JPS6119283Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、水中に溶存している空気又は炭酸ガ
ス等を、水中から脱気除去するための脱気器の改
良に関するものである。

ボイラ、蒸気装置等に使用する給水は天然水の
ほかに水蒸気を凝縮して得られる溜出水などであ
つて、この給水中には空気、炭酸ガス等が含ま
れ、このままでは加熱時にガスを分離し殊に給水
中に溶存する酸素は加熱管その他の関連機器等を
腐食させる原因となるため、予めこれらのガスを
脱気除去することが必要である。

従来、この種の脱気器には、密閉型のケーシン
グ内を隔壁にて上部の一次脱気室と下部の二次脱
気室とに区成し、前記一次脱気室内には、その上
部に給水のスプレーノズルを、下部に環状トレー
を設ける一方、前記二次脱気室内には、二次脱気
室と一次脱気室の両方に連通する気液接触装置を
設けると共に加熱蒸気導入管を開口して成る脱気
器が一般的に使用されている。

そして、この種の脱気器は、一次脱気室内にス
プレーノズルから噴出供給される給水を、二次脱
気室から一次脱気室に上昇する蒸気に接触させて
一次脱気し、この一次脱気後の給水を、二次脱気
室内の気液接触装置において二次脱気室に最初に
供給される加熱用蒸気と接触させて二次脱気を行
なわせるものである。

従つて大量の蒸気が二次脱気室内の気液接触装
置を通過するため、孔のあいた棚または鋸歯状に
縁を切つた樋を重ねて、そこに水を流し薄い膜に
して加熱蒸気との接触面積を大きくして脱気を行
なわせるいわゆるトレー式の気液接触装置におい
ては、例えば器内圧力0.45Kg／cm²Ｇ、給水入口温
度15℃、給水量45T／Hrに対して蒸気流量が5450
Kg／Hrのとき、トレーにおける蒸気の通過面積
が狭ければ、上昇する蒸気のために給水が下降で
きないという“フラツデイング現象”を生じ、円
滑な脱気作用が阻害されることになるが、これを
避けるためにはトレーにおける蒸気の通過面積を
不必要に大きくしなければならず、そのために脱
気器の大型化が避けられないのである。

本考案は、前記のフラツデイング現象の発生を
抑えながら効率よく給水の脱気を行ない得る脱気
を得ようとするもので、その要旨とするところ
は、密閉型のケーシング内を略水平状の隔壁にて
上部の一次脱気室と下部の二次脱気室とに区成
し、前記一次脱気室内には、その上部に給水のス
プレーノズルを、下部に環状トレーを設ける一
方、前記二次脱気室内には、二次脱気室と一次脱
気室の両方に連通する気液接触装置を設けると共
に加熱蒸気導入管を開口して成る脱気器におい
て、前記気液接触装置を前記隔壁より二次脱気室
内に向つて下向きに垂設した筒状側壁内に設ける
一方、前記隔壁には、二次脱気室を一次脱気室に
連通するための立上り管を、当該隔壁の上面から
一次脱気室内に向つて上向きに突出するように設
けたことにある。

以下本考案の一実施例を添付図面に基いて説明
する。

脱気水貯溜タンク２２の上面に取付け用脚２５
を介して載置された密閉型のケーシング１内は、
中央に水滴および蒸気の通路となる開口２を有す
る略水平状の隔壁３を境として、上部を一次脱気
室４に、下部を二次脱気室５に各々区成され、一
次脱気室４内の上部には、複数のスプレーノズル
６を配設し且つ給水管７を接続して成るヘツダー
８が設けられていると共に、このヘツダー８と前
記隔壁３との中間においては中央に水滴および蒸
気の通路１０を有する環状トレー１１がケーシン
グ１内面に固着して設けられ、該環状トレー１１
の内周縁にはリング状の堰板１８が設けられてい
る。更に、一次脱気室４にはベント管９が設けら
れている。

前記二次脱気室５内には、前記隔壁３の内周開
口２の周縁から筒状側壁１５を二次脱気室５内に
向つて下向きに垂設し、その内部に気液接触装置
１６を設ける。この気液接触装置１６は、第２図
に例示したように、例えば通路１２が千鳥状をな
すように多数のトレー１３を上下に間隔１４を置
いて配設し、その上端開口１７を前記隔壁３の内
周開口２と略合致するように一次脱気室４内に臨
ませ、下端開口１９を二次脱気室５への開放状態
としている。

そして、この二次脱気室５内には脱気用加熱蒸
気導入管２０を接続開口し、前記隔壁３には二次
脱気室５を一次脱気室４に連通するための立上り
管２１を、当該隔壁３の上面から一次脱気室４内
に向つて上向きに突出するように設ける。

従つて、加熱蒸気導入管２０から二次脱気室５
に最初に供給された脱気用加熱蒸気の一部は二次
脱気室５の気液接触装置１６を経て一次脱気室４
に導入されるとともに、他の一部は気液接触部１
６を経ないで前記立上り管２１を通つて一次脱気
室４へ直接的に導入することができるようになつ
ている。

なお、この立上り管２１の数や総面積は所望に
応じ適宜定められ、また、前記二次脱気室５内の
底部は降水管２３を介して前記脱気水貯溜タンク
２２に連通しており、図中符号２４は、二次脱気
室５内と脱気水貯溜ダンク２２内とを連通するた
めの均圧管である。

しかして、給水管７を通つてヘツダー８に導入
された給水はスプレーノズル６により霧状となつ
て一次脱気室４内の全体に広がり、その一部は気
液接触装置１６におけるトレー１３に直接落下し
て溜る一方、一次脱気室４の周壁面を伝つて流下
する給水および環状トレー１１の上面に落下した
給水は堰板１８から膜状で溢流して、その下部の
隔壁３の上面を介して、当該隔壁３の上面より下
方の気液接触装置１６へ流下する。このようにし
て気液接触装置１６のトレー１３に溜つた給水は
さらに該トレー１３から溢流して、第２図に示す
ように膜状をなして通路１２を流下し、下方のト
レーに溜り、以下これを繰り返しつつ下方に流下
する。

一方、蒸気導入管２０から二次脱気室５内に最
初に導入された加熱脱気用蒸気の一部は、気液接
触装置１６の下端開口１９から当該接触装置１６
に入り、各トレー１３間の通路１２及び間隔１４
を上昇して、膜状をなして流下する前記給水と接
触し加熱脱気させたのち、上部開口１７を通つて
一次脱気室４内に上昇し、他の一部は気液接触装
置１６に入らないで立上り管２１を通つて直接一
次脱気室４内に入り、前記気液接触装置１６を通
過したのちになお残存する余剰蒸気と混合して、
スプレーノズル６から噴出して霧状に微細化され
た給水と接触し、給水を高温に加熱して脱気させ
る。

かくして一次脱気室４及び二次脱気室５の気液
接触装置１６において２回にわたり脱気された給
水は、脱気水として二次脱気室５の底部に溜り、
降水管２３を経て脱気水貯溜タンク２２に流下す
る一方、給水から分離した空気、炭酸ガス等はベ
ント管９から外部へ放出される。

なお、上記の実施例では、気液接触装置１６を
トレー式としたがその他の形成のものも採用で
き、蒸気分岐口の数や総面積も所望に応じて任意
に設定できることは言うまでもない。

前記のようにスプレーノズル６を有する一次脱
気室４と、気液接触装置１６を有し且つ脱気用の
加熱蒸気が最初に供給される二次脱気室５とから
なる脱気器において、本考案では、加熱蒸気の一
部を二次脱気室５内の気液接触装置１６を経由し
て一次脱気室４内へ導入する一方、他の一部を立
上り管２１を介して直接的に一次脱気室４内へ導
入するから、一次脱気室４内で消費される蒸気
は、気液接触装置１６を経て一次脱気室４に流入
するものが少なくなり、換言すると気液接触装置
１６を通過して一次脱気室４に入る蒸気の量が少
なくなることにより、当該気液接触装置１６にお
ける蒸気通路を狭くしてもフラツデイング現象を
発生することができないのであり、一方、一次脱
気室４には、加熱蒸気の一部が前記立上り管２１
を介して直接的に導入されることにより、一次脱
気室４内での脱気効率を、加熱蒸気の総てが前記
気液接触装置１６を経て導入する場合よりも向上
できるのである。

この場合において、二次脱気室５内の加熱蒸気
の一部を一次脱気室４に直接導くための立上り管
２１が、隔壁３に穿設した単なる連通孔であると
か、横向きの管路である場合には、隔壁３の上面
を気液接触装置１６に向つて流れる給水の一部
が、この連通孔又は横向き管路内に流入し二次脱
気室５に向つて下向きに流下することにより、給
水の一部が二次脱気作用を行う気液接触装置１６
を通ることなくこれをバイパスするので、このバ
イパスした給水に対する脱気が不良になつて脱気
性能が低下するのである。

また、このように連通孔又は横向き管路から流
下する給水の流れは、当該連通孔又は横向き管路
内を一次脱気室４に向つて上昇する加熱蒸気の流
れを阻害することになる。

そして、このように連通孔又は横向き管路内を
流下する給水による加熱蒸気の流れ阻害は、すな
わち、二次脱気室５から一次脱気室４に直接導入
する加熱蒸気の量が減少することになり、この減
少分だけ前記気液接触装置１６を通過する加熱蒸
気の量が多くなるから、気液接触装置１６におい
てフラツデイング現象が発生し易くなるのであ
る。これに対して本考案は、前記のように二次脱
気室５内の加熱蒸気の一部を一次脱気室４に直接
導くための立上り管２１を、一次脱気室４から流
下する給水を、二次脱気室５内の気液接触装置１
６に導くための隔壁３の上面から一次脱気室に４
内に向つて上向きに突出するように形成したもの
で、一次脱気室４内にスプレーノズル６から噴出
された給水が隔壁３の上面を介して気液接触装置
１６に流れるとき、給水の一部が当該立上り管２
１内を通つて二次脱気室５側に流下することがな
いから、給水の一部が気液接触装置１６をバイパ
スすることはなくなると共に、立上り管２１内に
おいて当該立上り管２１内を下から上向きに流れ
る加熱蒸気に対する流れ阻害が発生することはな
いのである。すなわち、一次脱気室４から二次脱
気室５に流れる給水の全量を、気液接触装置１６
を通すことができるのであり、しかも、前記立上
り管２１を介して一次脱気室４内に直接に導入す
る加熱蒸気の量の変動がないから、二次脱気室５
から一次脱気室４に直接導入する加熱蒸気量と、
気液接触装置１６を通過して一次脱気室４に流れ
る加熱蒸気量との比率を、当該立上り管２１の通
路面積の設定によつて任意に設定できると共に、
この比率を一定に維持できて、気液接触装置１６
を通過して一次脱気室４に流れる加熱蒸気量が変
動することを確実に防止できるのである。

以上の通り本考案は、密閉型のケーシング内を
略水平状の隔壁にて上部の一次脱気室と下部の二
次脱気室とに区成し、前記一次脱気室内には、そ
の上部に給水のスプレーノズルを、下部に環状ト
レーを設ける一方、前記二次脱気室内には、二次
脱気室と一次脱気室の両方に連通する気液接触装
置を設けると共に加熱蒸気導入管を開口して成る
脱気器において、二次脱気室内に供給した加熱蒸
気の一部を、給水が最初に供給される一次脱気室
に立上り管を介して直接的に導くものであるか
ら、気液接触装置を通過する加熱蒸気量が少なく
なつて気液接触装置でのフラツデイング現象の発
生を防止できるのである。

しかも、二次脱気室内に供給した加熱蒸気の一
部を一次脱気室に立上り管を介して直接的に導く
に際して、この立上り管を、一次脱気室と二次脱
気室とを区成し、且つ一次脱気室に供給した給水
を気液接触装置に導くための略水平状の隔壁の上
面から一次脱気室内に向つて上向きに突出したこ
とにより、一次脱気室から二次脱気室に流れる給
水の全量を気液接触装置に通すことができ、且
つ、二次脱気室から一次脱気室に直接導入する加
熱蒸気量と、気液接触装置を通過して一次脱気室
に流れる加熱蒸気量との比率を、当該立上り管の
通路面積の設定によつて任意に設定できると共
に、この比率を一定に維持できて、気液接触装置
を通過して一次脱気室に流れる加熱蒸気量が変動
することを防止できるから、前記立上り管を介し
て一次脱気室に流れる加熱蒸気量の変動によつ
て、気液接触装置にフラツデイング現象が発生し
たり、脱気不良が発生したりすることを確実に回
避することができるのである。

従つて本考案によると、二次脱気室に供給した
加熱蒸気の一部を加熱蒸気の消費を多く必要とす
る一次脱気室に直接導入すること、一次脱気室か
ら二次脱気室に流れる給水の全量を二次脱気作用
を行う気液接触装置に通すことができること、及
び、二次脱気室から気液接触装置を通過して一次
脱気室に流れる加熱蒸気量の変動を防止できるこ
との三者が相俟つて、脱気器全体としての脱気性
能を著しく向上できるのであり、しかも、二次脱
気室内における気液接触装置の蒸気通路を狭くで
きることと、前記立上り管をケーシングに内蔵で
きることとが相俟つて脱気器を、著しく小型・軽
量化できる効果を有する。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例を示し、第１図は縦断
正面図、第２図は気液接触装置の部分的な拡大断
面図である。 １……ケーシング、２……開口、３……隔壁、
４……一次脱気室、５……二次脱気室、６……ス
プレーノズル、７……給水管、８……ヘツダー、
１０……通路、１１……環状トレー、１６……気
液接触装置、２０……脱気用加熱蒸気導入管、２
１……立上り管。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 密閉型のケーシング内を略水平状の隔壁にて上
   部の一次脱気室と下部の二次脱気室とに区成し、
   前記一次脱気室内には、その上部に給水のスプレ
   ーノズルを、下部に環状トレーを設ける一方、前
   記二次脱気室内には、二次脱気室と一次脱気室の
   両方に連通する気液接触装置を設けると共に加熱
   蒸気導入管を開口して成る脱気器において、前記
   気液接触装置を前記隔壁より二次脱気室内に向つ
   て下向きに垂設した筒状側壁内に設ける一方、前
   記隔壁には、二次脱気室を一次脱気室に連通する
   ための立上り管を、当該隔壁の上面から一次脱気
   室内に向つて上向きに突出するように設けたこと
   を特徴とする脱気器。