JPS61200421A - 測定機 - Google Patents
測定機Info
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- JPS61200421A JPS61200421A JP4056685A JP4056685A JPS61200421A JP S61200421 A JPS61200421 A JP S61200421A JP 4056685 A JP4056685 A JP 4056685A JP 4056685 A JP4056685 A JP 4056685A JP S61200421 A JPS61200421 A JP S61200421A
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- Japan
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- measuring
- detector
- measured
- measuring device
- moving mechanism
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、測定子と被測定物との相対移動による計測装
置からの信号データにより被測定物の形状、寸法等を測
定する例えば三次元の測定機にかかり、特に、2設計測
方式を採用した測定機に関し、測定精度の高度化に利用
できるものである。
置からの信号データにより被測定物の形状、寸法等を測
定する例えば三次元の測定機にかかり、特に、2設計測
方式を採用した測定機に関し、測定精度の高度化に利用
できるものである。
[背景技術とその問題点]
測定子と被測定物とを相対移動せしめ、計測装置からの
出力信号データを所定処理することにより被測定物の形
状、寸法等を測定する測定機が知られており、従来のマ
イクロメータ、ノギス等に比べて高精度化、高速測定さ
らには複雑形状測定ができる等の特徴を有するため各種
産業の測定分野において広く普及しつつある。
出力信号データを所定処理することにより被測定物の形
状、寸法等を測定する測定機が知られており、従来のマ
イクロメータ、ノギス等に比べて高精度化、高速測定さ
らには複雑形状測定ができる等の特徴を有するため各種
産業の測定分野において広く普及しつつある。
第4図はかかる測定機である従来の三次元測定機を示す
、基台31には載置盤32が置かれ、被測定物を載置す
るためのこの載置盤32には門型の測定子支持体33が
載せられている。測定子支持体33の構成部材である横
桁部材34にはスライダ35が設けられ、スライダ35
に垂直方向移動自在に取付けられたスピンドル36の下
端に測定子37が設けられている。測定子37は測定子
支持体33が案内レール38に沿って移動することによ
りY軸方向へ変位し、またスライダ35が横桁部材34
に沿って移動することによりX軸方向へ変位し、さらに
スピンドル36がスライダ35に対し上下に移動するこ
とによりZ軸方向へ変位する0以上の載置盤32)測定
子支持体33スライダ35、スピンドル36等によりJ
l−文子37が被測定物に対し移動せしめられる移動機
構が構成され、Y軸、X軸、Z軸の直交三輪方向への移
動量は計測装ご39.40.41で夫々計測される。
、基台31には載置盤32が置かれ、被測定物を載置す
るためのこの載置盤32には門型の測定子支持体33が
載せられている。測定子支持体33の構成部材である横
桁部材34にはスライダ35が設けられ、スライダ35
に垂直方向移動自在に取付けられたスピンドル36の下
端に測定子37が設けられている。測定子37は測定子
支持体33が案内レール38に沿って移動することによ
りY軸方向へ変位し、またスライダ35が横桁部材34
に沿って移動することによりX軸方向へ変位し、さらに
スピンドル36がスライダ35に対し上下に移動するこ
とによりZ軸方向へ変位する0以上の載置盤32)測定
子支持体33スライダ35、スピンドル36等によりJ
l−文子37が被測定物に対し移動せしめられる移動機
構が構成され、Y軸、X軸、Z軸の直交三輪方向への移
動量は計測装ご39.40.41で夫々計測される。
前記移動機構により測定子37を被測定物に対し移動せ
しめ1両者が一定の関係になったとき、例えば測定子3
7がタッチ信号式プローブの場合にはΔ+++定子3文
子被測定物の被測定箇所に接触して信号を出力したとき
の被測定物の被測定箇所に対する測定子37の移動変位
量またはこの被測定箇所の原点からの座標が前記計測装
置39,40.41で検出され、これらの計測装置39
.40.41からの出力信号データが演算処理装置で所
定処理、例えば原点からの複数の被測定箇所の平均座標
を求めるための演算処理がなされて被測定物の形状、寸
法等が測定される。
しめ1両者が一定の関係になったとき、例えば測定子3
7がタッチ信号式プローブの場合にはΔ+++定子3文
子被測定物の被測定箇所に接触して信号を出力したとき
の被測定物の被測定箇所に対する測定子37の移動変位
量またはこの被測定箇所の原点からの座標が前記計測装
置39,40.41で検出され、これらの計測装置39
.40.41からの出力信号データが演算処理装置で所
定処理、例えば原点からの複数の被測定箇所の平均座標
を求めるための演算処理がなされて被測定物の形状、寸
法等が測定される。
測定子37には前記タッチ信号式プローブの他にレーザ
ー光線等を使用する光学的非接触方式のものが含まれる
。また前記移動機構の作動方式には、操作者が測定子支
持体33等を手押しする手動式と、測定子支持体33等
にモーター等による駆動手段を設けて自動送りする自動
式とがある。
ー光線等を使用する光学的非接触方式のものが含まれる
。また前記移動機構の作動方式には、操作者が測定子支
持体33等を手押しする手動式と、測定子支持体33等
にモーター等による駆動手段を設けて自動送りする自動
式とがある。
自動式によると被測定物の複数の被測定箇所をプログラ
ムによるコンピュータ制御で自動測定することが可能に
なる。さらに、第4図で示された三次元測定機は被測定
物を載置する蔵置盤32に対し測定子37が移動するタ
イプであったが、測定子を静止とし載置盤を移動させる
タイプもあり、また測定子、載置盤の両方を移動させる
タイプもある。
ムによるコンピュータ制御で自動測定することが可能に
なる。さらに、第4図で示された三次元測定機は被測定
物を載置する蔵置盤32に対し測定子37が移動するタ
イプであったが、測定子を静止とし載置盤を移動させる
タイプもあり、また測定子、載置盤の両方を移動させる
タイプもある。
以上の測定機の測定精度は前記計測装置の精度によって
決定される。この計測装置は例えば微細な光透過部と光
非透過部とを交互に格子縞状に形成した長寸のスケール
を測定方向に延設することによって構成され、測定精度
の高度化を達成するためにはこのスケールを全測定スト
ロークに亘って細かく精密に形成することが必要となる
。しかし実際には長寸のスケールを累積等の誤差をなく
して作ることは技術的に難しく、またそのようなスケー
ルができたとしても組立、調整作業等の外部的要因によ
り、使用段階において測定ストローク全長に亘って均一
な精度とすることが困難である。このような問題は測定
機が大型化するほど、すなわち測定ストロークが大きく
なるほど顕著となり、高め得る測定精度には一定の限界
があった。
決定される。この計測装置は例えば微細な光透過部と光
非透過部とを交互に格子縞状に形成した長寸のスケール
を測定方向に延設することによって構成され、測定精度
の高度化を達成するためにはこのスケールを全測定スト
ロークに亘って細かく精密に形成することが必要となる
。しかし実際には長寸のスケールを累積等の誤差をなく
して作ることは技術的に難しく、またそのようなスケー
ルができたとしても組立、調整作業等の外部的要因によ
り、使用段階において測定ストローク全長に亘って均一
な精度とすることが困難である。このような問題は測定
機が大型化するほど、すなわち測定ストロークが大きく
なるほど顕著となり、高め得る測定精度には一定の限界
があった。
また前述のようにコンピュータ制御で前記移動機構を作
動させ、この移動機構を計測装置からのフィードバック
信号により制御するように構成した場合、スケールの誤
差によって移動機構が測定子の許容変位ストロークを越
えて作動してしまったり、また測定子が所定位置に達す
る前に作動が停止してしまう等の問題が発生する。
動させ、この移動機構を計測装置からのフィードバック
信号により制御するように構成した場合、スケールの誤
差によって移動機構が測定子の許容変位ストロークを越
えて作動してしまったり、また測定子が所定位置に達す
る前に作動が停止してしまう等の問題が発生する。
更に、前述の通りスケールが全測定ストロークに亘って
微細に形成されていると、スケールの読取り誤差を生じ
させないために前記移動機構による測定子と被測定物と
の相対移動速度を一定値以下に制限しなければならず、
測定作業の向上を図るとができない。
微細に形成されていると、スケールの読取り誤差を生じ
させないために前記移動機構による測定子と被測定物と
の相対移動速度を一定値以下に制限しなければならず、
測定作業の向上を図るとができない。
[発明の目的コ
本発明は、以上の従来の問題点が一つの方向における粗
範囲も狭小範囲も同じ計測装置によって計測されるため
に発生していることに着目してなされたものである。
範囲も狭小範囲も同じ計測装置によって計測されるため
に発生していることに着目してなされたものである。
本発明の目的は、測定子と被測定物の被測定箇所との相
対移動変位量等を検出する計測装置のスケールを全測定
ストロークに亘って細かく精密に形成することを不要に
し、計測装置の制作が容易で且つ測定ストロークが大き
くても高度の測定精度を得られる測定機を提供するとこ
ろにある。
対移動変位量等を検出する計測装置のスケールを全測定
ストロークに亘って細かく精密に形成することを不要に
し、計測装置の制作が容易で且つ測定ストロークが大き
くても高度の測定精度を得られる測定機を提供するとこ
ろにある。
[問題点を解決するための手段および作用]このため本
発明の構成は、測定子と被測定物とを相対移動させる移
動機構と、測定子と被測定物の被測定箇所との相対移動
変位量又は被測定箇所の座標を検出する計測装置と、測
定子と被測定物とが一定の関係になったときのこの計測
装置の出力信号データを所定処理して被測定物の形状、
寸法等を求める演算処理装置とを備えた測定機において
、前記計測装置を前記移動機構の可動側、静止側のいず
れか一方に取付けられ且つ測定方向に一定ピッチで並ん
だ接触面を有するスケールと。
発明の構成は、測定子と被測定物とを相対移動させる移
動機構と、測定子と被測定物の被測定箇所との相対移動
変位量又は被測定箇所の座標を検出する計測装置と、測
定子と被測定物とが一定の関係になったときのこの計測
装置の出力信号データを所定処理して被測定物の形状、
寸法等を求める演算処理装置とを備えた測定機において
、前記計測装置を前記移動機構の可動側、静止側のいず
れか一方に取付けられ且つ測定方向に一定ピッチで並ん
だ接触面を有するスケールと。
前記移動機構による移動量がこれらの接触面のうちいず
れの接触面の近傍位置に達しているかを検出する第1検
出器と、前記移動機構の可動側、静止側の他方に取付け
られ、前記接触面に接触する接触子を有し前記ピッチの
長さを細分割した微少単位で測定する分割能を有する第
2検出器とを含んで構成し、前記演算処理装置をこの第
1及び第2の検出器の出力信号データを加減算して前記
測定子と被測定物の被測定箇所との相対移動変位量又は
被測定箇所の座標を求めた後に前記所定処理を行うよう
に構成し、前記計測装置を粗範囲検出用の第1検出器と
狭小範囲検出用の第2検出器とによる2段計測方式の構
成としたところに特徴を有する。
れの接触面の近傍位置に達しているかを検出する第1検
出器と、前記移動機構の可動側、静止側の他方に取付け
られ、前記接触面に接触する接触子を有し前記ピッチの
長さを細分割した微少単位で測定する分割能を有する第
2検出器とを含んで構成し、前記演算処理装置をこの第
1及び第2の検出器の出力信号データを加減算して前記
測定子と被測定物の被測定箇所との相対移動変位量又は
被測定箇所の座標を求めた後に前記所定処理を行うよう
に構成し、前記計測装置を粗範囲検出用の第1検出器と
狭小範囲検出用の第2検出器とによる2段計測方式の構
成としたところに特徴を有する。
[実施例]
第1図は本実施例に係る測定機を示し、この測定機は測
定子が移動するタイプの三次元測定機で上面IAに被測
定物が載置される載置m1の左右の側面IB、Icには
レール部材2が取付部材3で水平に取付けられ、これら
のレール部材2は載置盤1の長手方向であるY軸方向へ
延びている。測定子4を支持する測定子支持体5は左右
の支柱6.7と、これらの支柱6.7の上部に横断架設
された横桁部材8とからなる門型形状で、支柱6,7の
脚部6A、7Aの内部にはローラ等の転動部材が配置さ
れ、この転勤部材がレール部材2に転勤自在に係合する
ことにより測定子支持体5はレール部材2で重量が支持
されながらY軸方向へ移動できるようになっている。
定子が移動するタイプの三次元測定機で上面IAに被測
定物が載置される載置m1の左右の側面IB、Icには
レール部材2が取付部材3で水平に取付けられ、これら
のレール部材2は載置盤1の長手方向であるY軸方向へ
延びている。測定子4を支持する測定子支持体5は左右
の支柱6.7と、これらの支柱6.7の上部に横断架設
された横桁部材8とからなる門型形状で、支柱6,7の
脚部6A、7Aの内部にはローラ等の転動部材が配置さ
れ、この転勤部材がレール部材2に転勤自在に係合する
ことにより測定子支持体5はレール部材2で重量が支持
されながらY軸方向へ移動できるようになっている。
前記横桁部材8にはスライダ9が摺動自在に取付けられ
、このスライダ9と一体化されているスピンドルケース
10にはスピンドル11が垂直方向に移動自在に設けら
れ、スピンドル11の下端に前記測定子4が設けられて
いる。
、このスライダ9と一体化されているスピンドルケース
10にはスピンドル11が垂直方向に移動自在に設けら
れ、スピンドル11の下端に前記測定子4が設けられて
いる。
測定子支持体5がレール部材2に沿って移動することに
より測定子4のY軸方向の移動がなされ、測定子4のX
@b方向移動はスライダ9が横桁部材8に沿って摺動す
ることにより、また測定子4のX軸方向移動はスピンド
ル11がスピンドルケース10に対し上下に移動するこ
とにより夫々なされる。
より測定子4のY軸方向の移動がなされ、測定子4のX
@b方向移動はスライダ9が横桁部材8に沿って摺動す
ることにより、また測定子4のX軸方向移動はスピンド
ル11がスピンドルケース10に対し上下に移動するこ
とにより夫々なされる。
載置盤lの前記側面IBにはレール部材2と平行にボー
ルねじによるねじ軸12が設けられ、このねじ軸12の
両端は軸受部材13.14で回転自在に支持され、ねじ
軸12の一端には蔵置盤1の側面IBにブラケット15
で取付けられたモーター16の駆動軸16Aが連結され
る。ねじ軸12は前記支柱7の脚部7Aを挿通し、この
脚部7Aにはねじ軸12に螺合するナツト部材が配置さ
れているため、ねじ軸12がモーター16で回転せしめ
られると測定子支持体5はねじ軸12のねじ送り作用に
よりY軸方向へ移動する。スライダ9の横桁部材8に対
するX軸方向移動及びスピンドル11のスピンドルケー
ス10に対する2M方向移動もY軸方向移動と同様にモ
ーター等の駆動手段により自動送りとしてもよい。
ルねじによるねじ軸12が設けられ、このねじ軸12の
両端は軸受部材13.14で回転自在に支持され、ねじ
軸12の一端には蔵置盤1の側面IBにブラケット15
で取付けられたモーター16の駆動軸16Aが連結され
る。ねじ軸12は前記支柱7の脚部7Aを挿通し、この
脚部7Aにはねじ軸12に螺合するナツト部材が配置さ
れているため、ねじ軸12がモーター16で回転せしめ
られると測定子支持体5はねじ軸12のねじ送り作用に
よりY軸方向へ移動する。スライダ9の横桁部材8に対
するX軸方向移動及びスピンドル11のスピンドルケー
ス10に対する2M方向移動もY軸方向移動と同様にモ
ーター等の駆動手段により自動送りとしてもよい。
以上の載置盤1.1定子女子支持、スライダ9.スピン
ドル11.ねじ軸12)モーター16等でIl!を置盤
1の上面IAにa、置される被測定物に対し測定子4を
X軸、Y軸、Z軸の直交三輪方向へ移動させる移動機構
17が構成され、載置盤1等は移動機構17の静止側を
、測定子支持体5等は可動側を夫々構成する。
ドル11.ねじ軸12)モーター16等でIl!を置盤
1の上面IAにa、置される被測定物に対し測定子4を
X軸、Y軸、Z軸の直交三輪方向へ移動させる移動機構
17が構成され、載置盤1等は移動機構17の静止側を
、測定子支持体5等は可動側を夫々構成する。
本実施例では測定子4はタッチ信号式のプローブであり
、被II4足物の被測定箇所に接触することによりタッ
チ信号を出力する。
、被II4足物の被測定箇所に接触することによりタッ
チ信号を出力する。
第2図に示す通りモーター16にはパルスジェネレータ
ー18が連結され、このパルスジェネレーター18はモ
ーター16の回転数に応じたパルスを発生する。第3図
の通りパルスジェネレーター18は第1検出器19に接
続され、第1検出器19はパルスジェネレーター18で
発生したパルス数をカウントして測定子支持体5の大ス
トロークの移動を粗分解能で検出する機能を有する。第
1図の通り前記載M盤lの側面IBにはY軸方向の長さ
を有しかつ前記レール部材2.ねじ軸12と平行なスケ
ール20が設けられ、このスケール20は両端で保持体
21.22により保持されている。このスケール20は
例えば長短2種類のブロックゲージを厚さ方向に連結す
ることにより構成され、第2図の通り一定のどフチt
(例えば20mm)による垂直な接触面20AがY軸方
向に並んで設けられる。
ー18が連結され、このパルスジェネレーター18はモ
ーター16の回転数に応じたパルスを発生する。第3図
の通りパルスジェネレーター18は第1検出器19に接
続され、第1検出器19はパルスジェネレーター18で
発生したパルス数をカウントして測定子支持体5の大ス
トロークの移動を粗分解能で検出する機能を有する。第
1図の通り前記載M盤lの側面IBにはY軸方向の長さ
を有しかつ前記レール部材2.ねじ軸12と平行なスケ
ール20が設けられ、このスケール20は両端で保持体
21.22により保持されている。このスケール20は
例えば長短2種類のブロックゲージを厚さ方向に連結す
ることにより構成され、第2図の通り一定のどフチt
(例えば20mm)による垂直な接触面20AがY軸方
向に並んで設けられる。
第1図のように前記測定子支持体5の支柱7の脚部7A
にはスケール20を挿通させるための連通溝21が形成
され、測定子支持体5のY軸方向への移動が保障されて
いるとともに、第2図の通り脚部7Aの内部には第2検
出器22が配置されている。この第2検出器22はスケ
ール2oの接触面20Aと接触するてこ式の接触子22
Aを有する。第3図の通り第2検出器22は前記第1検
出器19とともに演算処理装置23に接続され、これら
の第1検出器19.第2検出器22)更にはスケール2
0等を含んで計測装置24が構成される。
にはスケール20を挿通させるための連通溝21が形成
され、測定子支持体5のY軸方向への移動が保障されて
いるとともに、第2図の通り脚部7Aの内部には第2検
出器22が配置されている。この第2検出器22はスケ
ール2oの接触面20Aと接触するてこ式の接触子22
Aを有する。第3図の通り第2検出器22は前記第1検
出器19とともに演算処理装置23に接続され、これら
の第1検出器19.第2検出器22)更にはスケール2
0等を含んで計測装置24が構成される。
第1検出器19は前記パルスジェネレータ18で発生す
るパルス数をカウントすることにより前記移動機構17
の作動量、即ち前記測定子支持体5の移動量がスケール
20の多数の接触面20Aのうちのいずれの接触面20
Aの近傍位置に達しているかを検出する。これに対し第
2検出器22は接触面22Aのピッチtと同じかこれよ
りも太き目の測定範囲を有するとともに、ピッチEの長
さを細分割した微小単位により測定子支持体5の移動量
を測定する分解能を有する。このため、第1検出器19
は移動量がピッチLのいくつの整数倍に相当するか大目
盛的に測定する粗範囲検出用であって、第2検出器22
は夫々のピッチを内において移動量を小目盛的に測定す
る狭小範囲検出用であり、前記計測装置24は第1及び
第2の検出器19.22による2段計測方式の構成とな
っている。
るパルス数をカウントすることにより前記移動機構17
の作動量、即ち前記測定子支持体5の移動量がスケール
20の多数の接触面20Aのうちのいずれの接触面20
Aの近傍位置に達しているかを検出する。これに対し第
2検出器22は接触面22Aのピッチtと同じかこれよ
りも太き目の測定範囲を有するとともに、ピッチEの長
さを細分割した微小単位により測定子支持体5の移動量
を測定する分解能を有する。このため、第1検出器19
は移動量がピッチLのいくつの整数倍に相当するか大目
盛的に測定する粗範囲検出用であって、第2検出器22
は夫々のピッチを内において移動量を小目盛的に測定す
る狭小範囲検出用であり、前記計測装置24は第1及び
第2の検出器19.22による2段計測方式の構成とな
っている。
以上により、スケール20は接触面20Aを一定のピッ
チtで精密加工により形成すれば足り、ピッチを以下の
微小単位の目盛等を細かく正確に形成することは不要で
全測定ストロークに亘る細かい精密性は要求されず、ピ
ッチを以下の移動量は高分解能を有する第2検出器22
で正確に測定できる。このため、測定ストロークが大き
くなってもこのスケール20に一定ピッチの区分を設け
る作業だけを行なえばよいため製作が容易になり、また
累積等の誤差の発生も防止され、測定精度の向上を図る
ことができる。
チtで精密加工により形成すれば足り、ピッチを以下の
微小単位の目盛等を細かく正確に形成することは不要で
全測定ストロークに亘る細かい精密性は要求されず、ピ
ッチを以下の移動量は高分解能を有する第2検出器22
で正確に測定できる。このため、測定ストロークが大き
くなってもこのスケール20に一定ピッチの区分を設け
る作業だけを行なえばよいため製作が容易になり、また
累積等の誤差の発生も防止され、測定精度の向上を図る
ことができる。
なお、スケール20の接触面20Aの夫々の間隔が正確
なピッチEに対して比較的小さな量ではあるが誤差を有
する場合があるため、このような場合を考慮して基準点
からの夫々の接触面20Aの距離を予め精密測定し、こ
の測定結果による誤差を第3図で示した記憶装R25に
記憶させておく。
なピッチEに対して比較的小さな量ではあるが誤差を有
する場合があるため、このような場合を考慮して基準点
からの夫々の接触面20Aの距離を予め精密測定し、こ
の測定結果による誤差を第3図で示した記憶装R25に
記憶させておく。
本実施例ではY軸方向測定用の計測装置が第1及びS2
の検出器による2段計測方式になっているが、これをX
軸方向測定用、X軸方向測定用の計測装置について行っ
てもよい、即ち、X軸、Y軸、Z軸と対応して設けられ
る3個の計測装置の全てを第1検出器、第2検出器を含
んで構成される2設計測方式の計測装置としてもよい。
の検出器による2段計測方式になっているが、これをX
軸方向測定用、X軸方向測定用の計測装置について行っ
てもよい、即ち、X軸、Y軸、Z軸と対応して設けられ
る3個の計測装置の全てを第1検出器、第2検出器を含
んで構成される2設計測方式の計測装置としてもよい。
第3図で示した駆動回路26によりモーター16が駆動
せしめられるとねじ軸12のねじ送り作用で前記測定子
支持体5は移動し、この移動は測定子4が被測定物の被
測定箇所に接触してタッチ信号を出力するまで行われ、
この信号は駆動回路26に入力してモータ16を停止さ
せる。なお、この移動のときにスケール20を下降させ
て第2検出器22の接触子22Aがスケール20にぶつ
かるのを回避するようにしてもよい。つまりスケール2
0を保持する前記保持体21.22にスケール20を昇
降動させる機能を持たせ、測定作業時のみにスケール2
0を上昇させて第2検出器22の接触子22Aを接触面
20Aに接触させるようにしてもよい。
せしめられるとねじ軸12のねじ送り作用で前記測定子
支持体5は移動し、この移動は測定子4が被測定物の被
測定箇所に接触してタッチ信号を出力するまで行われ、
この信号は駆動回路26に入力してモータ16を停止さ
せる。なお、この移動のときにスケール20を下降させ
て第2検出器22の接触子22Aがスケール20にぶつ
かるのを回避するようにしてもよい。つまりスケール2
0を保持する前記保持体21.22にスケール20を昇
降動させる機能を持たせ、測定作業時のみにスケール2
0を上昇させて第2検出器22の接触子22Aを接触面
20Aに接触させるようにしてもよい。
モーター16の駆動によりパルスジェネレーター18で
発生したパルスの数が第1検出器19で検出され、この
結果、測定子支持体5の移動量がどのくらいの大きさに
なっているかが1ピツチtを最小単位として検出される
。この検出量をnXtとする。また、移動前の第2検出
器22の指示値をm。とし、移動後の指示値をmIとす
る。
発生したパルスの数が第1検出器19で検出され、この
結果、測定子支持体5の移動量がどのくらいの大きさに
なっているかが1ピツチtを最小単位として検出される
。この検出量をnXtとする。また、移動前の第2検出
器22の指示値をm。とし、移動後の指示値をmIとす
る。
mI−moは測定子支持体5の移動量のピッチを以下の
端数、即ち測定子支持体5のピッチを以下の正確な移動
量を示す、ここで移動の前後において第2検出器22の
接触子22Aが接触するスケール20の2個の接触面2
0Aの間隔の正確なnXtに対する誤差をΔ見nとする
。
端数、即ち測定子支持体5のピッチを以下の正確な移動
量を示す、ここで移動の前後において第2検出器22の
接触子22Aが接触するスケール20の2個の接触面2
0Aの間隔の正確なnXtに対する誤差をΔ見nとする
。
なお、例えば第2検出器22を1ピツチtの半分ずらし
て2個設け、スケール20を凸部20B、凹部20Cが
1ピツチの半分づつずれた2木とすることにより、測定
子支持体5の任意の停止位置において第2検出器22に
よる測定が可能となる。また、測定子支持体5を手動操
作で移動できるように構成した場合には、タッチ信号式
プローブである測定子4のオバーストロークを利用して
第2検出器22の接触子22Aがスケール20の四部2
0Cと一致した位置で測定子支持体5の移動を停止させ
るようにしてもよい。
て2個設け、スケール20を凸部20B、凹部20Cが
1ピツチの半分づつずれた2木とすることにより、測定
子支持体5の任意の停止位置において第2検出器22に
よる測定が可能となる。また、測定子支持体5を手動操
作で移動できるように構成した場合には、タッチ信号式
プローブである測定子4のオバーストロークを利用して
第2検出器22の接触子22Aがスケール20の四部2
0Cと一致した位置で測定子支持体5の移動を停止させ
るようにしてもよい。
前述の通り被測定箇所への接触により測定子4からタッ
チ信号が出力されると、この出力信号は第3図の通り前
記演算処理装置23にも入力される。この入力信号は前
記第1検出器19、第2検出器22の測定データを演算
処理装置23に入力させる指令信号となり、これらのデ
ータの入力とともに前記記憶装置25に記憶されている
データに基づ〈前記Δ!;Lnのデータも入力される。
チ信号が出力されると、この出力信号は第3図の通り前
記演算処理装置23にも入力される。この入力信号は前
記第1検出器19、第2検出器22の測定データを演算
処理装置23に入力させる指令信号となり、これらのデ
ータの入力とともに前記記憶装置25に記憶されている
データに基づ〈前記Δ!;Lnのデータも入力される。
これにより演算処理装置23において第1検出器19、
第2検出器22)及び記憶装置25からの出力信号デー
タが加減算される。この加減算の結果は測定子支持体5
の移動量、即ち測定子4の変位量りを示し、 L= (nX t)+ (mI mo )+ΔJlj
n以上のようにしてこの三次元測定機においては被測定
物の被測定箇所に対する測定子4の移動変位量または被
測定箇所の原点からの座標位置が求められ、次いで演算
処理装置23において例えば複数の被測定箇所の平均座
標位置や穴の中心位置を求めるための測定値の所定処理
が行なわれ、この処理結果が表示器27に表示され被測
定物の形状、寸法等が測定される。
第2検出器22)及び記憶装置25からの出力信号デー
タが加減算される。この加減算の結果は測定子支持体5
の移動量、即ち測定子4の変位量りを示し、 L= (nX t)+ (mI mo )+ΔJlj
n以上のようにしてこの三次元測定機においては被測定
物の被測定箇所に対する測定子4の移動変位量または被
測定箇所の原点からの座標位置が求められ、次いで演算
処理装置23において例えば複数の被測定箇所の平均座
標位置や穴の中心位置を求めるための測定値の所定処理
が行なわれ、この処理結果が表示器27に表示され被測
定物の形状、寸法等が測定される。
以上において前記モーター16を駆動させる駆動回路2
6は操作者のスイッチ操作で作動するよう°に構成する
こともできるが、プログラムによるコンピュータ制御で
作動させるように構成することもできる。このようにコ
ンピュータ制御を採用した場合には被測定物に多数の被
測定箇所が存在するとき、この被測定箇所をプログラム
に従った順序で迅速に測定できる等の利点を有するよう
になり、また第1検出器19等の出力信号データをフィ
ードバックさせて移動機構17の制御等を行なえるよう
になる。
6は操作者のスイッチ操作で作動するよう°に構成する
こともできるが、プログラムによるコンピュータ制御で
作動させるように構成することもできる。このようにコ
ンピュータ制御を採用した場合には被測定物に多数の被
測定箇所が存在するとき、この被測定箇所をプログラム
に従った順序で迅速に測定できる等の利点を有するよう
になり、また第1検出器19等の出力信号データをフィ
ードバックさせて移動機構17の制御等を行なえるよう
になる。
なお、スケール20の任意の接触面20Aの前記基準点
からの誤差が無視できる微小量のときは記憶装置25の
データが零になる場合がある。
からの誤差が無視できる微小量のときは記憶装置25の
データが零になる場合がある。
本実施例では測定子4はタッチ信号式プローブであった
が、測定子はこれに限らず例えばレーザー光線等による
光学的非接触方式のものを採用してもよく、要すれば測
定子と被測定物の被測定箇所とが一定の関係になったこ
とを検知できるものであればよい、また本実施例では、
スケール20は移動機構17の静止側部材を構成する蔵
置盤1に取付けられ、第2検出器22は可動側部材を構
成する測定子支持体5に取付けられていたが、これらを
逆にしてもよい、また第1検出器は本実施例のようにパ
ルスカウンタとせず、例えば一定ピツチの目盛等を光学
的、或は磁気的に読取るものとしてもよく、これによっ
てもスケールを全測定ストロークに亘って細かく精密に
製作することを不要にでき、またこのスケールは目盛等
を微細に形成したものではないため読取誤差の問題を解
決する必要はなく、測定子と被測定物との相対移動速度
を高めることができる。
が、測定子はこれに限らず例えばレーザー光線等による
光学的非接触方式のものを採用してもよく、要すれば測
定子と被測定物の被測定箇所とが一定の関係になったこ
とを検知できるものであればよい、また本実施例では、
スケール20は移動機構17の静止側部材を構成する蔵
置盤1に取付けられ、第2検出器22は可動側部材を構
成する測定子支持体5に取付けられていたが、これらを
逆にしてもよい、また第1検出器は本実施例のようにパ
ルスカウンタとせず、例えば一定ピツチの目盛等を光学
的、或は磁気的に読取るものとしてもよく、これによっ
てもスケールを全測定ストロークに亘って細かく精密に
製作することを不要にでき、またこのスケールは目盛等
を微細に形成したものではないため読取誤差の問題を解
決する必要はなく、測定子と被測定物との相対移動速度
を高めることができる。
本発明は本実施例のように測定子が移動し被測定物が静
止の三次元測定機のみならず、測定子が静止で被測定物
が移動するタイプの測定機、あるいは測定子及び被測定
物の双方が移動するタイプの測定機にも適用でき、要す
れば測定子と被測定物とが相対移動する測定機に適用で
き、移動機構は測定子と被測定物とに相対移動を生じさ
せるものであれば任意な構成としてよい、さらに本発明
は、三次元測定機だけではなく二次元測定機あるいは測
定子と測定物とが一軸方向のみに相対移動する測定機に
も適用できる。
止の三次元測定機のみならず、測定子が静止で被測定物
が移動するタイプの測定機、あるいは測定子及び被測定
物の双方が移動するタイプの測定機にも適用でき、要す
れば測定子と被測定物とが相対移動する測定機に適用で
き、移動機構は測定子と被測定物とに相対移動を生じさ
せるものであれば任意な構成としてよい、さらに本発明
は、三次元測定機だけではなく二次元測定機あるいは測
定子と測定物とが一軸方向のみに相対移動する測定機に
も適用できる。
[発明の効果]
本発明によれば測定子と被測定物の被測定箇所との相対
移動変位量等を検出する計測装置のスケールを全測定ス
トロークに亘って細かく精密に形成することが不要とな
り、従って計測装置の製作が容易でかつ測定ストローク
が犬きくなっても測定精度を高度にすることができる。
移動変位量等を検出する計測装置のスケールを全測定ス
トロークに亘って細かく精密に形成することが不要とな
り、従って計測装置の製作が容易でかつ測定ストローク
が犬きくなっても測定精度を高度にすることができる。
951図は本実施例にかかわる三次元測定機の斜視図、
第2図は計測装置の構成と移動機構による移動を示す図
、第3図は計測装置や演算処理装置等の接続状態を示す
ブロック図、第4図は従来例を示す斜視図である。 l・・・載置盤、4・・・測定子、5・・・測定子支持
体、17・・・移動機構、19・・・第1検出器、20
・・・スケール、20A・・・接触面、22・・・第2
検出器、23・・・演算処理装置、24・・・計測装置
。
第2図は計測装置の構成と移動機構による移動を示す図
、第3図は計測装置や演算処理装置等の接続状態を示す
ブロック図、第4図は従来例を示す斜視図である。 l・・・載置盤、4・・・測定子、5・・・測定子支持
体、17・・・移動機構、19・・・第1検出器、20
・・・スケール、20A・・・接触面、22・・・第2
検出器、23・・・演算処理装置、24・・・計測装置
。
Claims (2)
- (1)測定子と被測定物とを相対移動させる移動機構と
、測定子と被測定物の被測定箇所との相対移動変位量又
は被測定箇所の座標を検出する計測装置と、測定子と被
測定物とが一定の関係になったときのこの計測装置の出
力信号データを所定処理して被測定物の形状、寸法等を
求める演算処理装置とを備えた測定機において、前記計
測装置を前記移動機構の可動側、静止側のいずれか一方
に取付けられ且つ測定方向に一定ピッチで並んだ接触面
を有するスケールと、前記移動機構による移動量がこれ
らの接触面のうちいずれの接触面の近傍位置に達してい
るかを検出する第1検出器と、前記移動機構の可動側、
静止側の他方に取付けられ、前記接触面に接触する接触
子を有し前記ピッチの長さを細分割した微少単位で測定
する分割能を有する第2検出器とを含んで構成し、前記
演算処理装置をこの第1及び第2の検出器の出力信号デ
ータを加減算して前記測定子と被測定物の被測定箇所と
の相対移動変位量又は被測定箇所の座標を求めた後に前
記所定処理を行うように構成したことを特徴とする測定
機。 - (2)特許請求の範囲第1項において、前記移動機構は
X軸、Y軸、Z軸の直交三軸方向への移動機能を有する
とともに、前記計測装置はこのX軸、Y軸、Z軸と対応
して3個あり、これらの全ての計測装置が前記第1及び
第2の検出器を含んで構成されていることを特徴とする
測定機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4056685A JPS61200421A (ja) | 1985-03-01 | 1985-03-01 | 測定機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4056685A JPS61200421A (ja) | 1985-03-01 | 1985-03-01 | 測定機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61200421A true JPS61200421A (ja) | 1986-09-05 |
| JPH0339607B2 JPH0339607B2 (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=12584018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4056685A Granted JPS61200421A (ja) | 1985-03-01 | 1985-03-01 | 測定機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61200421A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5322853A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-02 | Sumitomo Metal Ind | Non treatment h shade steel sections manufacturing for low temperature |
-
1985
- 1985-03-01 JP JP4056685A patent/JPS61200421A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5322853A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-02 | Sumitomo Metal Ind | Non treatment h shade steel sections manufacturing for low temperature |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0339607B2 (ja) | 1991-06-14 |
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