グレードは、いずれも本発明の
笑施に際し適当である。特に好適なグレードは、ドイツ
国ノルデルシュタットのブレース社の1980年10月
付カタログにサイロブランク81およびサイロブラ/り
82として説明されているグレードであり、これらの代
表的物理特性ならびに化学特性は以下の通りである0 サイロブラ サイロプラ /り81  ンク82 平均粒径(コールタ−法)μ惧   47湿篩残分(4
2μ惰)%   0.02   0.02pH(5%の
水懸濁物)36 表面積(B、E、T、法)  m”/9 400   
480乾燥損失      %   74 Sift含量(焼成物基準)%   96   99屈
折率           1.46   1.46サ
イロプラ/り81Gの中にはpH(5%水懸濁物)が約
6−8のものもめる。
サイロブランク81およびとくに8.1cは、歯表面の
研磨に非常をこ有効である。サイロプラ/り82は研磨
効果ではより劣るが、研磨効果が低いものを望む消費者
用に使用することができる。同様にして、シリカ材料の
グレードを種々の割合で混合し、適当な研磨特性のもの
を製造することができる。この歯磨はフチオン酸塩が存
在しなくてモライニングを施していないアルミニウム歯
磨チューブに適合する。この7チオン酸塩は、米国特許
出願セリアル第576.046号に記載の発明では必要
なものである。非晶質シリカゲル沈澱物は、ゲル歯磨中
に約10−50重量%、代表的には約10−40%の量
で使用される。
シリカ材料の水性スラリー(例えば約5乃至20%のス
ラリー)は、代表的には約2乃至9のpHを有する。本
発明の歯磨組成物のpH(20%水性スラリーで測定し
た値)は少くとも約5.5、たとえば約5.5−7.5
なることが好ましいので、水酸化ナトリウムなどの適当
な材料で歯磨のpHを調整する。
本発明に於ては、サイロブランク81、サイロブランク
81 c、によびサイロブランク82で説明した合成非
晶質シリカゲル沈澱物を用いると、成根切止剤が約1−
15重量%、好ましくは約1−5%量存在しても、望ま
しい稠度が得られる。
ホスホン基を含有する成核防止剤は、歯磨成分として当
技術分野で既知のものである。これら成核防止剤は望ま
しい抗結石効果または抗歯苔効果を付与する。これらは
、ガラファー(Gaffar)等の米国特許第4.34
8,381号、同第4.224゜309号および同第4
.224.308号、ガラファー等の米国特許第4,2
15.105号、ガラファー等の米国特許第4.183
.915号および同第4.177.258号、クラッチ
フィールド(Crstchfigld)等の米国特許第
4.144,324号、キム(Jrsm)等の米国特許
第4,143.128号、ガラファー等の米国特許第4
,137.303号、ガラファーの米国特許第4.12
3.512号、同第4.100.270号、同第4,0
98,880号および同第4.042,679号、プラ
ム(Bjsm)等の米国特許第4,064,164号、
ブロージャー(PtOgaデ)等の米国特許第4,10
8.962号、同第4.108゜961号、同第4.0
34.086号、同第3.988゜443号、同第3.
960.888号、同第3.941゜772号および同
第3.925.456号、アグリコーラ(Agrico
la)等の米国特許第3.959.458号、およびヘ
ーフエル(Hagfglm)の米国特許第4.025.
616号、同第3.937.807号お工び同第3.9
34.002号に開示されている。斯かる成核防止剤の
本発明歯磨への添加量は約o、oi−10重量%、好ま
しくは約o、i −s%であり、約1−3%が最も好ま
しい。これらの薬剤には以下の酸および非毒性で薬学的
に容認できる塩(例えばアンモニウム塩およびアルカリ
金属塩〕とくにナトリウム塩が含まれる。
2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2゜4; ホスホノ酢酸; 1−10個のアルキレン基を含有するアルキレンジアミ
ンテトラメチレンホスホン酸;ポリアルキルビス−(ホ
スホノメチレン)アミン酸; 米国特許第4.064.164号に記載の1.3−ジア
ミノアルカン−1,1−ジホスホン酸;3−アミノ−1
−ヒドロキシプロパン−1,1−ジホスホン酸; 複素環内に4−6炭素原子を含有するアザシクロアルカ
ン−2,2−ジホスホン酸; 複素N原子が水素または1−6炭素原子含有アルキル基
で置換されているピロリドン−5,5−ジホスホン酸; 複素N原子が水素ま几は1−3炭素原子含有アルキル基
で置換され、環内に4−6個の炭素原子’2含有するア
ザシクロアルカン−2,2−ジホスホン酸; 米国特許第3.925.456号に記載の2−ヒドロキ
シ−2−オキソ−3−アミノ−3−ホスホニル−5−オ
キノー1−アザ−2−ホスファ−シクロアルカン; エタン−1−ヒドロキシ−1,1−ジホスホン酸タイプ
の米国特許第3,959.458号に記載の抗結石剤。
、アルキレンジアミンテトラメチレンホスホン酸塩、と
くにエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸のラウ
リルナトリウム塩が好適である。
本発明の歯磨は、約20−90重量%の液状ベヒクルを
含有し、歯磨中の水含量は約1−10重量%である。本
発明の文脈に2いて水含量約1−10%という場合、保
湿剤、界面活性剤溶液、染料溶液、水和水などに関連す
る水は除外される。
液相の大部分は保湿剤である。液相は、水和シリカゲル
の屈折率に近い約1.45乃至1.47の屈折率を有す
る。低水分ゲル歯磨は視覚的に実質上透明でめり、二酸
化チタンなどの乳白剤が存在する場合のほか、実質的に
透明となるでろろう。代表的な保湿剤には、グリセリン
、ソルビトール、(例えば70%溶液)、マルチトール
(例えば70−75%溶液)およびそれらの混合物が含
まれる。保湿剤に伴なう水は、前述の別の水含量に加え
て存在してもよい。
歯磨きは固体ベヒクルとしてゲル化剤ま几は結合剤を含
有してもよい。もつとも合成シリカ沈澱物自身が歯磨を
濃化乃至ゲル化し、クリーム状またはペースト状の稠度
にする効果がめるので、このゲル化剤または結合剤は少
量で工い。ゲル化剤または結合剤には、アルカリ金属カ
ルボキシメチルセルロース、キサンタン、アイルランド
コケ、イオター力ラゲーナン、トラガカントゴム、ヒド
ロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ポリビニルピロリドン、澱粉およびそれらの混合物
が包含される。ナトリウムカルボキシメチルセルロース
などのアルカリ金属カルボキシメチルセルa−スが好適
である。ゲル化剤の使用量は約0.05−5重量%、代
表的には約0.05−2%、好ましくは約0.1−1.
5%である。
過当な界面活性剤乃至洗剤は、いずれも歯磨組成物に含
めることができる。斯かる適合性材料は、界面活性剤の
個々のタイプに応じて発泡作用および抗菌作用を追加す
るのに望ましく、斯かる観点で選択される。これらの洗
剤は通常は水溶性の化合物でろり、陰イオン性、非イオ
ン性、両性または陽イオン性構造を有する。通常は水溶
性、のノンソープすなわち合成有機洗剤を使用すること
が好ましい。適当な洗剤は既知のものであり、例えば高
級脂肪酸モノグリセリドモノサルフェートの水浴性塩(
たとえばヤシ油血肪酸モノ硫酸ナトリウム)、高級アル
キル硫酸塩(たとえばラウリル硫酸ナトリウム)、アル
キルアリールスルホ/酸塩(たとえばドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、1.2−ジヒドロキシプロパン
スルホ/酸塩の高級脂肪酸エステル)および類似物が包
含される。
更なる界面活性剤として、アシル基内に12乃至16炭
素を有する、低級脂肪族アミノカルボ/酸の実質的に飽
和された高級脂肪族アシルアミドが含まれる。アミノ酸
部分は、一般に低級脂肪族飽和モノアミノカルボン酸か
ら誘導される。′好適な化合物は、グリシン、サルコシ
/、アラニ/、3−アミノプロパン酸およびバリンの脂
肪酸アミドで、アシル基内に約12乃至16炭素原子を
有するものである。最適効果を得る友めには、N−ラウ
ロイル、ミリストイルおよびパルミトイルサルコシド化
合物を使用することが好ましい。
アミド化合物は遊離酸の形態でも使用されるが、その水
溶性塩たとえばアルカリ金属、アンモニウム、アミンお
よびアルキロールアミン塩として使用することが好まし
い。それらの特定例は、ナトリウムおよびカリウムN−
ラウロイル、ミリストイルおよびパルミトイルサルコシ
ド、ア/モニウ  ムおよびエタノールアミンN−ラウ
ロイルグリシドおよびアラニン、である。便宜上、[ア
ミノカルボン酸化合物」、「サルコシド」等は、遊離カ
ルボキシル基または水溶性カルボキシレート塩を有する
斯かる化合物を示すものとする。
斯かる物質は、純粋ないし実質的に純粋な形で使用され
、それらの活性を減少させがちな石けんまたは類似の高
級脂肪酸ができるだけ含まれぬようにしなければならな
い。通常の実施に際しては、斯かる高級脂肪酸の量はア
ミドの15重量%未満で実質的に悪影響を及ぼすには不
十分な量であり、前記アミドの約10%未満が好ましい
その他の特に好適な界面活性材には、ソルビタンモノス
テアレートと約20モルの酸化エチレンとの縮合物、酸
化エチレンと酸化プロピレンとの縮合物、プロピレング
リコールの縮合物([プルロニック+ Pturoni
a J )のような非イオン性界面活性剤2二び長鎖(
′アルキル)アミド−アルキレンアルキル化アミン誘導
体(「ミラ/−ル、MirG%olJc2Mなる商品名
で入手可)のような両性界面活性剤が包含される。ジイ
ソブチルフェノキシエトキシエチルジメチルベンジルア
ンモニウムクロリド、ベンジルジメチルステアリルアン
モニウムクロリド、1個の脂肪族アルキル基(12−1
8炭素原子のもの)2よび2個の(ポリ)オキシエチレ
ン基(代表的には分子当り全約2乃至50個のエタンオ
キシ基を含有するもの)を有する3級アミン、および該
3級アミンの酸との塩、ならびに なる構造式の化5合物(式中、Rは約12乃至18炭素
原子の脂肪族アルキル基を表わし、2%v12の合計は
3以上である)、およびこのアミンの鉱酸塩ま友は有機
酸塩などの陽イオン界面活性の殺菌剤および抗菌性化合
物も使用される。前記界面活性剤の本発明経口調製物中
での使用量は、約0.05乃至5重量%が好ましい。
本発明の組成物は、口腔の保護および衛生に良好な効果
、たとえば酸によるエナメル質の溶鱗を減少させる効果
および歯の損壊を防止する効果を有し、歯磨の透明性を
実質的に減少させぬ含フツ素化合物を含有してもよい。
既矧のフッ素化合物の例には、フッ化ナトリウム、フッ
化カリウム、フッ化錫(I)、塩化フッ化錫(1)、フ
ッ化錫フフ化カリウム(S%F2KF)、ならびにフッ
化ジルコン酸ナトリウムおよびとくにモノフルオロリン
酸ナトリウムなどのフッ化物錯体が包含される。斯かる
含フツ素イオンを解離・放出する物質の存在量は有効か
つ非毒性の量が適切であり、通常は約o、oi乃至1重
量%の範囲である。7ツ比ナトリウムおよびモノフルオ
ロリン酸ナトリウムならびにその混合物が特に好適であ
る。
本発明の歯クリームには、その他の各種物質を添入して
もよい。それらの添加物の例は、乳白剤、保存剤、安定
剤、シリコーン、クロロフィル化合物ならびに尿素、リ
ン酸ニアンモニウムおよびその混合物などのアンモニア
化合物でるる。これらの添加物を本発明組成物に添入す
る量は、所望の性質および特性に悪影響を実質的に与え
ぬ量であり、適当に選択されかつ通常の量で使用される
ある種の目的に関しては、本発明の組成物に抗菌剤を含
めることが望ましい。歯磨組成物の約0.01乃至約5
重量%、好ましくは約0.05乃至約1・0重量%の量
で使用される代表的抗菌剤には、塩化セチルピリジニウ
ム、塩化べ/ゼトニウムならびに、 N’−4(クロルベンジル)−N”−(2、4−ジクロ
ルベンジル)ビグアニド、 p−クロルフェニルビグアニド、 4−クロルベンズヒドリルビグアニド、4−クロルベン
ズヒドリルグアニル尿素、N −3−5ウロキシブロピ
ルーHB−p−クロルベンジルビグアニド、 1.6−ジーp−クロルフェニルビグアニドヘキサン、 1−(ラウリルジメチルアンモニウム)−8−(p−ク
ロルベンジルジメチルアンモニウムン5.6−ジクロル
−2−グアニジノベンゾイミダゾール、 N1−p−クロルフェニル−N5−ラウリルヒフアニド
、 5−アミノ−1,3−ビス(2−エチルヘキシル)−5
−メチルへキサヒドロピリミジン、およびそれらの非毒
性付加塩が包含される。
本発明の組成物に香りを付与するため、適当な香料また
は甘味料を配合に使用する。適当な香味成分の例には、
たとえばオランダハツカ油、セイヨウハツカ油、冬緑油
、サツサフラス油、チョウジ油、サルビア油、ユーカリ
樹油、マヨラナ油、肉桂皮油、レモン油およびミカン油
などの香油ならびにサリチル酸メチルが包含される。過
当な甘味料には、蔗糖、ラクトース、マルトース、ソル
ビトール、ナトリウムシクラメート、ナトリウムサッカ
リン、米国特許第3,939,261号のジペプシドお
よび米国特許第3,932,606号のオキサチアジン
塩が包含される。香料お工び甘味料の含有量は、共に組
成物の約0.01乃至5%るるいはそれ以上である。
歯磨は押出し容易な容器に包装される。これらの容器の
例には圧力差によりまたは機械的に操作される歯クリー
ムディスペンサー、あるいは内張すしたもしくは内張す
せぬアルミニウムチューブ、ま几はワックス内張りの鉛
チューブまたはプラスチックチューブ(アルミニウムが
積層していてもよい)がある。この歯磨は完成し友歯磨
として、あるいは同様の配合だが対照的な歯磨の内部も
しくは上部にある縞として、るるいは実質的に異なる歯
磨配合と組合せた縞として使用される。
歯磨の最も望ましい調製方法は、ゲル化剤と液状ベヒク
ル成分たとえば水>X、び保湿剤に少くとも1個のホス
ホネート基を含有する成核防止剤を添加したものとの予
備混合物を形成し、次にそれを水和シリカゲルと混合す
ることにより最適の望ましい稠度を達成する方法でるる
。界面活性剤などの追加成分を使用する場合には、その
次に添加する。配合に際し、成核防止剤の前に水和シリ
カゲルを添加することはない。
本発明を説明的な例を用いて記述しているが、当業者に
は、本発明の範囲内で各穐の変更が可能なることは明ら
かであろう。特記無い限り、量は全て重量基準である。
実施例■ 以下の乳白ゲル歯磨を調製し、内張すしていないアルミ
ニウムチューブに入れた。
第1a部 グリセリン        17.000ソルビトール
(70%)     42.900ナトリウムカルボキ
シメチル  0.300セルロース ナトリウムサッカリン      0.2007フ化ナ
トリウム        0.220二酸化チタン  
       1.0’00第1b部 水                    5.00
0水酸化ナトリウム        0.75σ第■部 非晶質水相シリカゲル沈澱物″″ 20.000第■部 ラウリル硫酸ナトリウム     1.760グリセリ
ン(追加)        s、o o 。
第■部 香料              1.0001H(2
0%スラリー)7.0 費 ブレース社(G、tn、 6 、H)製のサイロブ
ランク第1α部に対応する保湿剤、ゲル化剤、甘味料、
フッ化物および乳白剤を予備混合し、歯磨としては低水
含量で部分中和した成核防止剤を含有する第1b部を混
合するこ、とにより、歯磨を乳白ゲルとして調製する。
この混合工程で発生した中和熱のため、外部熱源の使用
は軽減され、従って効率的低費用の歯磨配合方法を提供
する。次に水相シリカゲル磨き剤(第H部)を添加し、
それに少量の保湿剤および界面活性剤(8111部)を
追加・混合し、続いて香料(第■部)を追加・混合する
この低水分乳白ゲル歯磨は、配合時に望ましい稠度を有
するようになる。調製方法を変更すると、レオロジーは
最適な状態を下回るが、それでも全く望ましいものでる
る。これは特に他の珪素質磨き剤で調製された対応する
歯磨と比較して云えることで、濃化成分を追加・補給し
た場合ですらそうである。
以上説明した歯磨は、部分中和されたエチレンジアミン
テトラメチレンホスホン酸を、2−ホスホノブタントリ
カルボン酸−1,2,4−およびエタン−1−ヒドロキ
シ−1,1−ジホスホ′/酸のす) IJウム塩を含む
その鵬の成核防止剤と置き換えることにより変性するこ
ともでき、同様なレオロジー性が得られる。
更なる変更としては、サイロブランク81をサイロフ゛
ランク81C1サイロブランク82およびサイロブラン
ク81と82との1=1混合物で置き換えることができ
る。
また、ナトリウムシクラメートをナトリウムサッカリン
で置き換えてもよい。
当業者には、本発明の実施例に更なる変更を加え得るこ
とは明らかでろろう。
(外5名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)水(歯磨の重量基準で)約1−10重量%、ゲル化
    剤約0.05−5重量%、1乃至30ミクロンの平均粒
    径と、 a)1乃至600m^2/gの表面積、 b)0.05乃至0.5cm^3/gの孔容積、c)2
    40以下の表面積(m^2/g)×孔容積(cm^3/
    g)の積、 d)1.5乃至2.5nmの孔径計算値、およびe)2
    5重量%未満の水含量 を有する合成非晶質シリカゲル沈澱物からなる磨き剤約
    10−50重量%、ならびに少くとも1個のホスホン基
    を含有する成核防止剤約1−15重量%からなる液状ベ
    ヒクルを約20−90重量%含有するゲル歯磨。 2)前記の成核防止剤が、エチレンジアミンテトラメチ
    レンホスホン酸または非毒性で薬学的に容認可能なその
    塩である特許請求の範囲第1項に記載のゲル歯磨。 3)               a b c 平均粒径(コールター法)μm 4 7 4湿篩残分(
    42μm)% 0.02 0.02 0.02pH(5
    %の水懸濁物) 3 6 6−8 表面積(B.E.T.法)m^2/g 7 4 7乾燥
    損失% 7 4 7 SiO_2含量(焼成物基準) 96 99 96屈折
    率 1.46 1.46 1.46 および(d)それらの混合物 からなる特性を有する群から、前記の合成非晶質シリカ
    ゲルを選択する特許請求の範囲第1項に記載のゲル歯磨
    。 4)保湿剤とゲル化剤を含有する液状ベヒクルの予備混
    合物を形成すること、該予備混合物に少くとも1個のホ
    スホン基を含有する成核防止剤を混合すること、ならび
    に1乃至30ミクロンの平均粒径および a)1乃至600m^2/gの表面積、 b)0.05乃至0.5cm^3/gの孔容積、c)2
    40以下の表面積(m^2/g)×孔容積(cm^3/
    g)の積、 d)1.5乃至2.5nmの孔径計算値 を有する合成非晶質シリカゲル沈澱物からなる磨き剤を
    添加することからなる、前記液状ベヒクルを約20−9
    0重量%含有しかつ水約1−10重量%、前記ゲル化剤
    約0.2−5重量%、前記の磨き剤約10−50重量%
    および前記の成核防止剤約1−15重量%を含有するゲ
    ル歯磨の調製方法。 5)前記の成核防止剤が、エチレンジアミンテトラメチ
    レンホスホン酸または非毒性で薬学的に容認可能なその
    塩である特許請求の範囲第4項に記載のゲル歯磨を調製
    する方法。 6)前記の成核防止剤が、エチレンジアミンテトラメチ
    レンホスホン酸の中和物である特許請求の範囲第5項に
    記載のゲル歯磨を調製する方法。 7)             a b c 平均粒径(コールター法)μm 4 7 4湿篩残分(
    42μm)% 0.02 0.02 0.02pH(5
    %の水懸濁物) 3 6 6−8 表面積(B.E.T.法)m^2/g 7 4 7乾燥
    損失% 7 4 7 SiO_2含量(焼成物基準) 96 99 96屈折
    率 1.46 1.46 1.46 および(d)それらの混合物 からなる特性を有する群から、前記の合成非晶質シリカ
    ゲルを選択する特許請求の範囲第4項に記載のゲル歯磨
    を調製する方法。
JP60270578A 1984-11-30 1985-11-30 望ましい稠度を有するゲル歯磨 Pending JPS61134310A (ja)

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