JPS6119772Y2 - - Google Patents

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JPS6119772Y2
JPS6119772Y2 JP1983090400U JP9040083U JPS6119772Y2 JP S6119772 Y2 JPS6119772 Y2 JP S6119772Y2 JP 1983090400 U JP1983090400 U JP 1983090400U JP 9040083 U JP9040083 U JP 9040083U JP S6119772 Y2 JPS6119772 Y2 JP S6119772Y2
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JP
Japan
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small
matrix
substrate
hole
filter
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JP1983090400U
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JPS601415U (ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/30Nuclear fission reactors

Landscapes

  • Filtering Materials (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は火力、原子力発電プラントにおける復
水系、給水系、ヒータドレン等の鉄、ニツケル、
銅を主成分とするいわゆる(クラツド)の除去に
有効に適用される高勾配電磁フイルタ用マトリツ
クスに係るものである。
従来の高勾配電磁フイルターは圧力容器(キヤ
ニスター)に強磁性金属繊維から成るマトリツク
スが充填され、その周囲に電磁コイルを設置して
構成されていて、該コイルに直流電流を加えて発
生する磁場によつてマトリツクスを磁化して高勾
配磁場を発生せしめ、復水系、給水系等のクラツ
ドを有効に補捉するようになつている。
前記フイルタを使用する場合は、洗滌用過水
は通常、上向流で、マトリツクスの洗滌は下向流
で行なわれ、洗滌は予め設定した過継続時間、
若しくはマトリツクスの圧力損失信号によつて自
動で行なわれるものである。先ず流入復水がバイ
パスに切換えられ、次いで励磁用コイルへの通電
が停止され、マトリツクスが消磁され、キヤニス
タ内に保有されている洗滌用過水は捕捉粒子と
ともに短時間で系外に排出される。このような工
程を反覆して洗滌を完全に行ない、洗滌終了後フ
イルタは自動的に通水に切換えられるようになつ
ている。
しかしながら前記従来のフイルタにおいてはマ
トリツクスの密度が一様でなく、マトリツクスの
部分によつてクラツド捕集率にはばらつきがある
等の欠点があつた。
本考案はこのような欠点を除去するために提案
されたもので、フエライト系SUS430よりなる基
板に内周壁が勾配面に形成された多数の小透孔を
穿設してなることを特徴とする高勾配電磁キヤニ
スター用金属製フイルタに係るものである。
本考案に係るフイルタは前記したようにフエラ
イト系SUS430よりなる基板1に内周面2aが勾
配面に形成された多数の小透孔2が穿設されてい
るので、同小透孔2の開口端縁に尖鋭部2bが形
成されることとなり、同部2bに特に強力な磁場
が発生し、前記小透孔2を通過する洗滌用過水
中のクラツドが前記尖鋭部2bに確実に捕束され
るものである。
また本考案に係るフイルタはフエライト系
SUS430よりなる金属基板1に多数のフイルタ用
小透孔2を穿設したので、同小透孔2を基板1に
一様に穿設することによつて、本考案フイルタ全
面に亘つて一様に洗滌用過水中のクラツドを捕
捉過しうるものである。
次に本考案の実施例について説明する。
厚さ数ミクロンから数ミリメートルまでのフエ
ライト係SUS430よりなる基板を、5ミクロンか
ら200ミクロン程度の径の小透孔をマイクロシー
ブ方法によつて硝子製原型を用いて製作する。
即ちピツチ、公差を数ミクロンに抑えた無数の
小透孔の穿設された表側硝子製原型と、同小透孔
と同心でピツチ、孔径の異なる無数の小透孔の穿
設された裏側硝子製原型との間に前記基板を挟着
し、塩化第2鉄、塩酸、硝酸、蓚酸等の単独、ま
たは混合してなる薬液によつて処理して、公知の
マイクロシーブ方法により前記基板に小透孔を穿
孔するものである。なおこの際、開孔率は50%以
上75%までが一番望ましい。
なお第1図及び第2図に示す実施例においては
前記基板1に穿設された小透孔2の内周面2aが
下方に至るに伴つて径が漸大する勾配面に形成さ
れ、小透孔2の下端縁が尖鋭部2bに形成されて
いる。なお小透孔2の大径部の径は80μ、小径部
の径は60μ、ピツチは100μとされている。
第3図及び第4図に示す実施例においては小透
孔2の内周面2aは上方に至るに伴つて径の漸大
する勾配面に形成され、小透孔2の上端縁に尖鋭
部2bが設けられている。
第5図及び第6図に示す実施例においては前記
両実施例の基板1が重合され、小透孔2の中間部
に尖鋭部2bが設けられている。
【図面の簡単な説明】
第1図、第3図、及び第5図は夫々本考案に係
る高勾配電磁キヤニスター用金属製フイルターの
一実施例の小透孔部の拡大平面図、第2図、第4
図及び第6図は夫々その縦断面図である。 1……フエライト系SUS430基板、2……小透
孔、2a……小透孔の内周面、2b……尖鋭部。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 内周壁が勾配面に形成された多数の小透孔を
    穿設した基板から成ることを特徴とする高勾配
    電磁フイルタ用マトリツクス。 (2) 基板の材質がフエライト系ステンレス鋼
    SUS430であることを特徴とする実用新案登録
    請求の範囲第1項に記載の高勾配電磁フイルタ
    用マトリツクス。 (3) 厚みが30μから200μである基板100枚から
    2000枚を積層したことを特徴とする実用新案登
    録請求の範囲第1項または第2項に記載の高勾
    配電磁フイルタ用マトリツクス。
JP1983090400U 1983-06-15 1983-06-15 高勾配電磁フイルタ用マトリックス Granted JPS601415U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1983090400U JPS601415U (ja) 1983-06-15 1983-06-15 高勾配電磁フイルタ用マトリックス

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1983090400U JPS601415U (ja) 1983-06-15 1983-06-15 高勾配電磁フイルタ用マトリックス

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS601415U JPS601415U (ja) 1985-01-08
JPS6119772Y2 true JPS6119772Y2 (ja) 1986-06-14

Family

ID=30220321

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1983090400U Granted JPS601415U (ja) 1983-06-15 1983-06-15 高勾配電磁フイルタ用マトリックス

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JPS601415U (ja) 1985-01-08

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