JPS61155902A - 干渉計測装置 - Google Patents

干渉計測装置

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JPS61155902A
JPS61155902A JP59278935A JP27893584A JPS61155902A JP S61155902 A JPS61155902 A JP S61155902A JP 59278935 A JP59278935 A JP 59278935A JP 27893584 A JP27893584 A JP 27893584A JP S61155902 A JPS61155902 A JP S61155902A
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JP
Japan
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wave
reflected
measured
mirror
interference
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JP59278935A
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Inventor
Yojiro Iwamoto
岩本 洋次郎
Takashi Noguchi
俊 野口
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/0207Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
    • G01B9/02071Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by measuring path difference independently from interferometer
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/60Reference interferometer, i.e. additional interferometer not interacting with object

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、縞走査方式による干渉計測装置において、
干渉縞の位相変調を高精度に行なうことにより、被測定
物の表面形状・光学素子の収差等を精度よく測定するこ
とのできる装置に関するものである。
まず第1図により干渉計測装置の概要について説明する
。可干渉性光源、例えばレーザ光源1oから照射された
レーザ光は、コリメータレンズ12により平行ビーム(
イ)となり、ビームスプリッタ14により光路(ロ)お
よび光路(ハ)に分離される。光路(ロ)の平行ビーム
は、参照鏡16により入射方向と反対方向に反射され、
参照波として再びビームスプリッタ14に帰還する。ま
た、光路(ハ)の平行ビームは、被測定物18の被検面
により入射方向と反対方向に反射され、被検波として再
びビームスプリッタ14に帰還する。ビームスプリッタ
14においては上記の参照波と被検波とが光路(ニ)で
干渉され、その干渉縞20はテレビカメラ等の撮像装置
22によって読取られる。この干渉縞20の明暗はレー
ザ光の波長を入とすれば参照波と被検波との位相差が入
/2ごとに現われる。初期の干渉計測法においては、こ
の干渉縞20のピーク位置の情報にのみ注目していたた
め、その測定感度は人ないしλ/2であり、それ以上の
測定精度を期待することは出来なかりた。そこで干渉縞
のピーク位置以外の中間の濃度分布にまで注目し、測定
精度をλ1500とか、さらにはλ/1000程度まで
高める方式として、縞走査方式とか、あるいはフリンジ
・スキャニング方式と呼ばれる干渉計測法が従来上り提
案されている。
縞走査方式による干渉計測は、上記した参照波の位相を
微小変化させることによって、つまり参照光の光路長を
、1波長内においてλ/N(λ:レーザ尤の1波長、N
:データサンプリング回数)づつ変化させることによっ
て、その都度上ずる干渉縞の変化を、撮像装置の各画素
の正弦的出力変化として読み取り、その出力から被測定
物上の各測定点における初期位相差を求めて、これを継
ぎ合わせることにより、被測定面の形状を高精度に測定
しようとするものである。
第2図によりこの縞走査方式による干渉計測法の原理を
説明する。ビームスプリッタト4、参照鏡16、被測定
物18および平行ビーム(イ)、光路(ロ)、(ハ)、
(ニ)は第1図に同符号を付して説明した場合と全(同
じである。参照鏡16には、例えばピエゾ素子のような
駆動装置24を取付け、その電歪効果を利用して、参照
鏡16をλ/2N(*尾側においてNi116)づつ8
回微動させる。そのときの被測定物18の測定点Aおよ
びBに相当す、る干渉縞上のA゛点およびB゛点の画素
出力は例えば明→暗→明のように一周期分正弦的に変化
する。第3図にその状態を示す。(a)図は、被測定物
18のA点に相当する干渉編上のA゛点の画素出力強度
(I)が、参照鏡16の微小移動(n、、n2・・・・
・・・・n16)に伴なって正弦的に変化していること
を表わしている。また同様に(b)図は被測定物18の
B点に相当する干渉縞上のB゛点画素出力強度(I)が
参照鏡16の微小移動(n、、n2・・・・・・・・n
’s)に伴なって正弦的に変化していることを表わして
いる。各測定点において参照面に対する光路差があると
きには、上記方法によって求められた各画素の正弦曲線
の初期位相は異なる。すなわち第3図の(a)と(b)
とでは、初期位相差はδである。そこで、その他の各測
定点で同様に求められた初期位相差を継ぎ合わせること
により、被測定物の形状等を高精度で測定することがで
きる。
上記したことからも明らかなように、縞走査方式による
干渉計測においては、高精度の測定は、いかに参照波の
位相をA/Nづつ高精度に変化させることが出来るかに
かかっている。そこで従来よりこの参照波の位相を高精
度に変化させる方法、例えば参照鏡16の微小移動を高
精度に行なう方法が種々提案されている。その1つは、
参照鏡16の移動量を浮型容量センサ等により読取り、
その移動を制御する方法である。この方法は、参照鏡の
移動量を直接読取り制御するため、リアルタイムでの計
測制御という点では優れているが、静電容量センサ自体
を、他の高精度な測定器でキャリブレーションしなけれ
ばならないという煩雑さがある上に、ドリフトによる誤
差もあり、必ずしも満足できるものではない。また従来
の他の方法として、ピエゾ素子に対する印加電圧と移動
量との関係を予め求めておき、それにより参照鏡を制御
する方法がある。例えば第2図の被測定物18の位置に
充分精度の良い平面鏡を置き、当該ピエゾ素子に適宜な
印加電圧を与えたときに生ずる印加電圧と参照鏡の移動
量との関係を、撮像装置上の干渉縞の変位から計算して
求め、実際の測定に際しては予め計算によって求められ
た電圧を逐次印加して、参照鏡の微少移動を制御する方
法である。しかし、この方法は、実際に被測定物を測定
しているときの参照鏡の移動量を測定しているものでは
ない。従って、リアルタイムの計測制御が出来ず、また
クローズトループ制御ができないため参照鏡の移動精度
が悪く、被測定物の高精度な測定が出来なかった。
本願発明は、これら従来方法における上記したような欠
点を解決し、参照波の微小変位を正確に行なうことによ
って、干渉縞の位相変調を高精度に行ない、もって被測
定物の高精度な測定を可能とした干渉計測装置を提供す
るものである。
以下第4図により、本願発明をトワイマングリーン型と
通称される干渉計に適用した第1実施例について説明す
る。30はレーザ光源、32は参照鏡であって、本願発
明はこれを被測定物の形状を測定するための測定用干渉
計と、参照鏡の微小移動量を測定するための干渉計とに
共用し、参照鏡の微小移動量を測定することによって、
参照鏡を駆動させる駆動装置を制御するよう構成されて
いる。
そこでまず被測定物の形状測定用干渉計について説明す
る。レーザ光源30から照射されたレーザ光は、平行ビ
ーム(イ)となり、第1ビームスプリツタ34により、
光路(ロ)および()))に分離される。
分離された一方の光路(ロ)の平行ビームは、さらに第
2ビームスプリツタ36により、光路(ホ)および(へ
)に分離される。光路(ホ)の平行ビームは、参照11
t32により入射方向と反対方向に反射され、参照波と
して再び$2ビームスプリッタ36に帰還する。この参
照波は、第2ビームスプリツタ36により直進する光路
(ト)と直角に反射されて光路(ロ)上を逆方向に進ん
で、前記第1ビームスプリツタ34に帰還する光路とに
分離される。一方路1ビームスプリッタ34により分離
されて直進した光路(ハ)の平行ビームは、被測定物3
8により入射方向と反対方向に反射され、被検波として
再び第1ビームスプリツタ34に帰還する。第1ビーム
スプリツタ34においては、上記の参照波と被検波とが
光路(ニ)で干渉され、その干渉縞はテレビカメラ等の
撮像装置40によって読取られ、さらに干渉縞位相解析
システム42に干渉縞の各画素のデータが取込まれる。
干渉縞位相解析システム42において、後述する方法に
より参照鏡32が微小移動する毎に生ずる変調された干
渉縞のデータが逐次取込まれると、電子計Kfi44に
よりそのデータが演算処理されて、各測定点における初
期位相差が求められ、これを継ぎ合わせることにより被
測定物38の形状等を知ることができる。
次に参照鏡32の微小移動量を測定するための干渉計に
ついて説明する。参照鏡32には、これを微小移動させ
るための例えばピエゾ素子のような駆動装置46が取付
けられている。レーザ光源30からの平行ビームは、光
路(イ)、(ロ)を通って、前述のように第2ビームス
プリツタ36により直進する    ゛光路(へ)と光
路(ホ)を通って参照flt32により反射されて直進
する光路(ト)に分離される。光路(へ)の平行ビーム
は、第1の充分に精度のよい反射鏡48により直角に反
射されて、光路(チ)となって第3ビームスプリツタ5
2に入射される。また、光路(ト)の平行ビームは、第
2の充分に精度のよい反射鏡50により直角に反射され
て、光路(す)となって第3ビームスプリツタ52に入
射される。第3ビームスプリツタ52によって、上記の
反射鏡48の被検波たる光路(チ)の平行ビームと参照
鏡32の参照波たる光路(す)の平行ビームとが、光路
(ヌ)で干渉されて、その干渉縞は受光装置54によっ
て読取られる。受光装置54としては、例えば公知のモ
アし縞測定装置のように、受光素子を2つ、もしくは4
つ干渉縞が移動する方向に対し90°づつ位相をずらせ
て配置されたものが使用される。この受光装置54から
は参照鏡32が微小移動したときに生ずる干渉縞の変化
が、逐次縞位相測定装置56に出力され、その信号によ
って参照fi32の移動量が測定される。この測定値は
、電子計算@44に入力され、電子計算機において予め
設定された量だけ参照鏡32が移動したか否か等が演算
され、その結果により、駆動装置ドライブ回路58を介
して、参照鏡32を駆動する駆動装置46への印加電圧
の制御が行なわれる。
なお、上記においては、参照波の位相を微小変化させる
方法として、ピエゾ素子のような駆動装置46を直接参
照@32に取付け、参照鏡32を微動させる場合を例に
説明したが、本願発明はこれに限られるものではない。
すなわち、例えば参照鏡32は固定とし、光路(ホ)の
中間に2平面がわずかに傾斜した楔状〃ラス板を介装し
、この楔状〃ラス板を光路(ホ)に対し直角方向に微小
移動させて、光路長を変化させることによって参照波の
位相を変化させる方式において、楔状〃ラス板にピエゾ
索子を取付けて微小移動させる場合にも勿論適用可能で
ある。
次に第5図により本願発明をフィゾー型と通称される干
渉計に適用した第2実施例について説明する。第2実施
例の場合においても同一のレーザ光源および参照鏡を被
測定物の形状を測定するための測定用干渉計と、参照波
の位相を微小変化させるための参照鏡の微小移動量を測
定するための干渉計とに共用する。αは同じである。な
お、図において!@4図と同一符号を付しているものは
全く同一の機能を有するものである。レーザ光源30か
ら照射されたレーザ光は、平行ビームとなって第1ビー
ムスプリツタ60、第2ビームスプリツタ64を透過し
て参照鏡としてのハーフミラ66に入射する。ハーフミ
ラ66は光路に対しわずかに傾斜した参照面を有してお
り、この参照面を光路に対し直角に微動させることによ
り、光路長を変えることが出来るようになっている。こ
の参照面に入射された平行ビームの一部は、入射方向と
反対方向に反射されて参照波となる。またハーフミラ6
6を透過した一部の平行ビームは、被測定物38により
反射されて被検波となって、前記ハーフミラ66に帰還
し、ここで前記参照波と干渉して干渉縞が生ずる。この
干渉縞は前記@2ビームスプリッタ64を介して撮像装
置40によって読取られ、干渉縞位相解析システム42
、電子計算[44により被測定物38の形状等として測
定されることは第1実施例の場合と全く同様である。
次に、参照鏡の微小移動量を測定するための干渉計につ
いて説明する。前記した、光路に対し傾斜した参照面を
有するバー7ミ266には、これを光路に対し直角方向
に微小移動させるための、例えばピエゾ素子のような駆
動装置46が取付けられている。前記したレーザ光源3
0からの平行ビームは、第1ビームスプリツタ60によ
って直角に反射される光路と直進する光路に分離される
。直角に反射された平行ビームは、充分に精度のよい反
射鏡70により、入射方向と反対方向に反射されて、反
射@70の被検波として第1ビームスプリツタ60に帰
還する。また前記fPJ1ビームスプリッタ60を直進
する平行ビームは、前記したハーフミラ66により入射
方向と反対方向に反射され、参照波となって、第1ビー
ムスプリツタ60に帰還する。上記の反射鏡70の被検
波とハーフミラ66の参照波とは、1iビームスプリツ
タ60を介して干渉し、その干渉縞は受光装置54によ
って読取られる。この受光装置54によって読取られた
干渉縞の変化から、縞位相測定装置56によりハーフミ
ラ66の移動量が測定され、さらに電子計に磯44によ
り駆動装置ドライブ回路58を介して駆動装置46の制
御が行なわれる、αは第1実施例の場合と同様である。
上記の実施例において、参照波の位相を微小変化させる
ための駆動装置としては、光路に対し直角な参照面を有
するハーフミラを用い、このハーフミラをピエゾ素子等
で光路に沿って移動させるようにしても勿論可能である
。なお第5図において偏光板62とλ/4板68は、被
測定物38の被検波が撮像装置40には入射するが、受
光装置54には入射しないためのものである。すなわち
直線偏光レーザ30からの平行ビームは、偏光板62を
透過することにより偏光面が一つに制限された直線偏光
ビームとなる。
この直線偏光ビームはλ/4板6板金8過すると円偏光
ビームとなりさらに被測定物38によって反射された後
再びλ/4板6板金8過すると、元の直線偏光ビームに
対して偏光面が90°ずれた直線偏光ビームとなる。従
ってこの偏光面が90°ずれた直線偏光ビームは偏光板
62を透過せず、受光装置54には入射しないようにな
っている。
以上説明した本願発明の作用を、参照波の位相・を微小
変化させる方法として、参照鏡を光路と同一方向に微小
移動させる第4図の場合を例として説明する。いま駆動
装置46により参照鏡32を徐々に移動させると、その
移動量は参照鏡の微小移動量を測定するための干渉計を
介して、縞位相測定装置56により測定される。参照鏡
32の移動量が所定量に達しないとき、例えば第3図に
おいて、0位置から移動を始めてn、位置まで達してい
ないときには、電子計算機44の指令により駆動装置ド
ライブ回路58を介して駆動装置46が制御され、参照
鏡32は移動を継続する。参照鏡32が所定量移動し、
n1位置に達したことが測定されると、指令により参照
鏡32の移動は停止する。このときの参照鏡32の参照
波と被測定物38の被検波とが干渉して出来る干渉縞の
データは、被測定物の形状を測定するための測定用干渉
計により、撮像装置40を介して干渉縞位相解析システ
ム42により取込まれる。次いで再び指令により駆動装
置46が駆動し、参照鏡32は移動を開始し、参照I!
32がn2位置に達すると停止して、上記の場合と同様
、位相変調された干渉縞のデータが、干渉縞位相解析シ
ステム42により取込まれる。こうして第3図の例にお
いては16回(n+、1□・・・・・・・・n16)均
等に参照鏡が微小移動されたときの変g4された干渉縞
のデータがすべて取込まれると、電子計算機44により
演算処理された各測定点の初期位相差が求められ、これ
から被測定物の形状等を高精度に測定することができる
以上詳述したように本願発明によれば、被測定物の形状
測定用の干渉計と、参照波の位相を微小変化させるため
の駆動装置の微小移動量を画定するための干渉計とを有
し、かつ1つのレーザ光源と1つの参照波を両干渉計に
共用する構成としたことを特徴とするものであり、これ
により参照波の微小変化を、当該参照波を微小変化させ
るための駆動装置を組込んだレーザ干渉計で直接測定す
ることができること、その測定結果によりリアルタイム
で参照波の位相変化をクローズトループ制御で行なえる
こと、従って参照鏡等の精度の高い位置決めが可能であ
ること、静電容量センサを用いた場合のようにキャリブ
レーションする必要がないこと、また上記した2つの干
渉計は、レーザ光源と参照鏡以外は互いに独立した光学
系から成り立っており、相互に悪影響を与えることがな
いこと等の優れた効果を奏することが出来だ。
【図面の簡単な説明】
第1図は干渉計測の原理説明図、!@2図は縞走査方式
による干渉計測の原理説明図。第3図はその出力波形図
、第4図は本願発明の詳細な説明図、第5図は本願発明
の他の実施例説明図。 30:レーザ光源  32:参照[38:被測定物40
:撮像装置  44:電子計算機46:駆動装置52.
60:ビームスブリツタ  54:受光装置56:縞位
相測定装置  66:ハー7ミラ70:反射鏡

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 可干渉性光源からの平行ビームの光路上に設け
    られた参照鏡と、前記可干渉性光源からの平行ビームの
    光路上に設置された被測定物と、前記参照鏡により反射
    される参照波の位相を微小変化させる装置と、前記参照
    鏡により反射された参照波と前記被測定物により反射さ
    れた被検波とを干渉せしめる装置とからなり、前記参照
    波の位相を微小変化させたときに前記被検波との間に生
    ずる干渉縞の位相変調情報を撮像装置を介して取込み、
    それを解析することにより被測定物の表面形状等を測定
    するよう構成された縞走査方式による干渉計測装置にお
    いて、前記可干渉性光源からの平行ビームおよび前記参
    照鏡により反射された参照波を入射するビームスプリッ
    タと、前記ビームスプリッタを介して前記平行ビームと
    前記参照波とを干渉せしめて生ずる干渉縞を読取る読取
    装置とからなる参照波の位相変化量を測定する干渉計を
    備え、前記干渉計により測定された参照波の位相変化量
    により、前記参照波の位相を微小変化させる装置を制御
    することを特徴とする干渉計測装置。
  2. (2) 前記参照鏡により反射された参照波と前記被測
    定物により反射された被検波とを干渉せしめる装置が、
    可干渉性光源からの平行ビームをビームスプリッタによ
    り分離し、分離された一方の平行ビームを参照鏡により
    反射させて参照波として前記ビームスプリッタに帰還さ
    せ、分離された他の一方の平行ビームを被測定物により
    反射させて被検波として前記ビームスプリッタに帰還さ
    せ、前記ビームスプリッタにおいて前記参照波と前記被
    検波とを干渉せしめる装置であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の干渉計測装置。
  3. (3) 前記参照鏡により反射された参照波と前記被測
    定物により反射された被検波とを干渉せしめる装置が、
    可干渉性光源からの平行ビームの光路上に設けられたハ
    ーフミラにより反射される参照波と、前記ハーフミラを
    透過して被測定物により反射され、前記ハーフミラを再
    び透過する被検波とを干渉せしめる装置であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の干渉計測装置。
JP59278935A 1984-12-28 1984-12-28 干渉計測装置 Pending JPS61155902A (ja)

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JP (1) JPS61155902A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63138204A (ja) * 1986-11-29 1988-06-10 Toshiba Corp 形状測定方法
JPH04297808A (ja) * 1991-03-27 1992-10-21 Mitsutoyo Corp 位相シフトフィゾー干渉計の誤差補正方法
JPH04297807A (ja) * 1991-03-27 1992-10-21 Mitsutoyo Corp 位相シフトマイクロフィゾー干渉計
JP2008116293A (ja) * 2006-11-02 2008-05-22 Olympus Corp フリンジスキャン干渉縞計測方法および干渉計
JP2011123018A (ja) * 2009-12-14 2011-06-23 Olympus Corp フリンジスキャン干渉縞計測方法および干渉計

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