JPS6117916B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6117916B2 JPS6117916B2 JP631381A JP631381A JPS6117916B2 JP S6117916 B2 JPS6117916 B2 JP S6117916B2 JP 631381 A JP631381 A JP 631381A JP 631381 A JP631381 A JP 631381A JP S6117916 B2 JPS6117916 B2 JP S6117916B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strip
- seal roll
- foreign matter
- plating
- plating liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
本発明は横型電気メツキ装置におけるメツキ操
業方法に関する。 ストリツプの連続メツキ装置としてメツキ槽の
入側及び出側にシールロールを備えた横型電気メ
ツキ装置が知られている。第3図及び第4図はこ
のような装置の一例を示すもので、メツキ槽1上
部の入側と出側にはそれぞれシールロール2,2
及び3,3が設けられ、メツキ液4がシールされ
る。ストリツプ5は入側シールロール2,2間か
らメツキ槽1内に入り、上下電極6,6′を通つ
て出側シールロール3,3間から槽外へ抜け出る
もので、この際ストリツプ5表面のメツキ液が絞
られるようになつている。このような装置では、
前記電極6,6′は複数の金属角棒からなつてい
るが、この金属角棒に〓間が生じたりした場合、
その間に電位差が生じ、このため電極そのものの
表面にメツキ金属が析出してしまうという現象が
起きる。このようにして析出した金属は電極表面
との密着性が悪く、振動やメツキ液の噴流によつ
て容易に剥離し、異物となつてメツキ液中に含ま
れ、その一部がストリツプとともに出側のシール
ロール3,3に噛込まれてしまう。第6図はこの
ような噛込みの状況を示すもので、ストリツプの
ラインスピードが遅い場合には、同図aで示すよ
うに、異物7はストリツプ5上面に落下し、その
まま出側シールロール3に噛込まれ、またライン
スピードが比較的速い場合は、同図bで示すよう
にメツキ液4中に浮遊した異物7が直接出側シー
ルロール3に噛込まれ、またラインスピードがさ
らに速い場合には、同図cで示すように出側シー
ルロール3の近傍に乱流が生じ異物7の一部は出
側シールロール3上方に押し出されるような状態
となるが、他の一部は出側シールロール3に噛込
まれてしまうことになる。このように、いずれに
しても異物7の出側シールロール3への噛込みは
不可避的なものとなるが、異物7がストリツプ5
とともに出側シールロール3に噛込まれた場合、
第6図aでも示すように、異物7′がストリツプ
表面に圧着されてそのまま残つたり、またストリ
ツプ5に異物7による押疵が生じたりして、製品
の品質を落してしまうという問題がある。 本発明はこのような従来の問題点を解消すべく
創案されたもので、メツキ液中の異物の出側シー
ルロールへの噛込みを防止し、もつて異物による
ストリツプ表面の押疵の発生を防止しつつメツキ
を行うことができる操業方法を提供せんとするも
のである。 本発明は出側シールロールの噛込み側に噴射ノ
ズルを設け、上下電極間を出て出側シールロール
噛込み直前のストリツプ上面側において、メツキ
液をストリツプ幅方向片側の端から他側の端方向
へ噴射せしめることにより、ストリツプ幅方向他
側端での流速が0.1m/s以上のメツキ液流を出側
シールロールに沿つて形成せしめるものであり、
かくするならば、出側シールロール噛込み側に浮
遊し或はストリツプ上面に落下している異物は前
記噴射ノズルからの出側シールロールに沿つた流
れにより噛込み部から吹き飛ばされ、異物の出側
シールロールへの噛込みが適正に防止される。 第1図及び第2図は本発明の実施例を示すもの
であつて、9はメツキ液の貯蔵槽であり、メツキ
液はこの貯蔵槽9とメツキ槽1間を循環するよう
になつている。本発明の実施に用いられる噴射ノ
ズル10は、ストリツプ幅方向片側の端で出側シ
ールロール3,3のストリツプ上面側噛込み部に
近接した状態に配設され、そのノズル口11は水
平ないし斜め下向きの状態でストリツプ5幅方向
他側の端方向を向いている。前記噴射ノズル10
には貯蔵槽9からの配管12が接続され、この配
管12途中にはポンプ13が設けられている。 本発明はかかる構成において、メツキ中前記ポ
ンプ13によつて貯蔵槽9内のメツキ液を噴射ノ
ズル10に供給し、上下電極6,6′間を出て出
側シールロール3に噛込む直前のストリツプ上面
側において、この噴射ノズル10からメツキ液を
ストリツプ5幅方向の他側の端方向へ噴射せし
め、出側シールロール3,3に沿つた流れを形成
せしめるものである。かくすれば、出側シールロ
ール3近傍で浮遊し或はストリツプ5上面に載つ
ている異物は出側シールロール3に噛込む直前に
該シールロールに沿つたメツキ液流によつてスト
リツプ外方に押し流され、これによつて出側シー
ルロール3への異物の噛込みは適正に防止され
る。 このようにして異物を噴流により押し流すには
第2図におけるA点、すなわちストリツプ5幅方
向他端側での流速が最低0.1m/s必要であり、し
たがつて上記A点における流速が0.1m/s以上と
なるよう上記メツキ液流が形成される。そして、
このような流速を確保すべく、前記噴射ノズル1
0の噴射量、噴射圧等が決定される。 なお、本発明における噴射ノズル10による噴
射角度、換言すれば噴射ノズル10のストリツプ
5に対する下向きの傾斜角度αは0α<90゜の
範囲で適宜選択できるが、噴射の効率性等を考慮
すれば0α45゜とすることが好ましい。また
噴射ノズル10はシールロール3の噛込み部にな
るべく近いほうが好ましい。 下表は、本発明法を連続電気亜鉛メツキにおけ
るストリツプのラインスピードとメツキ液の流速
とを種々変化させて実施した結果を異物対策を何
ら講じていない従来法と比較して示したものであ
る。なお、本発明では、いずれの場合も前記A点
での噴射ノズル10による流速を0.8m/sとした
ものである。
業方法に関する。 ストリツプの連続メツキ装置としてメツキ槽の
入側及び出側にシールロールを備えた横型電気メ
ツキ装置が知られている。第3図及び第4図はこ
のような装置の一例を示すもので、メツキ槽1上
部の入側と出側にはそれぞれシールロール2,2
及び3,3が設けられ、メツキ液4がシールされ
る。ストリツプ5は入側シールロール2,2間か
らメツキ槽1内に入り、上下電極6,6′を通つ
て出側シールロール3,3間から槽外へ抜け出る
もので、この際ストリツプ5表面のメツキ液が絞
られるようになつている。このような装置では、
前記電極6,6′は複数の金属角棒からなつてい
るが、この金属角棒に〓間が生じたりした場合、
その間に電位差が生じ、このため電極そのものの
表面にメツキ金属が析出してしまうという現象が
起きる。このようにして析出した金属は電極表面
との密着性が悪く、振動やメツキ液の噴流によつ
て容易に剥離し、異物となつてメツキ液中に含ま
れ、その一部がストリツプとともに出側のシール
ロール3,3に噛込まれてしまう。第6図はこの
ような噛込みの状況を示すもので、ストリツプの
ラインスピードが遅い場合には、同図aで示すよ
うに、異物7はストリツプ5上面に落下し、その
まま出側シールロール3に噛込まれ、またライン
スピードが比較的速い場合は、同図bで示すよう
にメツキ液4中に浮遊した異物7が直接出側シー
ルロール3に噛込まれ、またラインスピードがさ
らに速い場合には、同図cで示すように出側シー
ルロール3の近傍に乱流が生じ異物7の一部は出
側シールロール3上方に押し出されるような状態
となるが、他の一部は出側シールロール3に噛込
まれてしまうことになる。このように、いずれに
しても異物7の出側シールロール3への噛込みは
不可避的なものとなるが、異物7がストリツプ5
とともに出側シールロール3に噛込まれた場合、
第6図aでも示すように、異物7′がストリツプ
表面に圧着されてそのまま残つたり、またストリ
ツプ5に異物7による押疵が生じたりして、製品
の品質を落してしまうという問題がある。 本発明はこのような従来の問題点を解消すべく
創案されたもので、メツキ液中の異物の出側シー
ルロールへの噛込みを防止し、もつて異物による
ストリツプ表面の押疵の発生を防止しつつメツキ
を行うことができる操業方法を提供せんとするも
のである。 本発明は出側シールロールの噛込み側に噴射ノ
ズルを設け、上下電極間を出て出側シールロール
噛込み直前のストリツプ上面側において、メツキ
液をストリツプ幅方向片側の端から他側の端方向
へ噴射せしめることにより、ストリツプ幅方向他
側端での流速が0.1m/s以上のメツキ液流を出側
シールロールに沿つて形成せしめるものであり、
かくするならば、出側シールロール噛込み側に浮
遊し或はストリツプ上面に落下している異物は前
記噴射ノズルからの出側シールロールに沿つた流
れにより噛込み部から吹き飛ばされ、異物の出側
シールロールへの噛込みが適正に防止される。 第1図及び第2図は本発明の実施例を示すもの
であつて、9はメツキ液の貯蔵槽であり、メツキ
液はこの貯蔵槽9とメツキ槽1間を循環するよう
になつている。本発明の実施に用いられる噴射ノ
ズル10は、ストリツプ幅方向片側の端で出側シ
ールロール3,3のストリツプ上面側噛込み部に
近接した状態に配設され、そのノズル口11は水
平ないし斜め下向きの状態でストリツプ5幅方向
他側の端方向を向いている。前記噴射ノズル10
には貯蔵槽9からの配管12が接続され、この配
管12途中にはポンプ13が設けられている。 本発明はかかる構成において、メツキ中前記ポ
ンプ13によつて貯蔵槽9内のメツキ液を噴射ノ
ズル10に供給し、上下電極6,6′間を出て出
側シールロール3に噛込む直前のストリツプ上面
側において、この噴射ノズル10からメツキ液を
ストリツプ5幅方向の他側の端方向へ噴射せし
め、出側シールロール3,3に沿つた流れを形成
せしめるものである。かくすれば、出側シールロ
ール3近傍で浮遊し或はストリツプ5上面に載つ
ている異物は出側シールロール3に噛込む直前に
該シールロールに沿つたメツキ液流によつてスト
リツプ外方に押し流され、これによつて出側シー
ルロール3への異物の噛込みは適正に防止され
る。 このようにして異物を噴流により押し流すには
第2図におけるA点、すなわちストリツプ5幅方
向他端側での流速が最低0.1m/s必要であり、し
たがつて上記A点における流速が0.1m/s以上と
なるよう上記メツキ液流が形成される。そして、
このような流速を確保すべく、前記噴射ノズル1
0の噴射量、噴射圧等が決定される。 なお、本発明における噴射ノズル10による噴
射角度、換言すれば噴射ノズル10のストリツプ
5に対する下向きの傾斜角度αは0α<90゜の
範囲で適宜選択できるが、噴射の効率性等を考慮
すれば0α45゜とすることが好ましい。また
噴射ノズル10はシールロール3の噛込み部にな
るべく近いほうが好ましい。 下表は、本発明法を連続電気亜鉛メツキにおけ
るストリツプのラインスピードとメツキ液の流速
とを種々変化させて実施した結果を異物対策を何
ら講じていない従来法と比較して示したものであ
る。なお、本発明では、いずれの場合も前記A点
での噴射ノズル10による流速を0.8m/sとした
ものである。
【表】
【表】
以上の表からも明らかなように、本発明法によ
れば、従来法に較べ異物噛込みによる押疵の発生
を大幅に抑えることができ、特にラインスピード
が高い場合、押疵等の欠陥がほとんどないことが
判る。 以上述べた本発明法によれば、出側シールロー
ルへ噛込む直前の異物をメツキ槽中の出側シール
ロールに沿つたメツキ液流で押し流し、異物の出
側シールロールへの噛込みを適正に防止すること
ができ、これによりストリツプの押疵の発生を防
止し、良好な品質のメツキ製品を得ることができ
るという優れた効果がある。
れば、従来法に較べ異物噛込みによる押疵の発生
を大幅に抑えることができ、特にラインスピード
が高い場合、押疵等の欠陥がほとんどないことが
判る。 以上述べた本発明法によれば、出側シールロー
ルへ噛込む直前の異物をメツキ槽中の出側シール
ロールに沿つたメツキ液流で押し流し、異物の出
側シールロールへの噛込みを適正に防止すること
ができ、これによりストリツプの押疵の発生を防
止し、良好な品質のメツキ製品を得ることができ
るという優れた効果がある。
第1図ないし第3図は本発明の実施に利用され
る噴射ノズルの電気メツキ装置への取付状態を示
すもので、第1図は側面を示す説明図、第2図は
平面を示す説明図、第3図は噴射ノズルのストリ
ツプに対する傾斜角度を示す説明図である。第4
図及び第5図は従来の電気メツキ設備を示すもの
で、第4図は側面を示す説明図、第5図は平面を
示す説明図である。第6図a〜cは異物の出側シ
ールロールへの噛込み状況を示す説明図である。 図において、7は異物、10は噴射ノズルを各
示す。
る噴射ノズルの電気メツキ装置への取付状態を示
すもので、第1図は側面を示す説明図、第2図は
平面を示す説明図、第3図は噴射ノズルのストリ
ツプに対する傾斜角度を示す説明図である。第4
図及び第5図は従来の電気メツキ設備を示すもの
で、第4図は側面を示す説明図、第5図は平面を
示す説明図である。第6図a〜cは異物の出側シ
ールロールへの噛込み状況を示す説明図である。 図において、7は異物、10は噴射ノズルを各
示す。
Claims (1)
- 1 出側シールロールの噛込み側に設けられた噴
射ノズルにより、上下電極間を出て出側シールロ
ール噛込み直前のストリツプ上面側において、メ
ツキ液をストリツプ幅方向片側の端から他側の端
方向へ噴射せしめることにより、ストリツプ幅方
向他側端での流速が0.1m/s以上のメツキ液流を
出側シールロールに沿つて形成せしめることを特
徴とする横型電気メツキ装置の操業方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP631381A JPS57120690A (en) | 1981-01-21 | 1981-01-21 | Method for prevention of inclusion of foreign matter to outlet side sealing rolls in horizontal type electroplating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP631381A JPS57120690A (en) | 1981-01-21 | 1981-01-21 | Method for prevention of inclusion of foreign matter to outlet side sealing rolls in horizontal type electroplating device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57120690A JPS57120690A (en) | 1982-07-27 |
| JPS6117916B2 true JPS6117916B2 (ja) | 1986-05-09 |
Family
ID=11634875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP631381A Granted JPS57120690A (en) | 1981-01-21 | 1981-01-21 | Method for prevention of inclusion of foreign matter to outlet side sealing rolls in horizontal type electroplating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57120690A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61270395A (ja) * | 1985-03-28 | 1986-11-29 | Kawasaki Steel Corp | 電気めつき方法 |
| DE05075545T1 (de) | 1998-05-20 | 2006-08-31 | Process Automation International Ltd., Tai Po | Vorrichtung zur Elektroplattierung |
| US6261425B1 (en) | 1998-08-28 | 2001-07-17 | Process Automation International, Ltd. | Electroplating machine |
-
1981
- 1981-01-21 JP JP631381A patent/JPS57120690A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57120690A (en) | 1982-07-27 |
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