JPS61195585A - エレクトロルミネセントパネルの製法 - Google Patents
エレクトロルミネセントパネルの製法Info
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- JPS61195585A JPS61195585A JP60034567A JP3456785A JPS61195585A JP S61195585 A JPS61195585 A JP S61195585A JP 60034567 A JP60034567 A JP 60034567A JP 3456785 A JP3456785 A JP 3456785A JP S61195585 A JPS61195585 A JP S61195585A
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- Japan
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- vapor
- manganese
- light
- electroluminescent
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、黄橙色発光層を有するエレクトロルミネセン
トパネルの製法に関するものである。
トパネルの製法に関するものである。
従来の交流型薄膜エレクトロルミネセントパネル(AC
TFEL)は、一対の絶縁された電極担持ガラス製基板
の間にサンドイッチされた例えばZnS:Mn薄膜デバ
イスを備えている。従来がら用いられてきたZnS:M
n薄膜附着法はスパッタリングまたは電子ビーム蒸着で
あり、いずれの場合も容認しうる品質をルミネセントフ
ィルムに与えるために、通常は後で450 ’Cの熱処
理を行わなければならない。現在の技術水準のデバイス
は220vを越すピーク強度で励振した場合に約20f
t−りの平均輝度を発生する。膜をさらに薄くすること
によって上記励振電圧(drive voltage)
を低下させようとすると、明るさくbrightnes
s)が減少し、したがって容認しろる状態には達しない
。
TFEL)は、一対の絶縁された電極担持ガラス製基板
の間にサンドイッチされた例えばZnS:Mn薄膜デバ
イスを備えている。従来がら用いられてきたZnS:M
n薄膜附着法はスパッタリングまたは電子ビーム蒸着で
あり、いずれの場合も容認しうる品質をルミネセントフ
ィルムに与えるために、通常は後で450 ’Cの熱処
理を行わなければならない。現在の技術水準のデバイス
は220vを越すピーク強度で励振した場合に約20f
t−りの平均輝度を発生する。膜をさらに薄くすること
によって上記励振電圧(drive voltage)
を低下させようとすると、明るさくbrightnes
s)が減少し、したがって容認しろる状態には達しない
。
一方、トリ力ヅレボニルメチルシクロペンタジェニルマ
ンガンの蒸気の存在下で、アルキル亜鉛の蒸気と、カル
コゲン元素である硫黄またはセレンのいずれか一方の気
体状水素化物とを加熱した基板に作用させ、マンガンを
ドープしたカルコゲン化亜鉛からなる発光膜の製法が、
特開昭58−176897に開示されている。この方法
を使用すると、カルコゲン化物が化学的に気相成長(C
VD)L、これに伴いマンガンのドーパントイオンが拡
散するとされている。」二貫己CVD法によると、(1
)成長雰囲気の蒸気圧を調整することにより、化学量論
性を制御した発光膜を形成できる。(2)面積が大きい
多数枚のウェハ上に均一な層を同時に成長させうる、な
どのすぐれた特徴が期待できる。
ンガンの蒸気の存在下で、アルキル亜鉛の蒸気と、カル
コゲン元素である硫黄またはセレンのいずれか一方の気
体状水素化物とを加熱した基板に作用させ、マンガンを
ドープしたカルコゲン化亜鉛からなる発光膜の製法が、
特開昭58−176897に開示されている。この方法
を使用すると、カルコゲン化物が化学的に気相成長(C
VD)L、これに伴いマンガンのドーパントイオンが拡
散するとされている。」二貫己CVD法によると、(1
)成長雰囲気の蒸気圧を調整することにより、化学量論
性を制御した発光膜を形成できる。(2)面積が大きい
多数枚のウェハ上に均一な層を同時に成長させうる、な
どのすぐれた特徴が期待できる。
しかし現在のところ、上記方法によるZnS:M、n蛍
光膜の発光効率は、従来のスパッタ法または電子ビーム
蒸着法で形成した膜の発光効率に較べて劣っている。こ
の原因は、上記有機マンガン蒸気が熱的に安定であって
、十分に分解するには5500C以上の高温を必要とす
るためである。
光膜の発光効率は、従来のスパッタ法または電子ビーム
蒸着法で形成した膜の発光効率に較べて劣っている。こ
の原因は、上記有機マンガン蒸気が熱的に安定であって
、十分に分解するには5500C以上の高温を必要とす
るためである。
一般にZnS母体の結晶性が向上するとともにエレクト
ロルミネセントパネルの輝度が増大する。
ロルミネセントパネルの輝度が増大する。
上記方法によるZnS薄膜の最適結晶化温度は350℃
〜450℃の範囲にあるため、この温度で膜形成を行っ
た場合に上記有機マンガン蒸気が完全に熱分解されずに
ZnS母体内に取込まれることになり、結晶性が高いZ
nS:Mnを得ることができず、したがって輝度の向上
が達成されない。このため3一 基板温度をZnSの最適結晶化温度にして、しかも有機
マンガン蒸気を効率よく分解させるための方法を検討す
る必要がある。
〜450℃の範囲にあるため、この温度で膜形成を行っ
た場合に上記有機マンガン蒸気が完全に熱分解されずに
ZnS母体内に取込まれることになり、結晶性が高いZ
nS:Mnを得ることができず、したがって輝度の向上
が達成されない。このため3一 基板温度をZnSの最適結晶化温度にして、しかも有機
マンガン蒸気を効率よく分解させるための方法を検討す
る必要がある。
本発明は、高度の輝度効率を備えたエレクトロルミネセ
ントパネルの製法を得ることを目的とする。
ントパネルの製法を得ることを目的とする。
本発明によるエレクトロルミネセントパネルの製法は、
有機マンガン蒸気の存在下で、アルキル亜鉛蒸気と、カ
ルコゲン元素である硫黄またはセレンのいずれか一方の
アルキル化物蒸気または気体状水素化物とを、光照射下
に設置した膜形成用加熱基板に作用させることにより、
マンガンをドープしたカルコゲン化亜鉛からなる蛍光膜
を成長させたものである。上記方法によると、カルコゲ
ン化物が化学的に気相成長し、これに伴いマンガンのド
ーパントイオンが拡散して均一に導入され、基板が最適
結晶化温度に加熱されているため有機マンガン蒸気が分
解されるのに加えて、上記分解が光照射によって十分促
進されるためである。
有機マンガン蒸気の存在下で、アルキル亜鉛蒸気と、カ
ルコゲン元素である硫黄またはセレンのいずれか一方の
アルキル化物蒸気または気体状水素化物とを、光照射下
に設置した膜形成用加熱基板に作用させることにより、
マンガンをドープしたカルコゲン化亜鉛からなる蛍光膜
を成長させたものである。上記方法によると、カルコゲ
ン化物が化学的に気相成長し、これに伴いマンガンのド
ーパントイオンが拡散して均一に導入され、基板が最適
結晶化温度に加熱されているため有機マンガン蒸気が分
解されるのに加えて、上記分解が光照射によって十分促
進されるためである。
上記有機マンガン蒸気の代表例であるトリカルボニルメ
チルシクロペンタジェニルマンガン化合物はつぎに示す
化学構造を示している。
チルシクロペンタジェニルマンガン化合物はつぎに示す
化学構造を示している。
H3
照射光の波長はマンガンからメチルシクロペンタジェニ
ル環への電荷移動吸収帯のピーク付近の吸収帯に対応す
る320nm〜340nmと、マンガンからカルボニル
の励起π軌道への吸収帯のピーク付近の吸収帯に対応す
る230nm〜270nmであることが好ましいが、そ
れぞれ280nm〜405nm、および220nm〜2
80nmの範囲であっても効果が現われる。あるいはま
た、280nm〜405nmの範囲の波長の光だけでも
、また220nm〜280nmの範囲の波長の光だけで
も効果が現われる。
ル環への電荷移動吸収帯のピーク付近の吸収帯に対応す
る320nm〜340nmと、マンガンからカルボニル
の励起π軌道への吸収帯のピーク付近の吸収帯に対応す
る230nm〜270nmであることが好ましいが、そ
れぞれ280nm〜405nm、および220nm〜2
80nmの範囲であっても効果が現われる。あるいはま
た、280nm〜405nmの範囲の波長の光だけでも
、また220nm〜280nmの範囲の波長の光だけで
も効果が現われる。
また、上記メチル以外のトリカルボニルアルキルシクロ
ペンタジェニルマンガン、ビスシクロペンタジェニルマ
ンガン、トリ力ルポニルシクロペンタジェニルマンガン
、マンガネーゼアセチルアセテートおよびマンガネーゼ
メソテトラフェニルポルフィリンアセテ−1〜などを用
いた場合においても、波長選択光照射により効果が現わ
れる。
ペンタジェニルマンガン、ビスシクロペンタジェニルマ
ンガン、トリ力ルポニルシクロペンタジェニルマンガン
、マンガネーゼアセチルアセテートおよびマンガネーゼ
メソテトラフェニルポルフィリンアセテ−1〜などを用
いた場合においても、波長選択光照射により効果が現わ
れる。
つぎに光照射による分iの様子を図面とともに説明する
。第1図および第2図にそれぞれ励起波長が253nm
と332nmの光を別々に照射したときのトリカルボニ
ルメチルシクロペンタジェニルマンガンの吸収スペク1
ヘルの変化を示す。第1図のマンガンからカルボニル基
の励起状態の軌道への遷移に対応する吸収帯を光照射し
た場合には、マンガン−カルボニル基間の結合が効率よ
く切断されているが、330nm付近にピークをもつマ
ンガン−シクロペンタジェニル環間の結合は比較的切れ
にくいことが判る。それに対して第2図のマンガンから
シクロペンタジェニル環への電荷移動吸収帯を光照射し
た場合には、マンガン−シクロペンタジェニル環の切断
が効率よくおこるが、カルボニル基は離れにくいことが
判る。図中、a、b、cおよびd、e、fは照射エネル
ギーの増加順序を示す。第3図に光分解効率を定量的に
把握するため、340nmのマンガン−シクロペンタジ
ェニル環吸収帯強度の照射エネルギー依存性を示す。横
軸に示す1は253nmでの光照射、2は332nmで
の光照射であり、3は253nmと332nmの光を照
射した場合の結果である。この結果は1ヘリカルボニル
メチルシクロペンタジエニルマンガンに対する2波長光
照射による光分解の顕著な効果を示している。
。第1図および第2図にそれぞれ励起波長が253nm
と332nmの光を別々に照射したときのトリカルボニ
ルメチルシクロペンタジェニルマンガンの吸収スペク1
ヘルの変化を示す。第1図のマンガンからカルボニル基
の励起状態の軌道への遷移に対応する吸収帯を光照射し
た場合には、マンガン−カルボニル基間の結合が効率よ
く切断されているが、330nm付近にピークをもつマ
ンガン−シクロペンタジェニル環間の結合は比較的切れ
にくいことが判る。それに対して第2図のマンガンから
シクロペンタジェニル環への電荷移動吸収帯を光照射し
た場合には、マンガン−シクロペンタジェニル環の切断
が効率よくおこるが、カルボニル基は離れにくいことが
判る。図中、a、b、cおよびd、e、fは照射エネル
ギーの増加順序を示す。第3図に光分解効率を定量的に
把握するため、340nmのマンガン−シクロペンタジ
ェニル環吸収帯強度の照射エネルギー依存性を示す。横
軸に示す1は253nmでの光照射、2は332nmで
の光照射であり、3は253nmと332nmの光を照
射した場合の結果である。この結果は1ヘリカルボニル
メチルシクロペンタジエニルマンガンに対する2波長光
照射による光分解の顕著な効果を示している。
つぎにマンガンをドープした硫化亜鉛薄膜を基板」二に
付着させるために用いる装置の構造を第4図により説明
する。この装置は亜鉛、硫黄およびマンガンをそれぞれ
含むガスを導入して、セラミックヒータ104により加
熱され、基板ホルダ105に支持された基板103の表
面近傍で混合し反応させるように設計されており、ペル
ジャー109には光照射用の石英窓110が設けである
。図における1、02は光源100から照射される照射
光である。上記ペルジャー109の支持板111には、
亜鉛、硫黄およびマンガンを含むガスをそれぞれ導入す
るための3つの注入口106.107.108と、熱電
対113ならびに排気用管112が設置されている。
付着させるために用いる装置の構造を第4図により説明
する。この装置は亜鉛、硫黄およびマンガンをそれぞれ
含むガスを導入して、セラミックヒータ104により加
熱され、基板ホルダ105に支持された基板103の表
面近傍で混合し反応させるように設計されており、ペル
ジャー109には光照射用の石英窓110が設けである
。図における1、02は光源100から照射される照射
光である。上記ペルジャー109の支持板111には、
亜鉛、硫黄およびマンガンを含むガスをそれぞれ導入す
るための3つの注入口106.107.108と、熱電
対113ならびに排気用管112が設置されている。
つぎに本発明の詳細な説明する。
実施例の1
第4図に示す反応装置を用い、ジエチル亜鉛、Heで希
釈したH2S(分圧2%)およびトリカルボニルメチル
シクロペンタジェニルマンガンを原料ソースとし、ネサ
ガラス(ITOガラス)上に厚さ0.27zmのAf1
203を付着させたものを基板としてマンガンドープ硫
化亜鉛発光層を形成した。流量はジエチル亜鉛が毎分5
cc (2,OX 10−’モル)、I−(e希釈H
2Sが毎分1400cc (]、、3311033モル
で、+ヘリカルボニルメチルシクロペンタジェニルマン
ガンは110℃に保ったときの蒸気圧で供給した。
釈したH2S(分圧2%)およびトリカルボニルメチル
シクロペンタジェニルマンガンを原料ソースとし、ネサ
ガラス(ITOガラス)上に厚さ0.27zmのAf1
203を付着させたものを基板としてマンガンドープ硫
化亜鉛発光層を形成した。流量はジエチル亜鉛が毎分5
cc (2,OX 10−’モル)、I−(e希釈H
2Sが毎分1400cc (]、、3311033モル
で、+ヘリカルボニルメチルシクロペンタジェニルマン
ガンは110℃に保ったときの蒸気圧で供給した。
反応時の圧力は2Torrであった。膜成長時に継続し
て波長248nmのKrFエキシマレーザ光を平均5
W/cn?のエネルギー密度で照射した。成長した発光
層の厚さは約0.47zmであった。この上にさらに厚
さ0 、217InのY2O3を電子ビーム蒸着で堆積
させ、さらにAn電極をっけてエレクトロルミネセンド
パネルを作成した。比較のため、上記光を照射しないで
発光層を形成した。このエレクトロルミネセントパネル
の発光層の厚さは同じく約0.4庫、Y2O3層の厚さ
は0.2岬とした。これらのパネルはいずれもエイジン
グ後170V501(z、 duty 1/10の交流
矩形波電圧を印加して、相対輝度を測定した。
て波長248nmのKrFエキシマレーザ光を平均5
W/cn?のエネルギー密度で照射した。成長した発光
層の厚さは約0.47zmであった。この上にさらに厚
さ0 、217InのY2O3を電子ビーム蒸着で堆積
させ、さらにAn電極をっけてエレクトロルミネセンド
パネルを作成した。比較のため、上記光を照射しないで
発光層を形成した。このエレクトロルミネセントパネル
の発光層の厚さは同じく約0.4庫、Y2O3層の厚さ
は0.2岬とした。これらのパネルはいずれもエイジン
グ後170V501(z、 duty 1/10の交流
矩形波電圧を印加して、相対輝度を測定した。
上記パネルとは別に、発光層の評価を行う目的で、上層
に何も堆積させないマンガンドープ硫化亜鉛薄膜を形成
した。該薄膜の平均結晶粒径をX線回折で、膜中のMn
濃度をX線マイクロアナリシスと化学分析(溶液発光分
光法)で測定し、また残留炭素を光電子分光法で測定し
、光を照射した場合と照射しない場合の比較を行った。
に何も堆積させないマンガンドープ硫化亜鉛薄膜を形成
した。該薄膜の平均結晶粒径をX線回折で、膜中のMn
濃度をX線マイクロアナリシスと化学分析(溶液発光分
光法)で測定し、また残留炭素を光電子分光法で測定し
、光を照射した場合と照射しない場合の比較を行った。
これらの結果は以下の実施例とともに第1表にまとめた
が、光照射によって輝度が向」ニし、Mn濃度や結晶粒
径の増大が認められた。
が、光照射によって輝度が向」ニし、Mn濃度や結晶粒
径の増大が認められた。
実施例の2
上記実施例の1と同様の条件で、発光層形成時に波長3
37nmのN2ガスレーザ光を平均エネルギー密度0.
5W/dで継続的に照射した。成長した発光層の厚さは
約0 、41tmであった。その後、実施例の1と同様
な工程を経てエレクトロルミネセン+−パネルを作成し
、輝度測定を行い、また別に発光層評価用のサンプルを
作成した。これらの測定結果は第1表に示している。光
照射により輝度の向上とMn濃度、粒径の増大が認めら
れた。
37nmのN2ガスレーザ光を平均エネルギー密度0.
5W/dで継続的に照射した。成長した発光層の厚さは
約0 、41tmであった。その後、実施例の1と同様
な工程を経てエレクトロルミネセン+−パネルを作成し
、輝度測定を行い、また別に発光層評価用のサンプルを
作成した。これらの測定結果は第1表に示している。光
照射により輝度の向上とMn濃度、粒径の増大が認めら
れた。
実施例の3
」1記実施例の1と同様の条件で、発光層形成時に波長
248nmのKrFエキシマレーザ光と波長337nm
のN2ガスレーザ光とを重畳して照射した。各々の平均
エネルギー密度はそれぞれ5W/dと0.5W / C
I(である。その後、実施例の1と同様な工程を経てエ
レクトロルミネセン1−パネルを作成し、輝度測定を行
った。また別に発光層評価用のサンプルを作成した。こ
れらの測定結果は第1表に記したが、光照射によってさ
らに大きな輝度の向上とMn濃度の増加が認められ、粒
径も増大した。また光電子分光法による検討では、この
場合に残留炭素が著しく減少した。
248nmのKrFエキシマレーザ光と波長337nm
のN2ガスレーザ光とを重畳して照射した。各々の平均
エネルギー密度はそれぞれ5W/dと0.5W / C
I(である。その後、実施例の1と同様な工程を経てエ
レクトロルミネセン1−パネルを作成し、輝度測定を行
った。また別に発光層評価用のサンプルを作成した。こ
れらの測定結果は第1表に記したが、光照射によってさ
らに大きな輝度の向上とMn濃度の増加が認められ、粒
径も増大した。また光電子分光法による検討では、この
場合に残留炭素が著しく減少した。
実施例の4
上記実施例の1と同様の条件で、発光層形成時に200
W重水素放電灯の光を基板上に照射した。
W重水素放電灯の光を基板上に照射した。
光はレンズで集光し、1インチ角の基板」二にほぼ均一
な強度で照らすようにした。」−記200W重水素放電
灯の分光分布は220nmにピークがあり、180nm
から可視部にまでおよんでいる。発光層形成後、実施例
の1と同様な工程を経てエレクトロルミネセントパネル
を作成し、エイジングしたのち170V、50Hz 、
duty 1 / 10の交流矩形波電圧を印加して
相対輝度を測定した。また別に発光層評価用のサンプル
を作成した。これらの測定結果は第1表に示している。
な強度で照らすようにした。」−記200W重水素放電
灯の分光分布は220nmにピークがあり、180nm
から可視部にまでおよんでいる。発光層形成後、実施例
の1と同様な工程を経てエレクトロルミネセントパネル
を作成し、エイジングしたのち170V、50Hz 、
duty 1 / 10の交流矩形波電圧を印加して
相対輝度を測定した。また別に発光層評価用のサンプル
を作成した。これらの測定結果は第1表に示している。
光照射により輝度の向」二とMn濃度、粒径の増大が認
められた。
められた。
第1表
〔発明の効果〕
上記のように本発明によるエレクトロルミネセントパネ
ルの製法は、有機マンガン蒸気の存在下で、アルキル亜
鉛蒸気と、カルコゲン元素たる硫黄またはセレンのいず
れか一方のアルキル化物蒸気ないしは気体状水素化物と
を、光照射下に設置した膜形成用加熱基板に作用させる
ことにより、カルコゲン化物が化学的に気相成長し、こ
れに伴ってマンガンのドーパントイオンが拡散して均一
に導入されるので、エレクトロルミネセントパネル用の
高輝度、高効率発光膜を作成することができる。
ルの製法は、有機マンガン蒸気の存在下で、アルキル亜
鉛蒸気と、カルコゲン元素たる硫黄またはセレンのいず
れか一方のアルキル化物蒸気ないしは気体状水素化物と
を、光照射下に設置した膜形成用加熱基板に作用させる
ことにより、カルコゲン化物が化学的に気相成長し、こ
れに伴ってマンガンのドーパントイオンが拡散して均一
に導入されるので、エレクトロルミネセントパネル用の
高輝度、高効率発光膜を作成することができる。
第1図および第2図は、トリカルボニルメチルシクロペ
ンタジェニルマンガンの光照射効果を示す吸収スペクト
ルを示す図で、第1図は励起波長253nm、第2図は
332nmの光をそれぞれ照射した場合を示し、第3図
はトリカルボニルメチルシクロペンタジェニルマンガン
の光照射効果を示す図、第4図はエレクトロルミネセン
トパネルの発光膜製造装置の説明図である。
ンタジェニルマンガンの光照射効果を示す吸収スペクト
ルを示す図で、第1図は励起波長253nm、第2図は
332nmの光をそれぞれ照射した場合を示し、第3図
はトリカルボニルメチルシクロペンタジェニルマンガン
の光照射効果を示す図、第4図はエレクトロルミネセン
トパネルの発光膜製造装置の説明図である。
Claims (5)
- (1)有機マンガン蒸気の存在下で、アルキル亜鉛蒸気
と、カルコゲン元素たる硫黄またはセレンのいずれか一
方のアルキル化物蒸気ないしは気体状水素化物とを、光
照射下に設置した膜形成用加熱基板に作用させて形成す
るエレクトロルミネセントパネルの製法。 - (2)上記光照射は、有機マンガン化合物のマンガン−
炭素結合に関与する紫外・可視光吸収帯波長範囲に含ま
れる波長を有する少なくとも1種以上の紫外・可視光を
、波長選択的に照射することを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のエレクトロルミネセントパネルの製法。 - (3)上記有機マンガン蒸気は、トリカルボニルアルキ
ルシクロペンタジェニルマンガン蒸気であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項または第2項記載のエレク
トロルミネセントパネルの製法。 - (4)上記有機マンガン蒸気は、トリカルボニルメチル
シクロペンタジェニルマンガンの蒸気であることを特徴
とする特許請求の範囲第3項記載のエレクトロルミネセ
ントパネルの製法。 - (5)上記有機マンガン蒸気は、ビスシクロペンタジェ
ニルマンガン、トリカルボニルシクロペンタジェニルマ
ンガン、マンガネーゼアセチルアセトネートおよびマン
ガネーゼメソテトラフェニルポルフィリンアセテートの
いずれかの蒸気であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項または第2項記載のエレクトロルミネセントパネ
ルの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60034567A JPS61195585A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | エレクトロルミネセントパネルの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60034567A JPS61195585A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | エレクトロルミネセントパネルの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61195585A true JPS61195585A (ja) | 1986-08-29 |
Family
ID=12417896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60034567A Pending JPS61195585A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | エレクトロルミネセントパネルの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61195585A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6231990A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-10 | 日本電信電話株式会社 | El素子の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-25 JP JP60034567A patent/JPS61195585A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6231990A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-10 | 日本電信電話株式会社 | El素子の製造方法 |
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