JPS61177413A - 顕微鏡の加熱冷却装置 - Google Patents

顕微鏡の加熱冷却装置

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JPS61177413A
JPS61177413A JP1877085A JP1877085A JPS61177413A JP S61177413 A JPS61177413 A JP S61177413A JP 1877085 A JP1877085 A JP 1877085A JP 1877085 A JP1877085 A JP 1877085A JP S61177413 A JPS61177413 A JP S61177413A
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Japan
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optical axis
disc
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heater
heating
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JP1877085A
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Yoshihiro Shimada
佳弘 島田
Yasuo Inoue
康夫 井上
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 且亙豆更 本発明は、顕微鏡の加熱冷却装置に関するものである。
m目」 、一般に、板状部材を所望の温度に制御するための方法
として、例えば第3図に示すようなヒーターの如き熱源
を接触させるようにした方法が多用されており、Pは板
状部材、Hは板状部材Pの下面に適宜な方法で接合され
た熱源例えばヒーターである。第3図(A)に示された
状態から熱源Hに通電を行なうと、該板状部材Pの熱源
Hに接している下面と上面との間に温度差が生じ−1従
って熱膨張の差によって板状部材Pが第3図CB)に示
した如く変形してしまう、特に、板状部材Pを所望の一
定温度に保持するために熱源Hをオンオフ制御する場合
第4図に示すように熱源Hの周期的なオンオフ動作(A
)に同期して板状部材Pが第4図(B)に示すように周
期的に変形することになる。このような板状部材Pの変
形は、例えば該板状部材が顕微鏡のステージに設けられ
た培養標本を載置するための載物台である場合には観察
像のボケを生ずる。これを防止するために板状部材Pの
厚さを増すことによって、ボケ量を減少することができ
る。ところが、厚さを増すと、ステージSf)移動、 
 レボルバ−回動または対物レンズ0の交換の際に対物
レンズ0と載物台Pとが干渉しやすくなったり(第5図
(A)参照)、載物台Pの上面がステージSの上面より
高くなって(第5図(B)参照)例えば(第5図(C)
に示すような)標本移動用のアタッチメントAが使用で
きなくなったり、また正立型顕微鏡の場合にはコンデン
サレンズCと載物台Pとが干渉しやすくなってしまう(
第5図(D)参照)等、問題があった。
尚、上記問題は、熱源としてサーモモジュールを使用し
て板状部材又は載物台を冷却する場合にも発生する。
1−豊 本発明は、以上の点に鑑み、厚さを増すことなく加熱ま
たは冷却の際の熱変形を減少せしめるようにした顕微鏡
の加熱冷却装置を提供することを目的としている。
l この目的は、光軸に対して垂直に配設されていて且つ少
なくとも一面に加熱体及び/または冷却体が接合されて
いる板状部材から構成されており、該板状部材の光軸に
対して垂直な方向の断面形状が光軸方向に不均一である
ことを特徴とする、顕微鏡の加熱冷却装置により解決さ
れる。
、11豆 すれば、第1図は本発明による加熱冷却装置を取付けた
倒立型顕微鏡を示しており、1は倒立型顕微鏡、2は水
平方向に移動可能なステージ、3はステージ2の一部と
して構成されまたはこれに取付けられ且つ載物台として
形成された中座ヒーター、4は中座ヒーター3上に載置
された培養観察容器、5はレボルバ−に装着された対物
レンズ、6は中座ヒーター3を設定温度にオンオフ制御
するための温度コントローラである。さらに、中座ヒー
ター3は、第2図に示すように中心に観察用の開口11
aを有するアルミニウムの円板11から構成されており
、その下面には同心円状の二つの環状溝11b、11c
が形成されていると共に温度センサー12が内蔵されて
いる。13は円板11の下面に接着されたフィルムヒー
ターで、温度センサー12からの信号に基づき温度コン
トローラ6により設定温度にオンオフ制御される。14
はフィルムヒーター13を保護するために備えられたカ
バーである。
本発明実施例は以上のように構成されているから、フィ
ルムヒーター13に通電することにより中座ヒーター3
を加熱して培養観察容器4を設定温度に制御すると、中
座ヒーター3の円板11のフィルムヒーター13に接し
ている下面は該円板11の上面に比べて温度が高く従っ
て熱膨張が大きいが、該円板11の上面及び下面におけ
る熱膨張の差による応力は円板11の下面に設けられた
二つの環状溝11b、11Cに集中して熱歪みが該環状
溝で吸収されるために、円板11の上下方向の変形が減
少せしめられる。
以下に具体的な実験例を示せば、第6図(A)に示した
寸法の中座ヒーター3を用いた場合フィルムヒーター1
30オンオフ制御に同期した円板11の中心から距離r
(wm)の部分での上方即ち2方向への変位量は第6図
(B)に実線で示すようになり、環状溝のない円板の場
合の変位量(点線図示)に比べて大幅に減少している。
従って、フィルムヒーター13のオンオフ制御による載
物台の上下方向の変位が少なくなり、培養観察容器4と
対物レンズ5との距離の変動も減少し、かくして像のボ
ケが減少する。尚、第6図(B)において鎖線Aは40
×の対物レンズの場合の焦点深度(約1.5μ)を示し
ており、上記中座ヒーター3の変位量は焦点深度内に納
まっている。
第7図及び第8図は本発明の他の実施例を示しており、
第2図(B)の環状溝11b、llcを備えた円板11
の代わりに使用される、同一円周上に配設された複数の
(図面では八個の)円形凹部15aを備えた円板15(
第7図参照)または同心円上で複数に(図面では四つに
)分割された弧状溝16a、16bを有する円板16(
第8図参照)が示されている。これらの実施例によれば
熱膨張の差による応力が凹部15aまたは弧状溝16a
、16bに集中するため、第2図の実施例の場合と同様
に熱歪みが該凹部または溝で吸収され、円板15または
16の上下方向の変形が減少せしめられる。
l豆旦盈1 以上述べたように本発明によれば、光軸に対して垂直に
配設されていて且つ少なくとも一面に加熱体及び/また
は冷却体が接合されている板状部材から構成されており
、その該板状部材の光軸に対して垂直な方向の断面形状
が光軸方向に不均一であるように顕微鏡の加熱冷却装置
を構成したから、加熱または冷却の際に板状部材に生じ
る温度差による熱膨張の差によって発生する応力は不均
一な部分即ち溝または凹部に集中する結果、熱歪みがこ
の部分で吸収され、かくして板状部材の上下方向の変形
が減少せしめられ、而もその光軸方向の厚さを増す必要
がないので観察に影響を及ぼすようなことはない。
尚、実施例ではフィルムヒーターにより加熱する場合に
ついて述べたが、サーモモジュールにより冷却する場合
にも本発明を適用し得ることはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による加熱冷却装置を実装した倒立型顕
微鏡の概略側面図、第2図は本発明の一実施例を示す(
A)一部破断側面図及び(B)円板の底面図、第3図は
板状部材の熱変形を説明する概略図、第4図は第3図の
板状部材のオンオフ制御時の変位量を示すタイムチャー
ト、第5図は各々従来の顕微鏡の加熱冷却装置でその厚
さを増したときの不具合を示す図、第6図は第2図の実
施例の具体的な実施形態の(A)寸法及び(B)熱変形
による変位量を示す図、第7図及び第8図は本発明の他
の実施例を示す図である。 1・・・・倒立型顕微鏡、2・・・・ステージ、3・・
・・中座ヒーター、4・・・・培養観察容器、5・・・
・対物レンズ、6・・・・温度コントローラ、11,1
5゜16・・・・円板、11b、11C・・・・環状溝
、12・・・・温度センサー、13・・・・フィルムヒ
ーター、14・・・・カバー、15a・・・・円形凹部
、16a。 16b・・・・弧状溝。 矛2図 (B) (A)               (B)、?5W
J (A) (D)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 光軸に対して垂直に配設されていて且つ少なくとも一面
    に加熱体及び/または冷却体が接合されている板状部材
    から構成されており、該板状部材の光軸に対して垂直な
    方向の断面形状が光軸方向に不均一であることを特徴と
    する、顕微鏡の加熱冷却装置。
JP1877085A 1985-02-04 1985-02-04 顕微鏡の加熱冷却装置 Expired - Lifetime JPH0718977B2 (ja)

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JP1877085A JPH0718977B2 (ja) 1985-02-04 1985-02-04 顕微鏡の加熱冷却装置

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Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61177413A true JPS61177413A (ja) 1986-08-09
JPH0718977B2 JPH0718977B2 (ja) 1995-03-06

Family

ID=11980866

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JP1877085A Expired - Lifetime JPH0718977B2 (ja) 1985-02-04 1985-02-04 顕微鏡の加熱冷却装置

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JP (1) JPH0718977B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7502165B2 (en) * 2006-07-26 2009-03-10 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Arrangement for regulating the temperature of the sample space of a microscope
JP2013044825A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Tokai Hit:Kk 顕微鏡観察用加温装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7502165B2 (en) * 2006-07-26 2009-03-10 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Arrangement for regulating the temperature of the sample space of a microscope
JP2013044825A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Tokai Hit:Kk 顕微鏡観察用加温装置

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