JPS61148633A - 3スポツトトラツキング装置 - Google Patents

3スポツトトラツキング装置

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JPS61148633A
JPS61148633A JP27003584A JP27003584A JPS61148633A JP S61148633 A JPS61148633 A JP S61148633A JP 27003584 A JP27003584 A JP 27003584A JP 27003584 A JP27003584 A JP 27003584A JP S61148633 A JPS61148633 A JP S61148633A
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JP
Japan
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diffraction grating
order
order beam
recording medium
optical recording
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JP27003584A
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English (en)
Inventor
Atsushi Fukumoto
敦 福本
Junichi Horigome
順一 堀米
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は光学式記録装置、再生装置及び記録再生装置
に適用して好適な3スポットトラッキング装置に関する
〔従来の技術〕
先ず、第7図を参照して、従来の3スポットトラッキン
グ装置にって説明する。OHは光学式ヘッドを全体とし
て示す。(1)は半導体レーザ素子(レーザダイオード
)で、これのレーザービーム出射端面(IA)側より出
射した、断面が楕円の発散レーザービームLはコリメー
タレンズ(不用の場合もある)(2)に入射せしめられ
て平行ビームとなされた後、回折格子(グレーティング
)(3)に入射せしめられる。回折格子(3)より出射
した0次ビームLo及び土1次ビームLet、  L−
t (尚、+2次以上、−2次以下のビームは無視する
)は無偏光ビームスプリッタ(ハーフミラ−)(偏向ビ
ームスプリフタの場合は、対物レンズ(5)との間に×
波長板を設ける)(4)を通過した後、対物レンズ(5
)に入射せしめられて集束せしめられ、その集束された
0次ビームLo及び±1次ビームL◆1+L−1はディ
クスとしての光学式記録媒体(光磁気記録媒体も含む)
(6)の記録面に所定間隔(例えば10μm)を置いて
入射せしめられる。
光学式記録媒体(6)で反射した0次ビームLO及び±
1次ビームL +s 、  L−1は対物レンズ(5)
を通過した後、ビームスプリッタ(4)に入射せしめら
れ、その一部はその反射面(4a)で反射して光検出器
(7)に入射せしめられる。この光検出器(7)は、0
次ビームLo及び±1次ビームL +1 、  L−1
が各別に入射せしめられる3個の光検出部にて構成され
る。
そして、±1次ビームが夫々入射せしめられる一対の光
検出部からの一対の光検出出力の差を採ることにより、
0次ビームLoの光学式記録媒体(6)の記録面上での
トラッキング状態に応じたトラッキングエラー信号が得
られる。又、0次ビームの入射せしめられた光検出部か
らは、再生信号、フォーカスエラー信号等が得られる。
次に、半導体レーザ素子(1)の−例について第8図を
参照して説明する。この半導体レーザ素子(1)は通常
一方の電極を兼ねた銅等より成るヒートシンク(8)上
に固着されている。半導体レーザ素子(1)の構造を図
に於いてその上層から下層に向かって説明すると、(1
a)は電極層、(1b)はn−GaAs層(基体虐)、
(IC)はn−Gax−yAlyAs層(クラッド層)
、(1d)はGa1− xA IxAs層(活性層)、
(1e)はp−Gax−yAlyAs層(クラッドN)
、(1f)はp−GaAs層である。そして、活性層(
1d)から上述のレーザビームLが出射する。この半導
体レーザ素子(1)のレーザビーム出射端面(臂開面)
  (LA)を正面とすると、その幅が100〜300
μm、高さく厚さ)が80〜100μm、奥行が200
〜300μmである。活性層(1d)のヒートシンク(
8)の上面からの高さは数μmである。
ところで、0次ビームLoの光学式記録媒体(6)の記
録面に対するタンジェンシャルスキュー角が変化すると
、トラッキングエラー信号もそれに応じて周期的に変化
し、正確なトラッキングエラーを検出することができな
かった。
本発明者等はその原因を究明したところ、次のようなこ
とが分かった。光学式記録媒体(6)で反射した0次ビ
ームLo’及び±1次ビームL +1.  L −1は
対物レンズ(5)を通過した後、ビームスプリンタ(4
)の反射面(4a)で反射するのみならず、ビームスプ
リッタ(4)を通過し、回折格子(3)に入射して、夫
々に対応して格別の0次ビーム及び±1次ビームが発生
し、コリメータレンズ(2)を通過して半導体レーザ素
子(1)に向かう。この半導体レーザ素子(1)に向か
うビームのビーム量は、無偏光ビームスプリンタを用い
た場合には多く、偏光ビームスプリッタを用いた場合は
少ない。
この場合、第9図に示す如く、半導体レーザ素子(1)
のレーザビーム発光端面(IA)と、回折格子(3)と
の相対回動角位置に応じて、半導体レーザ素子(1)に
向かう中心ビームLa及びその両側に位置する両側ビー
ムlb、I、cの配置は夫々中心ビームl、aがレーザ
ビーム出射端面(IA)上の活性層(1d)に位置し、
両側ビームLb、Lcが中心ビームLaの位置を通り、
活性層(1d)と直交する直線上に於いて上下に位置す
る場合と、中心ビームLa及び両側ビームLb、Lcが
共に活性層(1d)上に位置する場合と、中心ビームL
a及び両側ビームLb、Lcを結ぶ直線が上記2つの場
合の中間の任意の角度位置に来る場合とがある。
そして、これら中心ビームl、a及び両側ビームLb、
l、cは、0次ビームLoと、±1次ビームL +1+
  L−1が回折格子(3)によって再回折され、且つ
混在して重畳されたものである。
ところで、両側ビームLb、Lcの少な(とも一方がヒ
ートシンク(8)の面に入射した場合は、その面が粗面
であるので、そのビームはそこで乱反射されるので問題
はないが、両側ビームLb、  LCの少なくとも一方
が半導体レーザ素子(1)のレーザビーム出射端面(I
A)に入射する場合は、この端面(IA)は反射率が良
好(例えば10%)なので、この端面(IA)で反射し
、上述の光路を通過して光検出器(7)に入射するので
、+1次又は−1次ビームと干渉を起こす。このため、
1次ビームLOの光学式記録媒体(6)の記録面に対す
るタンジエンシャルスキュー角に応じて、光検出器(7
)に入射する+1次又は−1次ビームの強度が変化し、
トラッキングエラー信号がそのスキュー角に応じて間期
的に変化する。第10図は、両側と一4Lb、Lcの一
方Lbが半導体レーザ素子(1)のレーザビーム発光端
面(IA)に入射し、他方Lcがヒートシンク(8)に
入射した場合の、0次ビームLOの光学式記録媒体(6
)の記録面に対するタンジエンシャルスキュー角α°に
対するトラッキングエラー信号Seのレベル変化の周期
性を示す。尚、実際には、1αIが増大するにつれて、
トラッキングエラー信号Seのレベルは減衰する。尚、
両側ビームLb、Lc共レーザビーム出射端面(IA)
に入射する場合は、第10図に対応する波形の振幅カミ
第10図とそれの2倍となり、位相は第10図と異なる
次に、両側ビームLb、Lcのうちの一方Lbが半導体
レーザ素子(1)のレーザビーム出射端面(IA)に入
射し、他方Lcがヒートシンク(8)に入射する場合の
干渉について、第10図(レンズ系の図示を省略しであ
る)を参照して説明する。第11図に於いて、実線にて
示される(IA)はレーザビーム出射端面であるが、破
線にて示される正規の位置の出射端面(IA)に対し傾
いている一般的な場合を示し、又、実線にて示される(
6)は光学式記録媒体であるが、破線にて示される正規
の位置の光学式記録媒体(6)に対し傾いている場合を
示す。
0次ビームLoは正規の位置のレーザビーム出射端面(
IA)及び正規の位置の光学式記録媒体(6)の記録面
に対し鉛直である。θは+1次ビームLa1の0次ビー
ムLoに対する角度である。11はレーザビーム出射端
面(IA)及び回折格子(3)間の光路長、12は回折
格子(3)及び光学式記録媒体(6)の記録面間の光路
長である。Δ11.Δβ2は夫々光路長11.12に対
するO次ビームLo及び+1次ビームLa1間の光路差
である。ΔN3+Δ14は夫々光学式記録媒体(6)の
スキューによる光路差レーザビーム出射端面(IA)の
スキューによる光路差である。
又、gを回折格子(3)に於けるO次ビームLo及び+
1次ビームLax間の位相差とする。to、11を夫々
回折格子(3)に於ける0次ビーム、+1次ビームの透
過率、tをハーフミラ−(4)の透過率、r。
fを夫々光学式記録媒体(6)の記録面上、レーザビー
ム出射端面(IA)上の反射率とする。
しかして、+1次ビームLa4が入射する光学式記録媒
体(6)の記録面上の点Aに於ける光の複素振幅を次の
4つの場合に分けて考える。
(llat:+1次ビームLe1が直接点Aに入射した
場合。
(21a2 :O次ビームLoが光学式記録媒体(6)
で反射し、再度回折格子(3)に入射することによって
得られた0次ビームがレーザビーム出射端面(IA)で
反射し、再度回折格子(3)に入射することによって得
られた+1次ビームが点Aに入射した場合である。
(3)al :O次ビームLOが光学式記録媒体(6)
で反射し、再度回折格子(3)に入射することによって
得られた+1次ビームがレーザビーム出射端面(IA)
で反射し、再度回折格子(3)に入射することによって
得られた0次ビームが点Aに入射した場合である。
(41a4 :+1次ビームLa1が光学式記録媒体(
6)で反射し、再度回折格子(3)に入射することによ
って得られた0次ビームがレーザビーム出射端面(IA
)で反射し、再度回折格子(3)に入射することによっ
て得られた0次ビーム点Aに入射する場合である。
次にa1〜a4を式にて示す。
a1=i1t−exp (i C111+g+12+Δ
12+Δ13))・・・(1) a2=i:ttt3r?exp (i  (3(jet
 +1!2) 十g+Δ12+Δ13)〕      
      ・・・(2)al =i、ixt’rf’
exp (t (3(At +12) +g+2Δ11
+Δβ2+Δj2i +2Δら)〕    ・・・(3
)a4 =i:1tt3rf−exp (i (3(A
t +12) +g+3(Δ12+Δj!3)+2Δ1
1+2Δら)〕・・・(4) 計算の簡単のため、レーザビームの可干渉距離を2(1
1+β2)以下とすると、点Aに於ける光の強度IAは
次式のように表される。
IA = l al 12+ l a2+a3 +a4
12=i’、t’ (1+i:t’r’f2(3+2c
os 2 (Δ11 +Δ14)+2cos 2 (Δ
11 +Δ7!鴫 +Δ12 +Δ13)+2cos 
2 (ΔI12+Δ13))〕・・・(5)又、両側ビ
ームLb、Lcの両方がレーザビーム出射端面(IA)
に入射する場合に於いて、+1次ビームL+1が光学式
記録媒体(6)の記録面上の点Aに入射し、−1次ビー
ムL−1が0次ビームLOに対し対称な点Bに入射する
場合は、点Aの光の強度IAは(5)式の通りであるが
、点Bの光強度Iaは次式のように表される。
IB =i:t’ (1+i’、t”r’f’ (3+
2cos 2 (Δβ1−ΔN4) +2cos 2 
(Δ11−Δ14+Δ12−Δi3) +2cos 2
 (Δ12−ΔIB ) ) )          
・・・(6)〔発明が解決しようとする問題点〕 この発明は、光学式ヘッドの0次ビームの光学式記録媒
体に対するタンジェンシャルスキュー角の変化によって
は変化する虞のないトラッキングエラー信号を得ること
のできる3スポットトラッキング装置を提供するもので
ある。
C問題点を解決するための手段) この発明は、単一のレーザダ・イオード(1)の出力ビ
ームを回折格子(3)により3ビームに分けて第1と第
2のビームによってトラッキングエラーを検出するよう
にした3スポツトトラフキング装置に於いて、上記回折
格子(3)とディスク(6)間に上記第1のビームと上
記第2のビームを検出する第1と第2の補助検出器(1
0b ) 、  (10c )を設け、ディスク(6)
から反射された上記第1のビームと上記第2のビームを
検出する第1と第2の検出器(7b) 。
(7c)を備え、上記第1の検出器出力を上記第1の補
助検出器出力で、上記第2の検出器出力を上記第2の補
助検出器出力で補正するよに構成している。
〔作用〕
回折格子(3)とディスク(6)間に設けられた第1及
び第2の補助検出器(10b ) 、、  (10c 
)により夫々率1及び第2のビームを検出し、その検出
出力により、第1及び第2のビームを夫々検出する第1
及び第2の検出器(7b) 、  (7c)の検出出力
を補正するようにする。これによって光学式ヘッドの0
次ビームの光学式記録媒体としてのディスクに対するタ
ンジェンシャルスキュー角の変化にょって変化する虞れ
のないトラッキングエラー信号を得ることができる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を第1図〜第6図に基づいて
詳細に説明する。
第1図は本実施例の構成を示すもので、同図において、
第7図と対応する部分には同一符号を付し、その重複説
明は省略する 本実施例では、光検出器(7ンに対向してビームスプリ
ッタ(4)の反対側に別な光検出器αのを設ける。
この光検出器αのも0次ビームLo及び±1次ビームL
 +1.  L−1が各別に入射せしめられる3個の光
検出部にて構成される。
第2図は光検出器(7)及びαO)の受光面を示すもの
で、光検出器(7)は第2図Aに示すように、0次ビー
ムLoを受光する検出器(7a)と、±1次ビームL 
+1 、 L−1を受光する検出器(7b)及び(7c
)とからなる。また、光検出器αG)は第2図Bに示す
ようにO次ビームLoを受光する検出器(10a)と、
±1次ビームL +1 、  L−1を受光するキ★出
器(10b)及び(10c)とから成る。
次に、上述の両側ビームLb、Lcのうちの一方Lbが
半導体レーザ素子(1)のレーザビーム出射端面(IA
)に入射し、他方1.cがヒートシンク(8)に入射す
る場合の干渉について、第3図(レンズ系の図示を省略
しである)を参照して説明する。
第3図に於いて、実線にて示される(IA)はレーザビ
ーム出射端面であるが、破線にて示される正規の位置の
出射端面(IA)に対し傾いている一般的な場合を示し
、又、実線にて示される(6)は光学式記録媒体である
が、破線にて示される正規の位置の光学式記録媒体(6
)に対し傾いている場合を示す、θ次ビームLOは正規
の位置のレーザビーム出射端面(IA)及び正規の位置
の光学式記録媒体(6)の記録面に対し鉛直である。θ
は+1次ビームLaxの0次ビームLoに対する角度で
ある。11はレーザビーム出射端面(IA)及び回折格
子(3)間の光路長、12は回折格子(3)及び光学式
記録媒体(6)の記録面間の光路長でなる。ΔN!+、
Δ12は夫々光路長Z1+7!2に対するO次ビームL
o及び+1次ビームL+z間の光路差である。ΔA3゜
Δ14は夫々光学式記録媒体(6)のスキューによる光
路差レーザビーム出射端面(IA)のスキューによる光
路差である。i5は点りより光検出器(7)の位置する
点Aまでの光路長、26は点りより光検出器QOIの位
置する点Bまでの光路長である。
又、gを回折格子(3)に於ける0次ビームLo及び+
1次ビームL+1間の位相差とする。10+  11を
夫々回折格子(3)に於ける0次ビーム、+1次ビーム
の透過率、tをビームスプリンタ(4)の透過率、r、
  fを夫々光学式記録媒体(6)の記録面上、レーザ
ビーム出射端面(IA)上の反射率とする。
しかして、+1次ビームL÷1が光学式記録媒体(6)
で反射して光検出B(7)及びQlに入射する受光面上
の点A及びBに於ける光の複素振幅を次の4つの場合に
分けて考える。
(llal:+1次ビームLaxが光学式記録媒体(6
)で反射して直接点A、Bに入射した場合 (21a2:0次ビームLOが光学式記録媒体(6)で
反射し、再度回折格子(3)に入射することによって得
られた0次ビームがレーザビーム出射端面(IA)で反
射し、再度回折格子(3)に入射することによって得ら
れた+1次ビームが点A、Bに入射した場合である。
(3)al 20次ビームLoが光学式記録媒体(6)
で反射し、再度回折格子(3)に入射することによって
得られた+1次ビームがレーザビーム出射端面(IA)
で反射し、再度回折格子(3)に入射することによって
得られた0次ビームが点A、Bに入射した場合である。
(4)a4:+1次ビームLaxが光学式記録媒体(6
)で反射し、再度回折格子(3)に入射することによっ
て得られた0次ビームがレーザビーム出射端面(IA)
で反射し、再度回折格子(3)に入射することによって
得られた0次ビームが点A、Bに入射する場合である。
次にal〜a4を式に示す、先ず点Aでは次のように表
わされる。
al =itt (1−む) r ’eX9 (j C
1x +g+1!2+Δ12+Δj!3+j!s)) 
         ・・・(7)a2=lt1t3(1
−t) r’f −exp (i  (3(j!1+1
2 )+g+Δβ2+Δjり+j!5))     ・
・・(8)a3=i:i1t’ (1t) r’f −
exp (i (3(j21+A2 )十g+2Δ11
+ΔI!2+ΔAt3+2ΔJ4+A!s))・・・(
9) a4=i:1tt3(1−t) r”f −exp C
i (3(Ili+I12 ) +g+3(Δ12+Δ
A3)+2Δ11+2Δi、 +It5 ) )・・・
αω 計算の簡単のため、レーザビームの可干渉距離を2 <
e□+N2)以下とすると、点Aに於ける光の強度IA
は次式のように表される。
IA  ”fat  12 +la2  +a3 +a
+  l2=i:t’ (1−t )2r’ (1+i
3t’r’f2(3+2cos 2 (ΔN1+Δ1t
4) +2cos 2 (Δl工+ΔI!4+ΔII 
3 ) +2cos 2+(Δ12+Δ13 ) ) 
)        ・・・(11)また、点Bでは次の
ように表わされる。
ax =ht (1−t) ・exp (i Cih 
+g+j2g)) ・・・(12)a2=litt2(
1−t) rf−exp (i  (311+2f2+
g+ΔAs))                 ・
・・ (13)al =目1tt2(1−t) r?e
xp (i  C3j!t +212 +g+2Δ!1
+2Δ14+6)〕       ・・・ (14)a
4−を訂tt2(1−t) rf−exp (i (3
1h +212 +g+2 (Δ12+Δ13)+2(
ΔI11+Δj!+)+1g))・・・ (15) 計算の簡単のため、レーザビームの可干渉距離を2 (
11+12)以下とすると、点Bに於ける光の強度Ia
は次式のように表わされる。
Ia =iF (1−t )’ (1+t:t4r”f
2(3+2cos 2(Δ11+Δi4> +2cos
 2 (Δ11+Δj!、十Δ12+Δ7!3) +2
cos 2 (Δ12+Δll3)) )・・・ (1
6) 上記(11)及び(16)式より次式が成立する。
IAa=t2r2IB・・・(17) こ\で、点Aにおける検出器(7b) 、  (7c)
へのビームは、点Bにおける検出器(10b ) 、 
 (10c )の変動をオフセットとしてもっているた
め、上記(17)式を満足するように検出器(10b 
) 、  (10c )の利得を調整しく実質的に減少
する方向)、この調整した出力を検出器(7b) 、 
 (7c)の検出出力から差引くことによりトラッキン
グエラー信号のDCオフセットを取除くことができる。
第4図はその具体的な回路構成の一例を示すもので同図
において、(11) 、  (12)は夫々検出器(7
b) 、  (7c)に対応する受光素子であって、こ
れ等受光素子(11) 、  (12)のアノード側は
正の電源端子子Bに接続され、そのカソード側はアンプ
(13) 、  (14)を介して減算器(15) 、
  (16)の一方の入力端に接続される。
また、(17) 、  (18)は夫々検出器(10b
)。
(10c)に対応する受光素子であって、これ等受光素
子(17) 、  (18)のアノード側は正の電源端
子子Bに接続され、そのカソード側は夫々アンプ(19
ン、  C20>を介して減算器(15) 、  (1
6)の他方の入力端に接続される。そして、減算器(1
5)(工6)の各出力端が、減算器(21)の各入力端
に接続される。
いま、タンジェンシャルスキュー角の変化にょって、例
えば検出器(7b)の受光面での強度に対応する信号E
Aが第5図Bに示すように変化するとすれば、行きの光
路でのサイドビームすなわち検出器(10b)の受光面
での強度に対応する信号EBは第5図Aのように変化す
る。すなわち、両者には周期及び位相が等しく EA=r2t2・EB・・・(18) の関係がある。
そこで、E’ =EA −r’t’ ・EBとなるよう
に電気的に演算を行うと、タンジエンシャルスキュー角
に対して変動をしない第5図Cに示すような信号(E’
=O)を得ることができる。なお、検出器(7c)と(
10c)についても同様にして考えることができる。
この信号処理を第4図の回路では次のように行う。いま
、受光素子(11)で受光されて電気信号に変換された
信号EAはアンプ(13)を介して減算器(15)の一
方の一入力端に供給される。また、受光素子(17)で
受光されて、電気信号に変換された信号EBはアンプ(
19)に供給される。こ\で受光素子(11)及び(1
7)で得られた信号EA及びEsは上記(18)式の関
係にあり、信号EBの方が信号EAよりr2t2分だけ
振幅(利得)が大きい。そこで、アンプ(19)でこの
r212分だけ信号Elの振幅を小さくした後減算器(
15)の他方の入力端に供給するようにする。
この結果減算器(15)の各入力端には振幅の等価な信
号が供給され、その出力側に直流的に一定の差信号(E
’ =EA−r’t2EB=O)が得られる。
また、同様にして受光素子(12)で受光されて電気信
号に変換された信号FAはアンプ(14)を介して減算
器(16)の一方の入力端に供給される。
また、受光素子(18)で受光されて電気信号に変換さ
れた信号FBはアンプ(20)に供給される。
こ\で受光素子(12)及び(1日)で得られた信号F
A及びFBは、上述の関係より、信号FBの方がr21
2分だけ振幅(利得)が大きい。そこでアンプ(20)
でこのr212分だけ信号FBの振幅を小さくした後減
算器(16)の他方の入力端に供給するようにする。
この結果減算器(16)の各入力端に振幅の等価な信号
が供給され、その出力側に直流的に一定な差信号(F’
 =FA−r2t2Fa =0)が得られる。
減算器(15)及び(16)からの差信号は減算器(2
1)に供給され、トラッキングエラー信号(E’=F’
−0のとき基準信号)として取り出される。
そして、従来は受光素子(11)からの信号EAと受光
素子(12)からの信号FAを用いて両者の差信号(E
A −FA )をトラッキングエラー信号としていたが
、本実施例では上述の如く信号EA、FAのほかに受光
素子(17)からの信号EB、信号FBをも用いて、(
EA −r’t’Ea ) −(FA−r2t’Fa)
をトラッキングエラー信号としているので、トラッキン
グエラー信号のDC変動を取除くことができる。
第6図はこの発明の他の実施例を示すもので、本実施例
では0次ビームが入射される光検出器α0の検出器(1
0a)の検出出力を利用して半導体レーザ素子(1)の
光量を一定にしようとするもので、いわゆるオートパワ
ーコントロール(APC)の例である。
すなわち、検出器(10a)に対応する受光素子(22
)の出力をバッファ(23) 、フィルタアンプ(24
)及びバッファ(15)を介して半導体レーザ素子(1
)に帰還するように成し、受光素子(22)で検出され
る量が増大すると、半導体レーザ素子(1)の発光量を
減少させ、逆に受光素子(22)で検出される量が減少
すると、半導体レーザ素子(1)の発光量を増大させ、
常に半導体レーザ素子(1)より一定の光量が得られる
ようにする。これによりいわゆるレーザ自己結合効果(
scoop )を除去することができる。
〔発明の効果〕
上述の如くこの発明によれば、サイドビーム(±1次ビ
ーム等)を検出する本来の検出器の他に補助の検出器を
設け、この補助の検出器の検出出力により本来の検出器
の検出出力を補正するようにしたので、光学式ヘッドの
0次ビームの光学式記録媒体に対するタンジェンシャル
スキュー角の変化によっては変化する虞のないトラッキ
ングエラー信号を得ることができ、レーザダイオードの
光帰還の多い光学系への3スポットトラッキング法通用
において、安定した特性を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す路線的配置図、第2
図はこの発明の要部を示す平面図、第3図はこの発明に
おける干渉の説明に供する線図、第4図はこの発明の具
体的回路構成を示すブロック図、第5図はこの発明の説
明に供する波形図、第6図はこの発明の他の実施例を示
すブロック図、第7図は従来装置を示す路線的配置図、
第8図及び第9図は従来装置に於ける半導体レーザ素子
の一例を示す正面図、第10図は波形図、第11図は従
来装置における干渉の説明に供する線図である。 OHは光学ヘッド、(1)は半導体レーザ素子、(IA
)はそのレーザビーム出力端面、(1d)はその活性層
、(2)はコリメータレ、ンズ、(3)は回折格子、(
4)はビームスプリフタ、(5)は対物レンズ、(6)
は光学式記録媒体、(71,QOIは光検出器である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 単一のレーザダイオードの出力ビームを回折格子により
    3ビームに分けて第1と第2のビームによってトラッキ
    ングエラーを検出するようにした3スポットトラッキン
    グ装置に於いて、上記回折格子とディスク間に上記第1
    のビームと上記第2のビームを検出する第1と第2の補
    助検出器を設け、ディスクから反射された上記第1のビ
    ームと上記第2のビームを検出する第1と第2の検出器
    を備え、上記第1の検出器出力を上記第1の補助検出器
    出力で、上記第2の検出器出力を上記第2の補助検出器
    出力で補正するようにしたことを特徴とする3スポット
    トラッキング装置。
JP27003584A 1984-12-21 1984-12-21 3スポツトトラツキング装置 Pending JPS61148633A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01143027A (ja) * 1987-11-30 1989-06-05 Sony Corp フオーカスエラー検出装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55150137A (en) * 1979-05-09 1980-11-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Recorder

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