JPS61190092A - 伝熱管の製造方法 - Google Patents

伝熱管の製造方法

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JPS61190092A
JPS61190092A JP60032149A JP3214985A JPS61190092A JP S61190092 A JPS61190092 A JP S61190092A JP 60032149 A JP60032149 A JP 60032149A JP 3214985 A JP3214985 A JP 3214985A JP S61190092 A JPS61190092 A JP S61190092A
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pipe
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heat exchanger
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Hiroto Nakama
啓人 中間
Masatoshi Inatani
正敏 稲谷
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Matsushita Refrigeration Co
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/615Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
    • C25D5/617Crystalline layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/605Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は熱交換器や、ヒートパイプに利用される、特に
液媒体を流動させる伝熱管に関する0従来の技術 熱交換部材に多孔質層を形成し、表面積の増大沸騰伝熱
の促進効果を計ることは一般に知られているが、伝熱管
内に多孔質層を形成することは焼結、溶射法では困難で
あるから通常はメッキ法を利用する。しかし、この様な
表面積を増大し沸騰伝熱の促進効果を計るために行うメ
ッキ法は、平滑メッキと異った条件で加工し、適度なポ
ーラス性と突起を有するメッキ層に仕上げる必要がある
0この様なメッキ層を形成する方法としては、通常の平
滑メッキを得るために必要な錯塩や、にかわ状物質、光
沢剤、結晶微粒子化のための添加剤等はメッキ液中に配
合しないか、極〈微量としたメッキ液を使用し、メッキ
条件としては一般的に高温で高電流密度で行ない、メッ
キ液は高速の流動攪拌を行うことにより形成される。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、この様な条件で伝熱管内壁面等にメッキ
液を導入してもなかなか内部まで均一に多孔質状のメッ
キをすることができず、錯塩の少ない不安定なメッキ液
条件となっているため短時間に分解を起こし、量産性に
向かないばかりか、伝熱管パイプ壁面とメッキ層との密
着も不充分であり、液媒体の流動時及び振動や衝撃にて
メッキ層が剥離してしまう等の問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、均一にかつ密着性の優れ
た凸凹状のメッキ層を形成し表面積の増大した、沸騰伝
熱の促進効果が計れる伝熱壁面をもつ伝熱管を提供する
ものである。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために、本発明の伝熱管は、オキ
シエチレン系界面活性剤であるポリエチレングリコール
と、0.001 x 10−3rnol/flから2.
0x10−’mo17αの塩化物イオンを添加剤として
加えたメッキ液を用い、伝熱管側をカソードとし電気メ
ッキを施すことにより、伝熱管内壁面に凸凹のメッキ層
を形成させたものである。
作  用 本発明は上記した構成によって、メッキ液中のオキ7工
チレン系界面活性剤であるポリエチレングリコールの分
子につかまえられて錯体化している金属イオンが、0 
、001 X 10 ””fno 11 /Ilカら2
 、OXl 0−’rnof1./fLの低濃度の塩化
物イオンの存在下で、塩化物イオンと不安定に結合し凸
凹のメッキ層を形成するのに働く0すなわち錯塩の少な
い不安定なメッキ液や過度な条件でのメッキ工法を必要
としないのでメッキ液の分解も少なく、メッキ層と伝熱
管壁面との密着も良好となり、前記凸凹のメッキ層が表
面積の増大と沸騰伝熱の促進効果をはかることができる
ものである。
実施例 以下本発明の一実施例について、第1図から第4図を参
考にしながら説明する。
1は銅パイプの伝熱管2とアルミニウムの薄片加工した
放熱フィン3とからなる熱交換器である。
この伝熱管2の内壁面4には凸凹の銅メッキ層5が形成
されている。又、この伝熱管2の両端6a。
6bはかしめ加工と溶接により完全にシールされ、内部
にフロンガスが封入されている。7はヒーター8により
温調可能なメッキ槽であり、メッキ液9が入れられであ
る。このメッキ液9としては、0.6moj!/J! 
Cu 5o4−5H20、0,5rnoll/It H
2SO4゜0.04x10  rnoX/X HCX及
び1oorny/j!  ポリエチレングリコールが含
まれている。また10は両端6a 、6bf封止する前
の銅パイプからなる伝熱管であり、連結管11と循環ポ
ンプ12を組み合わせることにより、メッキ液9を伝熱
管1゜の内部に循環させるようにしている0尚、すでに
放熱フィン3は伝熱管10を拡管することにより伝熱管
10の外周に固定されている。さらに連結管11には、
直流電源13に直結されているチタン棒に白金メッキし
た対極14と、対極14と逆の電荷を与えられる接続端
子15とが固定されている。伝熱管1oと連結管11と
を接続端子16で結合させた時、接続端子15と伝熱管
1oとの接触を防止するためにポリプロピレンでできた
不電導体のスペーサー16が挿入されている。又17は
メッキ液9に空気を吸き込むエアーポンプである。
次にかかる構成での熱交換器の製造方法について説明す
る。
まず、伝熱管1oと放熱フィン3とを定位置にて仮嵌合
しておき、伝熱管10f、所定の拡管機で拡管し、伝熱
管1oと放熱フィン3とを圧着させておく。次に、この
伝熱管10と連結管11と循環ポンプ12とを組み合わ
せ、メッキ槽7中のメッキ液9を伝熱管10の内部に循
環させる。この時、メッキ液9としては0 、6rno
X/fl CuSo4・5H20゜0.5moA/J!
 H2SO4,0,04x10 rnoX/ft HC
jl。
1009/nポリエチレングリコールを含む酸性硫酸銅
メッキ液を使用する。そこで、直流電源13によりチタ
ン棒に白金メッキを施した対極14に正の電荷をかけア
ノード側とし、一方の接続端子16には負の電荷をかけ
カソード側とする。この時の電流値は約200 mA/
crdとし約20分間通電する。又メッキ液の温度はメ
ッキ槽7のヒーター8により加熱され約50℃とした。
ここで通常のメッキ液であれば、カソード側である伝熱
管10の内壁面全体に均一な厚みで銅が析出するが、メ
ッキ液9には、オキシエチレン系の界面活性剤であるポ
リエチレングリコールと低濃度の塩酸により生じる塩素
イオンとを有するために全体に均一な厚みの銅メッキ層
とはならず、凸凹の銅メッキ層6が形成されることにな
る。この理由としては、界面活性剤であるポリエチレン
グリコールの分子につかまえられ錯体化している銅イオ
ンが、低濃度の塩素イオンの存在下で塩素イオンと不安
定に結合するためである0特に、凸凹の銅メッキ層5の
形成においては、界面活性剤であるポリエチレング、リ
コール及び塩酸の濃度が重要な役割をはたしており、特
に塩酸の濃度は以下の範囲に規定する必要がある00塩
酸o、colxlo −’mo11./fl 〜2.O
X10−3rnoV1次に、伝熱管10の内壁を湯洗に
より洗浄し、乾燥した後フロンガスを内部に封入し、両
端6a。
6biかしめ溶接することにより、伝熱管2と放熱フィ
ン3とを持つ熱交換器1が完成する。
この様にして得られた熱交換器1は、メッキ液中の界面
活性剤である適量のポリエチレングリコール及び塩酸を
規定量加えているために伝熱管2の内壁面4に凸凹の銅
メッキ層6には、樹木状の銅メッキが密に形成されてお
り、表面積を増大させるばかりではなく、樹枝状の銅メ
ッキが密に形成されているため、凸凹の銅メッキ層6は
、沸騰伝熱の沸騰核となり、通常の針状の凸凹メッキに
比較して沸騰伝熱の促進効果を計ることができる〇又内
壁面4でフロンガスが液化した時、液体層が、凸凹の銅
メッキ層5の凸部にて粒滴となり、内壁面4から平滑面
よりも早く離れるために、厚い断熱層である液体層が形
成されないので、凝縮時の伝熱も促進されることになる
0すなわち、フロン液化ガスを封入し、蒸発、凝縮ヲ<
す返すヒートパイプの様な熱交換器1の伝熱効率を著し
く良くしたものが得られる0 又前記方法にて形成されたこの樹枝状の銅メッキが密に
形成された伝熱管2の内壁面4の凸凹の銅メッキ層5は
錯塩の少ない不安定なメッキ液や過度な条件でのメッキ
工法を必要としないのでメッキ液の分解も少なくその硬
度及び密着性はたいへん良好であり、常に安定した凸凹
の銅メッキ層6が形成される。
尚、本発明の実施例では凸凹のメッキ層5を形成させる
手段として、酸性硫酸銅メッキ液を使用したが、熱伝導
性の面で銅が有利であるものの他の金属メッキ液でも可
能であり銅メッキに限定するものではない。さらに塩酸
についてもN a Cftの様な塩化物でも可能であり
、メッキ液中で塩素イオンとして遊離する塩化物イオン
をすべて含むものである。但し塩素イオン濃度が2 、
Ox 10−3rnoR,711以上になると、メッキ
層が凸凹のメッキ層5とならず平たんなメッキ層となり
、又0.oo1x 10−5mOβ/J2未満になると
、凸凹のメッキ層5は形成されるがメッキの密度が疎に
なる。
発明の効果 以上のように本発明は、伝熱管壁面にオキシエチレン系
界面活性剤であるポリエチレングリコールと0.001
 X 10− ’ rnoIl、、/λから2.0X1
0−’man/nの塩化物イオンを添加剤として加えた
メッキ液により樹枝状の凸凹メッキ層を形成してなる伝
熱管であるから以下の効果が得られるものである。
(al  伝熱管の内壁面の凸凹のメッキ層には、樹木
状のメッキが密に形成され、これが表面積を増大させる
ばかりではなく、樹枝状のメッキが密に形成されている
ため、前記凸凹のメッキ層は、ヒートパイプに用いたと
き沸騰伝熱の沸騰核となり、通常の針状の凸凹メッキに
比較して沸騰伝熱の促進効果を計ることができる。
(b)  凝縮時の熱伝達に関しても、ヒートパイプに
用いたとき伝熱管の内壁面でフロンガスが液化した場合
、液体層が凸凹メッキ層の凸部にて粒滴となり、内壁面
から平滑面よりも早く離れるために、厚い断熱層である
液体層が形成されないので、凝縮時の伝熱も促進される
ことになる0 (C)  伝熱管の゛内壁面に形成された凸凹のメッキ
層は、錯塩の少ない不安定なメッキ液や過度な条件での
メッキ工法を必要としないのでメッキ液の分解も少なく
その硬度及び密着性はたいへん良好であり、常に安定し
た凸凹のメッキ層が形成される。
しかし、塩化物イオンの濃度が、0.001 X10−
 ’mo 171未満となると凸凹のメッキ層は形成さ
れるがメッキの密度が疎になり、又2.OX10一3m
oj!/n以上になるとメッキ層が凸凹のメッキ層とな
らず平たんなメッキ層になるため、塩素イオン濃度はo
、oolx 1o −’rno11./11〜2xi 
o −’moil/Itの範囲に規定する必要がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す熱交換器の横断面図、
第2図は同熱交換器の縦断面図、第3図は同熱交換器の
斜視図、第4図は同メッキ装置の概略図である。 1・・・・・・熱交換器、2・・・・・・伝熱管、6・
・・用凸凹の銅メッキ層、9・・・・・・メッキ液、1
6・・・・・・対極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが1名1°
”          9− jv”=’1i151.
対 楊

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 伝熱管壁面にオキシエチレン系界面活性剤であるポリエ
    チレングリコールと、0.001×10^−^3mol
    /lから2.0×10^−^3mol/lの塩化物イオ
    ンを添加剤として加えたメッキ液により樹枝状の凸凹メ
    ッキ層を形成してなる伝熱管の製造方法。
JP60032149A 1985-02-20 1985-02-20 伝熱管の製造方法 Expired - Lifetime JPH0633500B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100422455B1 (ko) * 2001-11-02 2004-03-11 엘지.필립스 엘시디 주식회사 구리 전해 도금액

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5111025A (en) * 1974-07-19 1976-01-28 Sony Corp Nashijigaikano teisuru denkinitsukerumetsukiho
JPS5844319A (ja) * 1981-09-09 1983-03-15 Canon Inc カメラの走査型重みづけ測光装置

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