JPS61194062A - チオ置換ケトン化合物を用いる光重合開始剤 - Google Patents

チオ置換ケトン化合物を用いる光重合開始剤

Info

Publication number
JPS61194062A
JPS61194062A JP61035431A JP3543186A JPS61194062A JP S61194062 A JPS61194062 A JP S61194062A JP 61035431 A JP61035431 A JP 61035431A JP 3543186 A JP3543186 A JP 3543186A JP S61194062 A JPS61194062 A JP S61194062A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl
atoms
compounds
thio
photopolymerization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61035431A
Other languages
English (en)
Inventor
クラウス=ペーター・ヘルツ
マンフレート・ケーラー
ヨルグ・オーンゲマツハ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent GmbH filed Critical Merck Patent GmbH
Publication of JPS61194062A publication Critical patent/JPS61194062A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ignition Installations For Internal Combustion Engines (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はチオ置換ケトン化合物を光重合開始剤として、
特にエチレン性不飽和化合物の光重合開始剤として使用
することおよびこのよりなケトン化合物を含有する光重
合性系に関する。
光化学的に開始される重合反応は工業的に極めて重要に
なっている、特にたとえば紙、金属およびシラスナック
上のラッカーおよび樹脂コーティングの硬化まだは印刷
インキの乾燥のような薄層の迅速な硬化を行う場合に、
これらの方法は印刷やコーティング物品について用いら
れる慣用の方法と比較して、原材料およびエネルギーの
節約および環境汚染の減少の点で著しく差異がある。こ
れらの反応において、一般には、光化学的に作用する照
射を適当な程度まで吸収できる反応剤は存在しないので
、いわゆる光重合開始剤の添加が必要である。この光重
合開始剤は所望の反応には関与しないが、照射光または
UV照射を吸収することができ、このように吸収された
エネルギーを反応成分の一つに移すことができ、こうし
て、光重合を開始させる活性開始性基を生成させること
ができるものである。このような開始剤の選択における
重要な要件としては、特に、行おうとする反応の性質、
適用し得る照射源のエネルギーのスペクトル分布に対す
る開始剤の吸収ス啄りトルの関係、反応混合物中におけ
る開始剤の溶解性、開始剤が添加された反応系の暗所に
おける貯蔵安定性、および光化学的反応中に生成される
生成物および(又は)最終生成物中に残される開始剤の
残分によりもたらされる最終生成物に対する影響があげ
られる。反応速度は特に使用する開始剤に大きく依存し
て変わる。従って、エチレン性不飽和化合物の重合まだ
は光重合系の硬化を開始させるそれらの能力において増
大された反応性を示す新規な開始剤を発見しようとする
試みが絶えず行なわれている。
不飽和化合物の光重合に従来使用されていた開始剤は、
主として、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾインエーテル
化合物、ベンジルケタール化合物、ジベンゾスベロン誘
導体、アントラキノン化合物、キサントン化合物、チオ
キサントン化合物およびα−ノ・ロゲノアセトフエノン
誘導体である。しかしながら、これらの物質は多くの欠
点を有するためにその適用範囲が著しく制限される。こ
のような欠点としては、特に、これらの開始剤を添加し
た光重合性系の多くは暗所における貯蔵安定性および化
学的安定性が低く、そして、エチレン性不飽和化合物の
光重合および(または)光重合系の硬化を開始させるそ
れらの能力において反応性が充分でないことがあけられ
る。これらの既知の開始剤の多くはこれらを使用して製
造した重合体に黄変を生じさせる。このような黄変は、
特に清明な基体材料のコーティングおよびUV硬化印刷
インキにおいては極めて望ましくないものである。UV
硬化印刷インキの用途では、光重合性系中の既知の開始
剤の溶解度が多くの場合に低いという事実もまだ大きな
欠点である。印刷インキは一般に、照射エネルギーのか
なりの部分を吸収し、それは光化学的に活性とならない
着色顔料をかなりの量で含有しているので、この場合に
は、大量の開始剤を加える必要がある。この開始剤の量
は一般には、多くの場合、反応混合物、例えば、印刷イ
ンキのような場合では5〜10重量%が、そして、色を
付与する添加剤のないプラスチック工業用では、しばし
ば1〜2重量%が全く適当である。大部分の場合に、こ
の濃度は、また、低溶解度を有する既知の開始剤におい
ても同じである。印刷インキに必要なこのような濃度に
おいて、既知の開始剤は、しばしば、部分的に晶出する
;結晶化した部分が開始剤としてもはや有効ではないと
いう事実とは無関係に、生成した結晶物は、また、後に
、比較的軟質の材料よりなる印刷板に対して損傷を与え
る。
西ドイツ国公開特許出願第2.261.383号公報お
よび同第2.730.462号公報には光開始剤として
、ジアルコキシアセトフェノン化合物が記載されており
、また西ドイツ国公開特許出願第2.722,264号
公報には光開始剤として、多くのヒドロキンアルキルフ
ェノン化合物が記載すしているが、これらの化合物はそ
れまでの既知の開始剤の欠点を実質的に低減する意味の
ものであった。それらの中のあるものは液体であるが、
これらの化合物はそれまでの、原則として、固体の開始
剤である既知の開始剤の大部分よりも慣用の光重合性系
中で著しく良好な溶解性を示し、そして暗所における良
好な貯蔵安定性と化学物質に対する安定性とを有するも
のである。
しかしながら、特にこれらの開始剤を使用して光重合を
行なう場合に、重合体の黄変については、それまでに慣
用されていた開始剤の場合に比較して明らかに低い程度
になることが見い出されているだけである。これらのジ
アルコキシアセトフェノン化合物およびヒドロキシアル
キルフェノン化合物は、その他の既知の開始剤と比較し
て光開始効果が増大されてはいるが、これらの化合物は
また、照射された光エネルギーの至適利用にとって重要
であるそれらの最大吸収がその位置および大きさの点で
不利であるという点から、顔料含有系の光重合の開始に
は依然として不適当な反応性を示す。この結果、比較的
長い硬化時間が依然として要求され、UV照射装置を至
適に利用し得ない結果となる。
結局、これらの既知の光開始剤を用いて硬化された重合
体のコーティングの黄変は、また、特に、白色顔料のよ
うな顔料の系または印刷インキの場合に、色のゆがみに
帰因する問題を生じる。
従って、特にエチレン性不飽和化合物の光重合および(
または)光重合系の硬化において、物理学的に許容され
うるものであって、他の反応成分と混合した場合にも暗
所において好適な貯蔵安定性を有し、それら自体または
それらの第2次生成物においても反応生成物に黄変を生
じさせず、慣用の光重合系においてもできるだけ高い溶
解性を有し、これらを使用して得られたコーティングに
おいて表面厚さを明白なほど薄くでき、そして、この点
で光重合性系、特に憩料含有系の黄変を付随しない硬化
を開始させるそれらの能力において最高の反応性を有し
、かくして低濃度で使用しても有効であるところの光重
合開始剤を見い出すことが要請されていた。
この目的は、従来既知の光開始剤に比較して、光重合性
系、特に顔料含有系の黄変を付随しない硬化を開始させ
るそれらの能力の点で増大された反応性を示すチオ置換
ケトン化合物を提供することによシ達成された。さらに
また、本発明による化合物は、別の反応成分と混合した
場合にも、暗所において良好な貯蔵安定性を有し、さら
に、より広い吸収スはクトルを有し、その結果として照
射源から発射される光エネルギーをさらに良好に利用し
得ることになり、そして、また、これらの化合物は本発
明による化合物の最大吸収におけるパソクロミツクシフ
ト(batho−chromicshifts )移動
により、照射源としてドープされたランプを使用するこ
とを可能にする。
これらの開始剤を使用して得られるコーティングは慣用
の光開始剤を用いて得られたコーティングに比較して明
白に薄い表面厚さを示す。さらにまた、本発明による化
合物を用いて硬化された重合体は黄変傾向が全くないか
、または非常に僅かである点で差異を有する。
従って、本発明は、下記の一般式■および(または)■
で示されるチオ置換ケトン化合物を、場合により既知の
光重合開始剤と組合せて、光重合性不飽和化合物または
その混合物の光重合用開始剤として使用することに関す
る。
(RlS)m−Ar”−(Z−Ar”)n−CO−R”
        I(R” S )m Ar” C0−
R3C0Ar”’ (R”’ S )mt   II〔
式中R1およびR1′ はそれぞれ、1〜12個のC原
子を有し、置換されていないかまたは置換基トシテー〇
H%C1〜C4アルコキシ、02〜CBアシルオキシ、
−CN 、−NH2,−NH−(C1,C,)アルキル
、−N [(C1〜c、)アルキル〕2または−coo
−(C1〜c、)アルキルを有するアルキル基(このア
ルキル基はその中のイオウ原子に隣接していないメチレ
ン基が一〇−1−s−1−co−1−CH=CH−1−
coo−および−0CO−により置き換えられていても
よい)、または3〜6個のC原子を有するシクロアルキ
ル、7〜9個のC原子を有するフェニルアルキル、Ar
1について指示されている意味を有するアリール、Ar
1およびR2について指示されている意味を有するアル
カノイルアリールあるいはAr1およびR2について指
示されている意味を有するアルカノイル−アリールアル
キルであり;R2は1〜12個のC原子を有し、置換さ
れていないかまたは置換基として一〇H,C1〜C4ア
ルコキシ、02〜CBアシルオキシ、 −CNまたは−
coo−(c1〜Cハアルキルを有するアルキル基(こ
のアルキル基はその中のカルボニル基に隣接していない
1個のメチレン基が−0−1−S−1−CO−1−CO
O−または−0CO−により置き換えられていてもよい
)、または3〜6個の炭素原子を有するシクロアルキル
または7〜9個の炭素原子を有するフェニルアルキルで
あり; R3は1〜6個のC原子を有するアルキレン、02〜C
6の炭素原子を有するオキサアルキレン、C2〜C6チ
アアルキレン、02〜C6アザアルキレンまたはシクロ
ヘキシレンであり; Ar1およびAr”はそれぞれ、6〜14個のC原子を
有するアリール、チェニル、フリル、ピリジル、フェニ
ルまたは置換基としてC1,C,7hキル、C1% C
,アルコキシ、cz、BrまたはCNを有するフェニル
であり; Ar”はフェニルまたは置換基としてC1% C4アル
キル、01〜C4アルコキシ、ClアC4アルキルチオ
、CL、BrまだはCNを有するフェニルであり;2は
−0−1−s−1−so2−1−CH2−1−〔(CH
3)2−1−NH−1−N(C工〜C,) アルキル−
1−CH=CH−1−〇〇−まだは直接結合であり; mおよびm′はそれぞれ1〜3であり;そしてnはゼロ
またば1である〕。
本発明は、また、エチレン性不飽和光重合性化合物の少
なくとも一種を含有し、そして、場合によりさらに既知
で慣用の添加剤を含有する光重合性系に関し、この光重
合性系は光重合開始剤として一般式Iおよび(または)
■の化合物の少なくとも一種を、好ましくは0.1〜2
0重11%の量で、含有することを特徴とするものであ
る。
本発明は、また、エチレン性不飽和化合物の光重合方法
に関し、この方法は光重合を開始させる前に、重合させ
る系に、一般式Iおよび(または)■の化合物の少なく
とも一種を、好ましくは、0.1〜20重量%の量で、
光開始剤として添加することを特徴とする方法である。
一般式■および■において、R1およびR1′は同一ま
たは異なることができ、好ましくは1〜12個のC原子
を有するアルキル、7〜9個のC原子を有するフェニル
アルキル、8〜15個のC原子を有するアルカノイルア
リール、9〜15個<7) C原子を有fるアルカノイ
ルフェニルアルキル、または6〜14個のC原子を有す
るアリールであシ、特に1〜6個のC原子を有するアル
キル、8〜10個のC原子を有するアルカノイルアリー
ル、9〜12個のC原子を有するアルカノイルフェニル
アルキル、ベンジルおよびフェニルが好ましい。
従って、基R1およびR1′は、たとえば次の基である
ことができる:メチル、エチル、プロピル、1−メチル
エチル、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロ
ピル、1,1−ジメチルエチル、滅ンチル、3−メチル
ブチル、2.2−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、テシル、ウンデシル、ベンジル
、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、ナフチル
、アントラセニル、フエナントリル、ノナノイルフェニ
ル、オクタノイルフェニル、ヘプタノイルフェニル、ヘ
キサノイルフェニル、滅ンタノイルフェニル、3−メチ
ルブタノイルフェニル、2.2−、;メチルプロノ9ノ
イルフェニル、ブタノイルフェニル、2−メチルプロ/
Qノイルフェニル、フロ/eノイルフェニル、アセチル
フェニル、オクタノイルフェニル、ヘプタノイルフェニ
ル、ヘキサノイルベンジル、ペンタノイルベンジル、3
−メチルブタノイルベンジル、2.2−:)メチルプロ
、Qノイルベンジル、ブタノイルベンジル、2−メチル
プロノqノイルベンジル、フロノeノイルベンジル、ア
セチルベンジル、ヘプタノイルフェニルエチル、ヘキサ
ノイルフェニルエチル、ペンタノイルフェニルエチル、
3−メチルブタノイルフェニルエチル、2.2−)メチ
ルプロパノイルフェニルエチル、ブタノイルフェニルエ
チル、2−メチルプロパノイルフェニルエチル、フロノ
ぐノイルフェニルエチルまたはアセチルフェニルエチル
。
R2は好ましくは1〜12個のC原子を有するアルキル
および6〜8個のC原子を有するフェニルアルキルであ
り、峙に1〜7個のC原子を有するアルキルおよびベン
ジルが好ましい。
従って、R2はメチル、エチル、プロピル、1−メチル
エチル、ブチル、2−メチルプロピル、1.1−)メチ
ルエチル、深ンチル、3−メチルブチル、ヘキシル、ヘ
プチルおよび2−エチルペンチルであることができる。
R3は好ましくは1〜6個のC原子を有するアルキレン
またはシクロヘキシレンでアリ、特ニ1〜3個のC原子
を有するアルキレンが好ましい。
従って、R3は、たとえばメチレン、エチレン、プロピ
レン、メチルエチレン、ジメチルメチレン、1−または
2−メチルプロピレン、ジメチルエチレン、ベンチレン
、2.2−:)メチルプロピレン、ヘキシレンまたはシ
クロヘキシレンである。
Ar1およびAr”は同一または異なることができ、好
ましくは6〜14個のC原子を有するアリールまたは置
換基としてC1−、C,アルキル、01〜C4アルコキ
シ、C2またはBrを有するフェニルであり、特にフェ
ニルまたは置換基として01〜C4アルキルまたはC1
〜C4アルコキシを有するフェニルが好ましい。
芳香族環Ar’およびAr”中に複数の置換基が存在す
る場合に、これらの置換基は好ましくは同一であるが、
異なるものであってもよい。これらの置換基は好ましく
は3位置および(または)5位置にあるが、2−14−
’にたは6−位置にめることもできる。
Ar2は好ましくはフェニルまだは置換基として01〜
C4アルキルまたはC1〜C4アルコキシを有するフェ
ニルであシ、フェニルが好ましい。
zの好適す意味はO,8、CH,、〔(CH3)2また
はco、特に0、Sおよびcoである。
mおよびm′は1〜3であることができ、これらは同一
または異なっていてもよい。mが1であると有利である
。nはゼロまたは1であることができる;nはゼロであ
ると有利である。
従って、本発明に従い光開始剤として、特にその基R1
、R1′、R2、R3、Ar1、Ar”、Ar2、Z、
 mおよびm′の少なくとも一つが前記の好ましい意味
の一つを有する一般式■および(または)■の化合物を
使用すると好ましい。一般式Iおよび(または)Hの好
ましい化合物において、R1およびR1′ は1〜12
個のC原子を有するアルキル、7〜9個のC原子を有す
るフェニルアルキル、6〜14個のC原子を有するアリ
ール、8〜15個のC原子を有するアルカノイルアリー
ルまたは9〜15個のC原子を有するアルカノイルフェ
ニルアルキルであり、 R2は1〜12個のC原子を有
するアルキルまたは6〜8個のC原子を有するフェニル
アルキルであり、 R3は1〜6個の炭素原子を有する
アルキレンまたはシクロヘキシレンであり; Ar1お
よびAr”は6〜14個のC原子を有するアリールまた
は置換基としてC1〜C4アルキル、C1””’C4ア
ルコキシ、Br−jたはC6を有するフェニルであり;
Ar2はフェニルまたは置換基として01〜C4アルキ
ルまたは01〜C4アルコキシを有するフェニルであシ
;zはO,S、CH2、〔(CH3)2またはCOであ
り;mおよびm′は1〜3でめり;そしてnはゼロであ
る。
光重合開始剤として使用すると特に好ましい一般式Iお
よび(−または)■の化合物は、R1およびR1′が、
1〜6個のC原子を有するアルキル、ベンジル、8〜I
O個のC原子を有するアルカノイル−アリールまたは9
〜12個のC原子を有するアルカノイルフェニルアルキ
ルで6すiR2は1〜7個のC原子を有するアルキルま
たはベンジルであり、 R3は1〜3個のC原子を有す
るアルキレンであり; Ar”およびAr1′はフェニ
ルまたは置換基として01〜C4アルキルまたはC1%
 C,アルコキシを有スるフェニルであり; Ar2は
フェニルテあpiZはO1S″′!たけCOテあり;m
およびm′は1であり;そしてnはゼロである;化合物
である。
一般式Iおよび■の化合物は有機化学の標準的方法によ
り製造することができる。反応条件は、有機化学合成に
おける標章的文献、たとえばメソーデンデルオルガニツ
シエンヘミー(ゲオルグチーメ 出版社;スタットがル
ト市)またはオルがニツクシンセシス(ジエイ、ウイレ
イ;ニューヨークーロンドンーシドニイ)ニ見い出すこ
とができる。
R1、R1′、R2、R3、Ar”、Ar1′、Ar2
、Z、 m、 m’およびnが前記の意味を有する一般
式Iおよび■の化合物は、たとえばそれ自体慣用の方法
で、一般式Iおよび■の化合物のアルカリ金属塩または
アルカリ土類金属塩(式中R1およびR1′ばHである
)を式R1−HatまたはR1′−Hatの・・ライド
(式中Hatはハロゲン原子、好ましくは塩素または臭
素である)と、または式R1−08O2RまたはR”−
0802Hのスルホネート(式中Rは01〜C4アルキ
ル、フェニルまたは置換基を有す ゛るフェニルであり
、そしてR1およびRlJは前記の意味を有する)と、
反応させることにより製造することができる。原料物質
として用いられるR1= R”= Hの一般式Iおよび
■の化合2物は、たとえば弐1[a/b X−Ar”−(Z−Ar”)n−CO−R2X−Ar”
−CO−R”−CO−Ar” −Xm a      
    m b (式中XはC6,Brまたは工であり、そしてArl、
 Ar”、Ar2、R2、R3およびnは式I/nにつ
いて前記した意味を有する)の既知の化合物から、これ
らの7・ロゲン化合物をアルカリ金属またはアルカリ土
類金属のスルフィrあるいはヒドロスルフィドと既知の
方法に従い反応させることにより得ることができる。
Xがノ・ロゲンまたはN2■である式■albの化合物
は式R1−囲またはR”−8H(式中R1およびR1/
は式■および■について前記した意味を有する)のチオ
ール化合物のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩
と直接反応させて式Iおよび■の化合物を生成させるこ
とができる。
X = N2■ である式■a/bの原料化合物はX=
NH2である式11a/bの既知化合物から亜硝酸また
は有機亜硝酸塩を使用するジアゾ化によりそれ自体既知
である方法で得られる。
式!または■の化合物を得るためには、式■(RlS 
)m A rl(Z Ar”)n HN(式中R1、A
rl、Ar”、Z、 mおよびnは式■について前記し
た意味を有する)の化合物を塩化アルミニウム、塩化ア
ニンまたは三フッ化ホウ素のようなルイス酸の存在下に
フリーデル−クラフッ反応により、一般式Hat−CO
−R2またはHaz−CO−R3−CO−Hat(式中
Hatはハ0ゲン原子、好ましくは塩素または臭素であ
り、そしてR2およびR3は式Iおよび■に前記した意
味を有する)のカルボン酸ハライドと反応させることが
できる。場合によっては、基R2またはR3中の可能な
置換基に適当な保護基を付与し、フリーデル−クラフッ
反応が行なわれだ後に、保護基を再び除去することが必
要である。
式■および■の化合物のもう一つの製造方法は式V (R”S)m−Ar”−(Z=Ar2)n−CN   
      V(式中R1、Ar1、Ar2、Z、 m
およびnは式Iにつ(式中R2およびR3は式■および
■について前記した意味を有し、そしてHaLは〕・ロ
ゲン原子、好ましくは塩素、臭素またはヨウ素である)
の有機マグネシウム化合物と反応させることよりなる。
一般式Iおよび(−!たは)■の化合物は本発明に従い
、エチレン性不飽和化合物の光重合用の、またはこのよ
うな化合物を含有する光重合性系の硬化用の光重合開始
剤として、また、特に印刷インキ用のおよび水性プレポ
リマー分散液の照射重合におけるUV硬化剤として使用
することができる。この使用は慣用の方法で行なわれる
。本発明に従い便用されるこれらの化合物は一般に0.
1〜20重量%、好ましくは0.5〜12重量襲の楡で
、重合させる系に加えられる。
この添加方法は、本発明に従い用いられる重合させる系
および光開始剤の大部分が液体であるか、まだは少なく
とも易溶性であるので、一般に単に溶解し、攪拌するこ
とにより行なわれる。重合させる系とは、−官能性また
は多官能性のエチレン性不飽和モノマー、オリゴマー、
プレポリマー−ポリマーの混合物あふいはこれらのオリ
ゴマー、プレポリマーおよびポリマーとフリーラジカル
によって反応を開始し得る不飽和モノマーとの混合物を
意味し、これらの混合物は、一般に、その他の添加剤、
たとえば酸化防止剤、光安定化剤、染料、顔料、別の既
知の光開始剤および反応促進剤を含有していてもよいと
理解されるべきである。適当な不飽和化合物はC=C二
重結合が、たとえばノ・ロデン原子、カルボニル、シア
ン、カルボキシル、エステル、アミド、エーテルまたは
アリール基あるいは共役二重または三重結合により活性
化されているいずれかの不飽和化合物である。このよう
な化合物の例には、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アク
リロニトリル、メタアクリロニトリル、アクリルアミド
、メタアクリルアミド、アクリル酸の、メチル、エチル
、n−ブチル、第3ブチル、シクロヘキシル、2−エチ
ルヘキシル、ベンジル、フェノキシエチル、ヒドロキシ
エチル、クリル酸のメチル、エチル、n−ブチル、第3
ブチル、シクロヘキシル、2−エチルヘキシル、ベンジ
ル、フェノキシエチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシ
プロピル、低級アルコキシエチルまたはテトラヒドロフ
ルフリドqステル、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸ま
だはコハク酸ノ各ビニルエステル、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカルバゾール、スチレン、シヒニルベン
ゼン、置換されているスチレンおよびこのような不飽和
化合物の混合物がある。たとえばエチレンジアクリリレ
ート、1,6−ヘキサンリオールジアクリレート、プロ
ポキシル化ビスフェノールAのジアクリレートおよびジ
メタアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレ
ートおよび滅ンタエリスリトールトリアクリレートのよ
うな多不飽和化合物もまた本発明に従い使用される光重
合開始剤を用いて重合させることができる。さらに、適
当な光重合性化合物は不飽和モノマーを含有する不飽和
オリゴマー、プレポリマーまたはポリマーおよびその混
合物である。これらには、たとえば不飽和ポリエステル
、不飽和アクリル系物質、エポキシ系物質、ウレタン、
シリコーン、アミノポリアミド樹脂および特にアクリル
化シリコーン油、アクリル化ポリエステル、アクリル化
ウレタン、アクリル化ポリアミド、アクリル化大豆油、
アクリル化エポキシ樹脂またはアクリル化アクリル樹脂
のようなアクリル樹脂が含まれ、これらは好ましくはモ
ノアルコール、ジアルコールまたはポリアルコールのア
クリレートの一種または二種以上との混合物である。
光重合性化合物または光重合性系は既知の熱防止剤およ
び酸化防止剤、たとえばハイドロキノンまたはハイドロ
キノン誘導体、ピロガロール、チオフェノール化合物、
ニトロ化合物、β−ナフチルアミン化合物またはβ−ナ
フトール化合物を慣用の量で添加することにより本発明
による光重合開始剤はその開始作用をこれらの添加によ
り明白なほど妨害されることなく、安定化させることが
できる。このような添加剤の目的は、中でも、成分の混
合による系の製造中の早まった重合を防止することにあ
る。
少量の光安定化剤、たとえばベンゾフェノン誘導体、ベ
ンズトリアゾール誘導体、テトラアルキルピペリジン化
合物またはフェニルサリシルレート化合物を加えること
もできる。
大気中の酸素の阻害作用を排除するために、・Qラフイ
ンまたは類似のワックス様物質がまた多くの場合に光重
合性系に添加される。これらの物質は重合体中に適度に
溶解しないので、重合の始まる時点で頂上部に浮遊して
、空気の流入を防止する透明な表面層を形成する。大気
中の酸素はまた、たとえば硬化させる系中に、たとえば
アリル基のような自己酸化性基を導入することにより脱
活性化することもできる。
本発明による光重合開始剤は、たとえば過酸化物、ハイ
ドロノ々−オキサイド、ケトン過酸化物またはパーカル
ボン酸エステルのような既知のフリーラジカル開始剤と
組合せて使用することもできる。これらはまた、たとえ
ば光化学硬化性の印刷インキに慣用であるような顔料ま
たは染料を含有することができる。この場合には、大量
、たとえば6〜12重量−の光重合開始剤を使用する。
他方、無色の光重合性系では大部分の場合に、0.1〜
3重量%の量で完全に元号である。意図する用途に応じ
て、タルク、ジブサムまたはシリカのような充填剤、繊
維、チキントロープ剤、均展剤、結合剤、潤滑剤、艶消
剤、可塑剤、交叉結合剤、表面品質を改善するだめのシ
リコーン類または浮動防止剤のような有機添加剤あるい
は少量の溶剤を添加できる。
本発明による開始剤と一緒に場合により使用できる適当
な既知の光重合開始剤の例には、ベンゾフェノン化合物
、たとえばミチェクー〇ケトン[4,4’−ビス−(:
)メチルアミン)ベンゾフェノン]、4.4’−ビス(
ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、p−ジメチルアミノ
ベンゾフェノン、p−クロルベンゾフエノンマタハペン
ゾフエノン;アントラキノン化合物、たとえばアントラ
キノン、2−クロルアントラキノンまたは2−アルキル
アントラキノン化合物;キサントン1ヒ合物、たとえば
2−ノ\ロゲノキサントン化合物または2−アルキルキ
サントン化合物;チオキサントン化合物、たとえば2−
クロルチオキサントンまたは2−アルキルチオキサント
ン化合物;アルコール化合物、たとえば2一アルキルア
クリダノン化合物またはN−置換アクリダノン化合物;
ベンゾイン化合物、たとえばP−)メチルアミノベンゾ
インおよびベンゾインのアルキルエーテル化合物;たと
えば西rイツ国公開特許出願第2,722,264号公
報およびヨーロッパ公開出願筒3,002号に記載され
ているようなα−アミノアルキルフェノン化合物、α−
ヒドロキシアルキルフェノン化合物、ジアルコキにノン
化合物、α−ハロゲノケトン化合物およびベンジルケタ
ール化合物;およびまた、たとえばフルオレノン化合物
、ジペンゾスペロン化合物、フェナントレンキノン化合
物および安息香酸エステル化合物、たとえば安息香酸ヒ
ドロキシプロピルエステルまタハペンゾイルペンゾエー
トアクリレートがある。
既知開始剤との混合物は一般に本発明に従って使用され
るチオ置換ケトン化合物を使用する開始剤混合物の総量
に対して少なくとも10重量%の割合で含有する。
添加し得る反応促進剤の例には、有機のアミン化合物、
ホスフィン化合物、アルコール化合物および(または)
チオール化合物があり、これらの化合物は全て、ヘテロ
原子に対してα位置に少なくとも1個のCH基を有する
。適当な促進剤の例には、たとえば米国特許第3.75
9.807号明細書に記載されているような第1級、第
2級および第3級の脂肪族、芳香族、芳香族−脂肪族ま
たはへテロ環式のアミン化合物がある。
このようなアミン化合物の例としては、ブチルアミン、
ジブチルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルア
ミン、ペンジルジメ、チル7ミン、ジシクロヘキシルア
ミン、トリエタノールアミン、N−メチル−ジェタノー
ルアミン、フェニルジエタノールアミン、ビスリジン、
ピペラジン、モルホリン、ピリジン、キノリン、p−ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ジメチルア
ミノ安息香酸ブチルエステル、4.4’−ビス−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン(ミツチェラーのケトン)また
は4,4′−ビス−ジエチルアミノベンゾフェノンがあ
る。第3級アミン、たとえばトリメチルアミン、トリイ
ソプロピルアミン、トリブチルアミン、オクチルジメチ
ルアミン、ドデシルジメチルアミン、トリエタノールア
ミン、N−メチルジェタノールアミン、N−ブチルジェ
タノールアミン、トリス(ヒドロキシプロピル)アミン
およびジメチルアミノ安息香酸アルキルエステルが特に
好適である。
もう−棟の適当な反応促進剤の例には、トリアルキルホ
スフィン化合物、第2級7/lz:ff−ルおよびチオ
ール化合物がある。
反応促進剤として、さらに第3縁布機アミンを含有する
光重合性系は本発明の特に好ましい態様を構成する。
「二手しン袢不鉤卸什を物の光重合1の用語は最も広い
意味で解釈されるべきである。すなわち、この用語には
、たとえばプレポリマーのような重合体系物質の追加の
重合または又又結合、簡単なモノマーのホモ重合、共重
合および三元重合並びにこれらの反応形式の組合せが包
含される。
光重合はそれ自体知られている方法に従い、250〜5
00 nln 1好ましくは300〜400 nmの波
長範囲の光またはUV照射を照射することにより行なわ
れる。照射源としては太陽光または人工照射体もまた便
用できる。有利な照射源の例には水銀蒸気高圧、中圧ま
だは低圧灯およびキセノンおよびタングステン灯がある
。レーザー光源もまた使用できる。
式Iおよび(または)■の化合物は本発明に従い、光重
合開始剤として、たとえば紙、プラスチックおよび金属
コーティングのような薄層のUV硬化に、並びに印刷イ
ンキの乾燥に用いられ、特に黄変を付随しない顔料含有
系の硬化およびプリンティングプレートの製造用の光硬
化性基に開始剤として特別に有利に使用できる。
式!および■の化合物の本発明による製造および使用を
次側によりさらに説明する。
A、光開始剤の製造 例  1 メチレンジクロリ)’ 120 ml中のプロピルチオ
ベンゼン45.65’ (0,3モル)に無水塩化ア7
+、ミニウム485’(0,36丙ル)を−10″Cで
攪拌しながら少しづつ加える。次いでインブチリルクロ
リド35y(0,33モル)を−5〜0°Cで滴下して
加える。混合物を放置して、室温まで温度上昇させ、次
いでさらに2時間攪拌する。このパッチを次いで濃塩酸
200+++lと氷200fとの混合物中に攪拌しなが
ら加え、有機相を分離する。水性相はメチレンジクロリ
ド100m/で2回抽出する。
集めた有機相を先ず2N水酸化す) IJウム溶液50
 mlで、次いで水100m1で洗浄する。抽出液を次
いで硫酸ナトリウム上で乾燥させる。乾燥剤から取シ出
した後に、溶液を減圧で濃縮する。
残留物を減圧蒸留により精製して、2−メチル−1−(
4−プロピルチオフェニル)−フロパン−1−オンを理
論量の91チの収率で得る。
同様にして、m=1、n=QおよびAr1=1.4−フ
ェニレンである一般式■の次表1の化合物が得られる。
・  例  2 ビス−(4−アセチルフェニル)スルフィドジフェニル
スルフィド1モルをアセチルクロリド2モルおよび塩化
アルミニウム2モルと例】に記載の方法に準拠して反応
させる。トルエンから結晶化させた後に、生成する生成
物は融点:89.5〜90″Cを有する。
”H−NMR:δ7,9 (d、 4H,arom、 
H) ; 7,4 (d、 4H。
arom、 H) ; 2,6 (s、 5H,’l 
CH3)。
例2と同様にして、下記の化合物が得られる:ビスー(
4−プロピオニルフェニル)スルフィド ビス−(4−ブタノイルフェニル)スルフィド ビス−(4−−’9ンタノイルフェニル)スルフィ  
ド ビス−(4−ヘキサノイルフェニル)スルフィ  ド ビス−(4−ヘプタノイルフェニル)スルフィ  ド ビス−(4−オクタノイルフェニル)スルフィ  ド ビス−(4−ノナノイルフェニル)スルフィド ビス−(4−デカノイルフェニル)スルフィド ビス−(4−ウンデカノイルフェニル)スルフィド ビス−(4−ドデカノイルフェニル)スルフィド ビス−[4(2−エチルヘキサノイル)−フェニルフス
ルフィド ビス−(:4−(2−メチルプロパノイル)−フェニル
〕スルフィド、融点:188°C10,6rpax、融
点: 64.5−65.5’ ; ”H−NMR:δ7
.9 ((L、 4 H。
arom、H) ;7,4(i、4H,arom、H)
 ;2.5(sept。
2H,2CH) ;1.2(d、6H,2CH3)ビス
−[4−(2,2−ジメチルプロノQノイル)−フェニ
ル〕スルフィド 例  3 4−メチルフェニルプロピルスルフィト33.32、ア
セチルクロリド17.39および塩化アルミニウム32
.09を例2に記載の方法により相互に反応させる。n
−ヘキサンから結晶化させ、(2−7セfk−4−)f
ルフェニル)フロビルスルフィドを得る;融点:46〜
46.5°CQ′”H−NMR:δ7.5(s、IHl
arom、H);7.2(e、2H1arom、H);
2.8(t、2H,S−CH2);2,6(8,3H。
CH3CO);2.4(8,3H9CH3);1.7(
θex、2H9CH2−亜2−CH5) ; 1.0 
(t、 3J目3−CH2)。
同様にして、下記の化合物が得られる。
4−アセチルジフェニルスルフィド 4−−10ノeノイルジフエニルスルフイド4−ブタノ
イルジフェニルスルフィド 4 .2ンタノイルジフエニルスルフイド4−ヘキサノ
イルジフェニルスルフィド4−ヘプタノイルジフェニル
スルフィr4−オクタノイルジフェニルスルフィド4−
ノナノイルジフェニルスルフィド 4−デカノイルジフェニルスルフィド 4−ウンデカメイルジフェニルスルフィド4−ドデカノ
イルジフェニルスルフィド4−(2−エチルヘキサノイ
ル)−ジフェニルスルフィド 4−(2−メチルプロパノイル)−ジフェニルスルフィ
ド 4− (2,2−ジメチルプロノにノイル)−ジフェニ
ルスルフィド 4−(4−メチルチオフェノキシ)−アセトフェノン 4−(4−メチルエチルチオフェノキシ)−アセトフェ
ノン 4  (4−:)メチルエチルチオフェノキシ)−アセ
トフェノン 4−(4−オクチルチオフェノキシ)−アセトフェノン 4−(4−ドデシルチオフェノキシ)−アセトフェノン 4−(4−シクロ滅ンチルチオフェノキシ)−アセトフ
壬ノン 4−(4−フェニルチオフェノキシ)−アセトフェノン 4−(4−メチルチオフェニルチオ)−アセトフェノン 4−(4−メチルエチルチオフェニルチオ)−アセトフ
ェノン 4−(4−:)メチルエチルチオフェニルチオ)−アセ
トフェノン 4−(4−オクチルチオフェニルチオ)−アセトフェノ
ン 4−(j−ドデシルチオフェニルチオ)−アセトフェノ
ン 4−(4−シクロ啄ンチルチオフェニルチオ)−アセト
フェノン 4−(4−フェニルチオフェニルチオ)−アセトフェノ
ン 例  4 フェニルメルカプト酢酸エチルエステル39.321ブ
チリルクロリド23.5fおよび塩化アルミニウム64
.Ofを例1に記載の方法によシ相互に反応させる。(
4−ブタノイルフェニルチオ)−酢酸エチルエステルが
得られる;沸点148−15ff / 0.3 rrr
m ; ”IH−NMR:δ7.9 (m、 2H,a
rom。
H) i 4.2 (q、2 H、0CH2) ; 3
.7 (s 、 2 H、5CH2) ;2.9 (t
+ 2 H+ CH2CO) ; 1 、7 (s e
x 、 2 H、CHs −CH2−CH2) ;1.
2(t、3H,朋3 ”’2−CH2) ;1 、O(
t+3 H,0CR2憇、)。
例  5 2−フェニルメルカプトエチルアセテート33.4?、
ブチリルクロリド20 、Of 、塩化アルミニウム5
4.7tを例1に記載の方法に準拠して、反応させる。
(4−ブタノイルフェニル’) −(2アセトキシエチ
ル)スルフィドが得られる;融点:50−51’Ci 
1H−NMR、δ7,9 (d、 2H,arom。
H) ;7.4 (d、2H,arom、H) i4.
3 (t、2H,CH20);3.3(t、2a、ca
2s) ;2.9(t、2H,CHzCO) ;2.1
(6+ 3 H,CH3C0) ; 1.8 (8e”
 、 CH3CH2CH2) ; 1.0(t、3H,
亜。CH2CH2)。
例  6 メチルフェニルスルフィド24.81? 、無水−r 
vイン酸21.6 rおよび塩化アルミニウム64.(
lを例1に記載の方法により相互に反応させる。4−メ
チルチオベンゾイルアクリル酸が得られる;融点: 1
59.5−162°C(酢酸エチルから再結晶);1H
−IJMR:δg、Q (m、3H,arom、Hおよ
びビニルH);7.4(d、2H,arom、H);6
.7 (a、In、ビニル H);2.5(8,3H,
CH3)。
例  7 2−メルカプトエタノール17.2f (0,225モ
ル)を先ず無水ジメチルスルホキシド250m1中に窒
素雰囲気下に装入し、次いで20%強度、eラフイン油
中の水素化ナトリウム6.8 f (0,225モル)
を少しづつ加える。次いで、4−ブロモアセトフェノン
29.99 (0,15モル)を加える。
混合物を室温で1時間、次いで60”Cで1時間攪拌す
る。混合物に水500mA!を加え、メチル第3ブチル
エーテル2x50+nlで抽出する。有機相をNa25
O,上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮する。
(4−アセチルフェニル)−(2−ヒドロキシエチル)
スルフィドの残留物をトルエンから再結晶させる;融点
: 61−62°;NMR・、δ7.9(m。
2H,arom、H);7,4(m、2H,arom、
H);3.g(t。
2H,CH20)i3.2(t、2H,CHsS);2
.5 (s、3H。
CH3)。
例1〜7と同様にして、下記の化合物が得られる: 4−(4−1チルチオフエニルスルホニル)−アセトフ
ェノン 4− (4−メチルエチルチオフェニルスルホニル)−
アセトフェノン 4− (4−:))fルエチルチオフェニルスルホニル
)−アセトフェノン 4−(4−:lrりfルチオフェニルスルホニル)−ア
セトフエノン 4−(4−)’7”シルチオフェニルスルホニル)−ア
セトフェノン 4−(4−シクロ滅ンチルチオフェニルスルホニル)−
アセトフェノン 4−(4−フェニルチオフェニルスルホニル)−アセト
フエノン 4−(4−メチルチオベンジル)−アセトフェノン 4−(4−メチルエチルチオベンジル)−アセトフェノ
ン 4−(4−’、;メチルエチルチオベンジル)−アセト
フェノン 4−(4−オクチルチオベンジル)−アセトフェノン 4−(4−ドデシルチオベンジル)−アセトフェノン 4−(4−シクロペンチルチオベンジル)−アセトフェ
ノン 4−(4−フェニルチオベンジル)−アセトフェノン 4−(4−メチルチオフェニルアミノ)−アセトフェノ
ン 4−(4−メチルエチルチオフェニルアミン)−アセト
フェノン 4−(4−ジメチルエチルチオフェニルアミノ)−アセ
トフェノン 4−(4−オクチルチオフェニルアミノ)−アセトフェ
ノン 4− (4−)’7’シルチオフェニルアミノ)−アセ
トフェノン 4−(4−シクロペンチルチオフェニルアミノ)−アセ
トフェノン 4−(4−フェニルチオフェニル7ミ/ )−アセトフ
ェノン 4−(4−メチルチオフェニルアミノ)−アセトフェノ
ン 4−(4−メチルエチルチオフェニルアミノ)−アセト
フェノン 4−(4−ジメチルエチルチオフェニルアミノ)−アセ
トフェノン 4−(4−オクチルチオフェニルアミン)−アセトフェ
ノン 4−(4−ドデシルチオフェニルアミノ)−−アセトフ
ェノン 4−(4−シクロペンチルチオフェニルアミノ)−アセ
トフェノン 4−(4−フェニルチオフェニル7ミ/)−アセトフェ
ノン 4−(4−メチルチオフェニル)−アセトフェノン 4〜(4−#fルエチルチオフェニル)−アセトフェノ
ン 4−(4−)メチルエチルチオフェニル)−アセトフェ
ノン 4−(4−オクチルチオフェニル)−7セ)フェノン 、1− (4−ドデシルチオフェニル)−アセトフェノ
ン 4〜(4−シクロペンチルチオフェニル)−アセトフェ
ノン 4−(4−フェニルチオフェニル)−アセトフェノン 4−(4−メチルチオベンゾイル)−アセトフェノン 4−(4−メチルエチルチオフェニル)−アセトフェノ
ン 4−(4−ジメチルエチルチオベンゾイル)−アセトフ
エノン 4−(4−オクチルチオベンゾイル)−アセトフェノン 4−(4−ドデシルチオベンゾイル)−アセトフェノン 4−(4−シクロペンチルチオベンゾイル)−アセトフ
ェノン 4−(4−フェニルチオベンゾイル)−アセトフェノン 1−(4−アセチルフェニル)−2−(4−メチルチオ
フェニル)−エチレン 1−(4−アセチルフェニル)−2−(4−メチルエチ
ルチオフェニル)−エチレン1−(4−アセチルフェニ
ル)−2−(4−ジメチルエチルチオフェニル)−エチ
レン1−(4−アセチルフェニル)−2−(4−オクチ
ルチオフェニル)−エチレン 1−(4−アセチルフェニル)−2−(4−ドテシルチ
オフェニル)−エチレン 1−(4−アセチルフェニル)−2−(4−シクロ滅ン
チルチオフェニル)−エチレン1−(4−アセチルフェ
ニル)−2−(4−フェニルチオフェニル)−エチレン ビス−(4−メチルチオベンゾイル)−メタン ビス−(4−メチルエチルチオベンゾイル)−メタン ビス−(4−ジメチルエチルチオベンゾイル)−メタン ビス−(4−オクチルチオベンゾイル)−メタン ビス−(4−ドデシルチオベンゾイル)−メタン ビス−(4−シクロペンチルチオベンゾイル)−メタン ビス=(4−フェニルチオベンゾイル)−)タン 1.3−ビス−(4−メチルチオベンゾイル)−プロノ
ξン 1.3−ビス−(4−メチルエチルチオベンゾイル)−
プロパン 1.3−ビス−(4−ジメチルエチルチオベンゾイル)
−プロ/Qン 1.3−ビス−(4−オクチルチオベンゾイル)−プロ
/セン 1.3−ビス−(4−ドデシルチオベンゾイル)−ゾロ
ノξン 1.3−ビス−(4−シクロペンチルチオベンゾイル)
−プロノRン 1.3−ビス−(4−フェニルチオベンゾイル)−プロ
パン ビス−(4−メチルチオフエナンシル)エーテル ビス−(4−メチルエチルチオフエナンシル)エーテル ビス−(4−)メチルエチルチオフエナンシル)エーテ
ル ビス−(4−オクチルチオフエナンシル)エーテル ビス−(4〜トテシルチオフエナンシル)エーテル ビス−(4−シクロ滅ンチルチオフエナンシル)エーテ
ル ビス−(4−フェニルチオフエナンシル)エーテル ビス−[2−(4−メチルチオベンゾイル)−エチル〕
スルフィド ビス−(2−(4−メチルエチルチオベンゾイル)−エ
チル〕スルフィド ビス−〔2−(4−ジメチルエチルチオベンゾイル)−
エチル〕スルフィド ビス−(2−(4−オクチルチオベンゾイル)−エチル
〕スルフィド ビス−(2−(4−ドデシルチオベンゾイル)−エチル
〕スルフィド ビス=(2−(4−シクロペンチルチオベンゾイル)−
エチル〕スルフィド ビス−[2−(4−フェニルチオベンゾイル)−エチル
〕スルフィド 1:”ス−(2−(4−メチルチオベンゾイル)−エチ
ル〕−アミン ビス−(2−(4−メチルエチルチオベンゾイル)−エ
チルツーアミン ビス−C2−(4−ジメチルエチルチオベンゾイル)−
エチルツーアミン ビス−(2−(4−オクチルチオベンゾイル)−エチル
ツーアミン ビス−(2−(4−ドデシルチオベンゾイル)−エチル
ツーアミン ビス−(2−(4−シクロペンチルチオベンゾイル)−
エチルツーアミン ビス−(2−(4−フェニルチオベンゾイル)−エチル
〕−アミン B、光開始剤の使用 例  8 4−イソプロピルチオプロピオフェノンおよび比較化合
物としてベンゾフェノンを各種の量で、オリゴマー系エ
ポキシドアクリレート〔うOW −’ (Laroma
r ) LR8555; BASF社製〕75重量部お
よびヘキサンジオールジアクリレート6重量部よりなる
UV硬化性結合剤系に加える。
補助開始剤としてN−メチルジェタノールアミン3重量
部を両方の光開始剤にそれぞれ加える。
このすぐに使用し得る組成物の試料を、脱脂ガラスノー
ト(10x 10 cm )に50μmおよび12 μ
mの谷厚さでス・Qイラルアプリケーターにより適用す
る。このコーティングを次いで照射装置C”Sニー#−
t−7”(Mini −Cure )装置;プリマーク
社製〕内で水嫁蒸気中圧灯(ランプ出カニ80ワツ) 
/ cm )下に10m/分のベルト移動速度で酸化さ
せる。露光距離は約10(:?F+である。
このラッカー表面の性状を硬化試験の直後に検知器を用
いて測定する;この目的は表面が乾燥しているかまたは
ネパついているかを調べることにある。被覆物の硬度は
UV硬化後の約加時間、D工N 53,157に記載さ
れているようにして測定する(コーニング振子硬度)。
UV硬化試験の結果を第1表に示す。
本発明による光重合開始剤4−インプロぎルチオプロピ
オフエノンを使用した場合に得られた硬化した被覆物は
完全に無色であるのに対し、ベンゾフェノンを加えた組
成物は照射硬化後に、開始剤の添加量に応じて黄変ない
し深黄色変化を示す。
例  9 例8による結合剤系に、4−イソプロピルチオプロピオ
フェノン2重量部およびN−メチルジェタノールアミン
3重量部またはベンゾフェノン21t部およびN−メチ
ルジェタノールアミン3重量部をそれぞれ加える。
すぐに使用できるこのUV硬化性試料を脱脂ガラスシー
ト(10X10crn)に、ス、Qイラルアプリケータ
ーを用いて関μmの厚さで適用する。この被覆物を次い
で照射装置(ミニ−キュア装置;プリマーク社製)内で
水銀蒸気中圧灯(ランプ出力=80ワット/cWI)下
に5 m /分〜10m/分のベルト移動速度で硬化さ
せる。露光距離は約10crnでめる。
このフィルムの表面の性状を硬化試験の直後に検知器を
用いて測定する。この目的は表面が乾燥しているか、完
全に乾燥していないか、またはネバついているかを試験
することにある。
被覆物の硬度はUV硬化後の約加時間に、DIN53.
157に記載されているように測定する(コーニング振
子硬度)。
UV硬化試験の結果を第2表に示す。開始剤の濃度が予
め決定されている場合に、本発明による4−インプロピ
ルチオプロピオフェノンを硬化開始に使用すると、開始
がベンゾフェノンにより行なわれる場合に比較して、高
い硬度の被覆物が常に得られることを見ることができる
。
この表からはまた、硬化開始が4−インプロピルチオプ
ロピオフェノンを用いて行なわれた場合に、50m/分
までのベルト移動速度で操作して、乾燥したネ、fつき
のない表面を有する被覆物を得ることができる。これに
対して、開始にベンゾフェノンが使用されると、このよ
うな被覆物を得るために20 m 7分の最高速度で硬
化さ本発明による4−イソプロピルチオプロピオフェノ
ンを用いて開始された被覆物は照射硬化が行なわれた後
に変色を示さないのに対し、光開始剤としてベンゾフェ
ノンの使用は常に黄変を生じさせる。
例  10 エポキシドアクリレート樹脂(ラロマー[F]8555
 ; BASF社製;ルドビグシャーフエン)63.5
部を3−ロールミルでブタンジオールジアクリレー)3
6.5部およびヘリオゲンプルー加部とともに粉砕する
。ビス=(4−アセチルフェニル)スルフィド5部およ
びN−メチルジェタノールアミン5部をこの懸濁物に5
00で10分間にわたって攪拌しながら加える。このよ
うにして得られた印刷インキをアート印刷用紙上に1μ
mの層厚さで印刷し、次いでミニ−キュア装置〔プリマ
ーク社(英国)製〕で、50 m 7分のベルト移動速
度下に160ワット/cmの照射強度で硬化させる。生
成する印刷されたシートは直ちに積み重ねる。色分離の
評価測定によると、青色プリントは黄変により生じるカ
ラーシフトを示さない。例1〜7であげた光重合開始剤
は印刷インキ用のUV硬化剤として例10に同様に使用
し得る。
例11 ウレタンアクリレート樹脂〔ウビマーo(UVi−me
rI31) 530 iバイエル社(レパークセン)製
〕63.5部を磁製ボールミルでブタンジオールジアク
リレ−h36.5部および二酸化チタン(アナターゼ)
100部とともに粉砕する。2−メチル−1−(4−プ
ロピルチオフェニル)−ソロノQンー1−オン2.5部
および1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチル−プ
ロパ°ンー1−オン5部の溶液8.5部を次いでN−メ
チルジェタノールアミン3部とともに攪拌しながら加え
る。10μmのフィルム厚さでガラスシートに適用した
この塗料を50 m 7分のベルト移動速度および16
0ワツト/crnの照射強度で硬化させて黄変を示さな
いフィルムを得ることができる。
例1〜8であげた化合物は例11と同様に、光開始剤と
して塗料に配合することができる。
代 理 人 弁理士 南    孝  夫 °。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 I またはII ((R^1S)_m−Ar^1−(Z−Ar^2)_n
    −CO−R^2 I ((R^1S)_m−Ar^1−C
    O−R^3−CO−Ar^1′−(R^1′S)_m′
    II〔式中R^1およびR^1′はそれぞれ1〜12個の
    炭素原子を有し、置換されていないかまたは置換基とし
    て−OH、C_1〜C_4アルコキシ、C_2〜C_8
    アシルオキシ、−CN、−NH_2、−NH−(C_1
    〜C_4)−アルキル、−N〔(C_1〜C_4)−ア
    ルキル〕_2または−COO−(C_1〜C_4)アル
    キルを有するアルキル基(このアルキル基はその中のイ
    オウ原子に隣接していない1個のメチレン基が−O−、
    −S−、−CO−、−CH=CH−、−COO−または
    −OCO−により置き換えられていてもよい)、または
    3〜6個のC原子を有するシクロアルキル、7〜9個の
    炭素原子を有するフェニルアルキル基、Ar^1につい
    て定義されている意味を有するアリール、Ar^1およ
    びR^2について定義されている意味を有するアルカノ
    イルアリールあるいはAr^1およびR^2について定
    義されている意味を有するアルカノイル−アリールアル
    キルであり; R^2は1〜12個のC原子を有し、置換されていない
    かまたは置換基として−OH、C_1〜C_4アルコキ
    シ、C_2〜C_8アシルオキシ、−CNまたは−CO
    O−(C_1〜C_4)アルキルを有するアルキル基(
    このアルキル基はその中のカルボニル基に隣接していな
    い1個のメチレン基が−O−、−S−、−CO−、−C
    OO−または−OCO−により置き換えられていてもよ
    い)、または3〜6個のC原子を有するシクロアルキル
    あるいは7〜9個のC原子を有するフェニルアルキルで
    あり;R^3は1〜6個のC原子を有するアルキレン、
    C_2〜C_6オキサアルキレン、C_2〜C_6チア
    アルキレン、C_2〜C_6アザアルキレンまたはシク
    ロヘキシレンであり; Ar^1およびAr^1′はそれぞれ、6〜14個のC
    原子を有するアリール、チエニル、フリル、ピリジル、
    フェニルまたは置換基としてC_1〜C_4アルキル、
    C_1〜C_4アルコキシ、Cl、BrまたはCNを有
    するフェニルであり; Ar^2はフェニルまたは置換基としてC_1〜C_4
    アルキル、C_1〜C_4アルコキシ、C_1〜C_4
    アルキルチオ、Cl、BrまたはCNを有するフェニル
    であり; Zは−O−、−S−、−SO_2−、−CH_2−、−
    C(CH_3)_2−、−NH−、−N(C_1〜C_
    6)アルキル−、−CH=CH−、−CO−または直接
    結合であり; mおよびm′はそれぞれ1〜3で、あり、そしてnはゼ
    ロまたは1である〕 で示されるチオ置換ケトン化合物を使用し、場合により
    既知の光開始剤と組合せて使用することを特徴とする光
    重合性不飽和化合物またはその混合物の光重合開始剤。
  2. (2)特許請求の範囲第1項に記載のチオ置換ケトン化
    合物を用いるエチレン性不飽和化合物の光重合用開始剤
    。
  3. (3)特許請求の範囲第1項に記載のチオ置換ケトン化
    合物をUV硬化性印刷インキに使用する特許請求の範囲
    第1項に記載の光重合用開始剤。
  4. (4)特許請求の範囲第1項に記載のチオ置換ケトン化
    合物を水性プレポリマー分散液の照射硬化に使用する特
    許請求の範囲第1項に記載の光重合用開始剤。
  5. (5)少なくとも一種のエチレン状不飽和光重合性化合
    物を含有し、必要に応じ、さらに既知の慣用の添加剤を
    含有する光重合性系であって、光重合開始剤として特許
    請求の範囲第1項に記載のチオ置換ケトン化合物を含有
    することを特徴とする光重合性系。
  6. (6)光重合開始剤として特許請求の範囲第1項に記載
    のチオ置換ケトン化合物を0.1〜20重量%の量で含
    有する特許請求の範囲第5項に記載の光重合性系。
  7. (7)エチレン性不飽和化合物の光重合方法であって、
    光重合を開始させる前に、光重合開始剤として特許請求
    の範囲第1項に記載のチオ置換ケトン化合物を重合させ
    る混合物に添加することを特徴とする光重合方法。
  8. (8)光重合を開始させる前に、光重合開始剤として特
    許請求の範囲第1項に記載のチオ置換ケトン化合物を0
    .1〜20重量%の量で、重合させる混合物に添加する
    特許請求の範囲第7項に記載の重合方法。
JP61035431A 1985-02-21 1986-02-21 チオ置換ケトン化合物を用いる光重合開始剤 Pending JPS61194062A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19853505998 DE3505998A1 (de) 1985-02-21 1985-02-21 Verwendung thiosubstituierter ketone als photoinitiatoren
DE3505998.2 1985-02-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61194062A true JPS61194062A (ja) 1986-08-28

Family

ID=6263135

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61035431A Pending JPS61194062A (ja) 1985-02-21 1986-02-21 チオ置換ケトン化合物を用いる光重合開始剤

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0192167A1 (ja)
JP (1) JPS61194062A (ja)
DE (1) DE3505998A1 (ja)
GB (1) GB2172655A (ja)

Cited By (106)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1707352A1 (en) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a planographic printing plate
EP1728838A1 (en) 2005-05-31 2006-12-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same
KR100694946B1 (ko) * 1998-11-19 2007-03-14 램베르티 에스.피.에이. 광중합반응에 적합한 이작용성 광개시제 및 이를 함유하는광중합성시스템
EP1955850A2 (en) 2007-02-07 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
EP1955858A1 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
EP1964893A1 (en) 2007-02-26 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set
EP1975160A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method
EP1975211A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition and image recording method and image recorded matter using same
EP1975213A1 (en) 2006-07-03 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate
EP1988136A1 (en) 2007-03-01 2008-11-05 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate
EP2042243A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Coater and ink-jet recording device using the same
EP2042572A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2042335A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method
EP2088176A1 (en) 2008-02-07 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material
EP2093265A1 (en) 2008-02-25 2009-08-26 FUJIFILM Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
EP2100925A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative
EP2105478A1 (en) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method and inkjet recording system
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP2130881A1 (en) 2008-06-02 2009-12-09 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion and ink composition using the same
EP2166049A1 (en) 2008-09-19 2010-03-24 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article
EP2169021A1 (en) 2008-09-25 2010-03-31 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
DE112008000778T5 (de) 2007-03-23 2010-04-08 Mitsubishi Paper Mills Limited Wasserentwickelbares photoempfindliches Lithographiedruckplattenmaterial
EP2216378A1 (en) 2009-02-05 2010-08-11 Fujifilm Corporation Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article
EP2216377A1 (en) 2009-02-09 2010-08-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2228417A1 (en) 2009-03-09 2010-09-15 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2230284A1 (en) 2009-03-17 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2230285A1 (en) 2009-03-19 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2236570A2 (en) 2009-03-31 2010-10-06 Fujifilm Corporation Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method
EP2298841A1 (en) 2009-09-18 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2311918A1 (en) 2009-09-29 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2371912A1 (en) 2010-03-31 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
EP2371911A1 (en) 2010-03-29 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition for inkjet recording, printed matter, method of manufacturing printed matter, molded article of printed matter, and method of manufacturing molded article of printed matter
EP2388146A2 (en) 2010-05-19 2011-11-23 Fujifilm Corporation Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition
EP2412769A1 (en) 2010-07-27 2012-02-01 Fujifilm Corporation Actinic ray curable inkjet ink composition, printed article, shaped printed product, and printed article forming method
EP2423277A2 (en) 2010-08-27 2012-02-29 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
DE112010000772T5 (de) 2009-02-13 2012-06-14 Mitsubishi Paper Mills Limited Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
WO2012117944A1 (ja) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
EP2505622A1 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Ink composition and image forming method
WO2012133335A1 (ja) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
WO2013008626A1 (ja) 2011-07-08 2013-01-17 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
DE112011101165T5 (de) 2010-03-29 2013-03-28 Mitsubishi Paper Mills Limited Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
WO2013046679A2 (en) 2011-09-29 2013-04-04 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
WO2013133123A1 (ja) 2012-03-09 2013-09-12 富士フイルム株式会社 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法
EP2644664A1 (en) 2012-03-29 2013-10-02 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
EP2653511A1 (en) 2012-04-19 2013-10-23 Fujifilm Corporation Active energy ray-curable ink composition, inkjet recording method, and method for producing in-molded product
WO2014041940A1 (ja) 2012-09-14 2014-03-20 富士フイルム株式会社 硬化性組成物および画像形成方法
WO2014050992A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014050993A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014125942A1 (ja) 2013-02-15 2014-08-21 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014136697A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置
WO2014136923A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法
WO2014142101A1 (ja) 2013-03-12 2014-09-18 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、インクセット、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
EP2842763A2 (en) 2013-08-30 2015-03-04 Fujifilm Corporation Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set
US9169410B2 (en) 2006-11-30 2015-10-27 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
EP2949710A1 (en) 2014-05-30 2015-12-02 Fujifilm Corporation Radiation-curable ink composition, ink set, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof
WO2017135085A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135088A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135084A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017138434A1 (ja) 2016-02-10 2017-08-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
WO2018139658A1 (ja) 2017-01-30 2018-08-02 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法
WO2018155174A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2018155515A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法
WO2018179947A1 (ja) 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2018186224A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018186225A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018198993A1 (ja) 2017-04-26 2018-11-01 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2018235534A1 (ja) 2017-06-20 2018-12-27 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2019021639A1 (ja) 2017-07-26 2019-01-31 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019044511A1 (ja) 2017-08-29 2019-03-07 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019064979A1 (ja) 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法
WO2019188481A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2019188482A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2020058666A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes made from anionic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
WO2020058665A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes formed from cationic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
EP3686225A1 (en) 2015-08-27 2020-07-29 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
WO2020179155A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物
WO2020202628A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像記録方法
WO2020201714A1 (en) 2019-04-02 2020-10-08 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes and processes for their preparation and use
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2022014292A1 (ja) 2020-07-15 2022-01-20 富士フイルム株式会社 セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物
WO2022069384A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compositions and polymer films
WO2022069386A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069383A1 (en) 2020-09-29 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069385A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
WO2022162083A1 (en) 2021-01-28 2022-08-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207469A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207470A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Cationically charged membranes
WO2023052052A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Films and their uses
WO2023052225A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023151941A1 (en) 2022-02-11 2023-08-17 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186620A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186622A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023186619A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023227502A1 (en) 2022-05-24 2023-11-30 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132498A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132502A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2193253A (en) * 1986-07-12 1988-02-03 Anthony James Slayman I.C. engine spark ignition systems
US7157535B2 (en) 2002-06-19 2007-01-02 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Polymeric photoinitiators
JP4967378B2 (ja) 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
JP4816976B2 (ja) 2007-08-09 2011-11-16 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物
JP4766281B2 (ja) 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP2009269397A (ja) 2008-02-29 2009-11-19 Seiko Epson Corp 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置
JP5692490B2 (ja) 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP2011152747A (ja) 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
IL219571A (en) * 2012-05-03 2015-10-29 Kanfit Ltd Electric circuit for ignition system to prevent jet

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3240198A (en) * 1962-01-12 1966-03-15 Bendix Corp Electrical apparatus
GB1308481A (en) * 1970-03-31 1973-02-21 Outboard Marine Corp Ignition systems for internal combustion engines
GB1371042A (en) * 1970-10-20 1974-10-23 Plessey Co Ltd Spark generating systems for internal combustion engines
JPS5328568B1 (ja) * 1971-03-06 1978-08-15
DE2155000A1 (de) * 1971-11-05 1973-05-10 Bayer Ag Thiomethylierte benzophenone
DE2602419A1 (de) * 1976-01-23 1977-07-28 Basf Ag Photopolymerisierbare masse
DE2962781D1 (en) * 1978-05-23 1982-07-01 Ciba Geigy Ag New mercaptophenylketones and their use as initiators for the photopolymerisation of ethylenically unsaturated compounds
JPS5756668A (en) * 1980-09-18 1982-04-05 Nissan Motor Co Ltd Plasma igniter

Cited By (116)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100694946B1 (ko) * 1998-11-19 2007-03-14 램베르티 에스.피.에이. 광중합반응에 적합한 이작용성 광개시제 및 이를 함유하는광중합성시스템
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof
EP3182204A1 (en) 2004-09-10 2017-06-21 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP1707352A1 (en) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a planographic printing plate
EP1728838A1 (en) 2005-05-31 2006-12-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same
EP1975213A1 (en) 2006-07-03 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate
US9169410B2 (en) 2006-11-30 2015-10-27 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
US9790386B2 (en) 2006-11-30 2017-10-17 Seiko Epson Corporation Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
EP1955858A1 (en) 2007-02-06 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
EP1955850A2 (en) 2007-02-07 2008-08-13 FUJIFILM Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
EP1964893A1 (en) 2007-02-26 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set
EP1988136A1 (en) 2007-03-01 2008-11-05 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate
US9616675B2 (en) 2007-03-01 2017-04-11 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
DE112008000778T5 (de) 2007-03-23 2010-04-08 Mitsubishi Paper Mills Limited Wasserentwickelbares photoempfindliches Lithographiedruckplattenmaterial
EP1975160A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method
EP1975211A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition and image recording method and image recorded matter using same
EP2042335A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method
EP2042572A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2042243A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Coater and ink-jet recording device using the same
EP2088176A1 (en) 2008-02-07 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material
EP2093265A1 (en) 2008-02-25 2009-08-26 FUJIFILM Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
EP2100925A2 (en) 2008-03-11 2009-09-16 FUJIFILM Corporation Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative
EP2105478A1 (en) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method and inkjet recording system
EP2130881A1 (en) 2008-06-02 2009-12-09 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion and ink composition using the same
EP2166049A1 (en) 2008-09-19 2010-03-24 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article
EP2169021A1 (en) 2008-09-25 2010-03-31 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
EP2216378A1 (en) 2009-02-05 2010-08-11 Fujifilm Corporation Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article
EP2216377A1 (en) 2009-02-09 2010-08-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
DE112010000772T5 (de) 2009-02-13 2012-06-14 Mitsubishi Paper Mills Limited Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
EP2228417A1 (en) 2009-03-09 2010-09-15 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2230284A1 (en) 2009-03-17 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2230285A1 (en) 2009-03-19 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2236570A2 (en) 2009-03-31 2010-10-06 Fujifilm Corporation Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method
EP2298841A1 (en) 2009-09-18 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2311918A1 (en) 2009-09-29 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2371911A1 (en) 2010-03-29 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition for inkjet recording, printed matter, method of manufacturing printed matter, molded article of printed matter, and method of manufacturing molded article of printed matter
DE112011101165T5 (de) 2010-03-29 2013-03-28 Mitsubishi Paper Mills Limited Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
EP2371912A1 (en) 2010-03-31 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
EP2388146A2 (en) 2010-05-19 2011-11-23 Fujifilm Corporation Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition
EP2412769A1 (en) 2010-07-27 2012-02-01 Fujifilm Corporation Actinic ray curable inkjet ink composition, printed article, shaped printed product, and printed article forming method
EP2423277A2 (en) 2010-08-27 2012-02-29 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
WO2012117944A1 (ja) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
EP3124557A1 (en) 2011-02-28 2017-02-01 Fujifilm Corporation Ink composition, image forming method, and printed matter
WO2012133335A1 (ja) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
EP2505622A1 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Ink composition and image forming method
WO2013008626A1 (ja) 2011-07-08 2013-01-17 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
WO2013046679A2 (en) 2011-09-29 2013-04-04 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
WO2013133123A1 (ja) 2012-03-09 2013-09-12 富士フイルム株式会社 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法
EP2644664A1 (en) 2012-03-29 2013-10-02 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
EP2653511A1 (en) 2012-04-19 2013-10-23 Fujifilm Corporation Active energy ray-curable ink composition, inkjet recording method, and method for producing in-molded product
WO2014041940A1 (ja) 2012-09-14 2014-03-20 富士フイルム株式会社 硬化性組成物および画像形成方法
WO2014050992A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014050993A1 (ja) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014125942A1 (ja) 2013-02-15 2014-08-21 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014136923A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法
WO2014136697A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置
WO2014142101A1 (ja) 2013-03-12 2014-09-18 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、インクセット、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
EP2842763A2 (en) 2013-08-30 2015-03-04 Fujifilm Corporation Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set
EP2949710A1 (en) 2014-05-30 2015-12-02 Fujifilm Corporation Radiation-curable ink composition, ink set, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
EP3686225A1 (en) 2015-08-27 2020-07-29 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
WO2017135085A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135088A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017135084A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2017138434A1 (ja) 2016-02-10 2017-08-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
WO2018139658A1 (ja) 2017-01-30 2018-08-02 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法
WO2018155174A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2018155515A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法
WO2018179947A1 (ja) 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2018186224A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018186225A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018198993A1 (ja) 2017-04-26 2018-11-01 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2018235534A1 (ja) 2017-06-20 2018-12-27 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
WO2019021639A1 (ja) 2017-07-26 2019-01-31 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019044511A1 (ja) 2017-08-29 2019-03-07 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2019064979A1 (ja) 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法
WO2019188482A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2019188481A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2020058665A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes formed from cationic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
WO2020058666A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes made from anionic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
WO2020179155A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物
WO2020202628A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像記録方法
WO2020201714A1 (en) 2019-04-02 2020-10-08 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes and processes for their preparation and use
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2021110468A1 (en) 2019-12-04 2021-06-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2021110467A1 (en) 2019-12-04 2021-06-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2022014292A1 (ja) 2020-07-15 2022-01-20 富士フイルム株式会社 セキュリティ画像記録用インクセット、セキュリティ画像記録方法、及びセキュリティ画像記録物
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
WO2022049193A1 (en) 2020-09-03 2022-03-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Composite membrane
WO2022069383A1 (en) 2020-09-29 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069386A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069384A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compositions and polymer films
WO2022069385A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
WO2022122931A1 (en) 2020-12-10 2022-06-16 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Purifying polar liquids
WO2022162083A1 (en) 2021-01-28 2022-08-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207469A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207470A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Cationically charged membranes
WO2023052052A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Films and their uses
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2023052226A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2023052506A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023052225A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023151941A1 (en) 2022-02-11 2023-08-17 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186620A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186622A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023186619A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023227502A1 (en) 2022-05-24 2023-11-30 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132498A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132502A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes

Also Published As

Publication number Publication date
DE3505998A1 (de) 1986-08-21
EP0192167A1 (de) 1986-08-27
GB8604202D0 (en) 1986-03-26
GB2172655A (en) 1986-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI89162C (fi) Kopolymeriserbara fotoinitiatorer
US4582862A (en) Ketone with morpholino and s-phenyl groups as photoinitiator in pigmented coating
US5047556A (en) Photoinitiators having a combined structure
KR102385824B1 (ko) 신규한 3-케토쿠마린, 이들의 제조방법 및 광중합 반응에서 광개시제로서의 이들의 용도
US4450279A (en) Dialkylthioxanthones
AU741581B2 (en) New alpha-aminoacetophenone photoinitiators
EP0192167A1 (de) Verwendung thiosubstituierter Ketone als Photoinitiatoren
JPH0816123B2 (ja) 光硬化性着色組成物
US6034150A (en) Polymerization processes using aliphatic maleimides
KR100235377B1 (ko) 티오크산톤 유도체 및 그의 제조 방법
US8933142B2 (en) Low-extractable thioxanthones
US4279721A (en) Mercaptophenyl ketones as initiators for the photopolymerization of ethylenically unsaturated compounds
US4251341A (en) Photoinitiators for UV-curable systems
CN100554234C (zh) 用于制备高厚度涂层的透明的光可聚合体系
JPH04305574A (ja) 共重合性ベンジルケタール光重合開始剤
CN104395275B (zh) 可共聚光引发剂
KR19980063821A (ko) 신규 α-아미노아세토페논 광개시제