JPS61209162A - 印刷用活字の製造方法 - Google Patents
印刷用活字の製造方法Info
- Publication number
- JPS61209162A JPS61209162A JP5017385A JP5017385A JPS61209162A JP S61209162 A JPS61209162 A JP S61209162A JP 5017385 A JP5017385 A JP 5017385A JP 5017385 A JP5017385 A JP 5017385A JP S61209162 A JPS61209162 A JP S61209162A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- metal material
- pattern
- exposure
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J1/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the mounting, arrangement or disposition of the types or dies
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
金属材料１１′に被覆したホトレジスト膜２１に、被彫
出活字体の形状に略一致するパターンの露光適正な第１
の感光部２１１と、該パターンの外周をその輪郭線に略
相似したパターンをもってとり巻いた腐食代として作用
する露光不足の第２の感光部２１２を形成し、このホト
レジスト膜２１をマスクにしてエツチングすることで前
記金属材料１１′にテーパ状の裾を持つ活字を彫出する
ものであり、一段階のエツチングにて活字が形成可能で
ある。
出活字体の形状に略一致するパターンの露光適正な第１
の感光部２１１と、該パターンの外周をその輪郭線に略
相似したパターンをもってとり巻いた腐食代として作用
する露光不足の第２の感光部２１２を形成し、このホト
レジスト膜２１をマスクにしてエツチングすることで前
記金属材料１１′にテーパ状の裾を持つ活字を彫出する
ものであり、一段階のエツチングにて活字が形成可能で
ある。
この発明は、印刷用活字の製造方法に係り、さらに詳細
には金属材料にホトエツチングにてテーパ状の裾を持つ
長寿命な活字体を彫出する方法に関するものである。
には金属材料にホトエツチングにてテーパ状の裾を持つ
長寿命な活字体を彫出する方法に関するものである。
ラインプリンタに用いられる印字ドラムや印字ベルトの
活字は、金属材料にホトエツチング法を用いて彫出した
ものが多い。しかして、この活字においては、長期間の
印字に耐えるように字形体凸部の裾をテーパ状にした強
固な形状が採られている。
活字は、金属材料にホトエツチング法を用いて彫出した
ものが多い。しかして、この活字においては、長期間の
印字に耐えるように字形体凸部の裾をテーパ状にした強
固な形状が採られている。
かかるテーパ状の裾を持つ活字体を彫出する従来のホト
エツチング法を第９図と第１０図を参照して説明する。
エツチング法を第９図と第１０図を参照して説明する。
第９図はｒＡＪなる活字を彫出するためのホトレジスト
パターンの平面図で、１は被活字膨出金属板の表面に被
覆された字形体と略一致する第１ホトレジストパターン
、２はそのレジストパターン上に被覆された字形体より
太めの第２ホトレジストパターンを示す。これらのホト
レジスト膜は、例えば第１パターンが水溶性ホトレジス
ト、第２パターンが有機溶媒可溶性ホトレジストをを用
いて形成している。
パターンの平面図で、１は被活字膨出金属板の表面に被
覆された字形体と略一致する第１ホトレジストパターン
、２はそのレジストパターン上に被覆された字形体より
太めの第２ホトレジストパターンを示す。これらのホト
レジスト膜は、例えば第１パターンが水溶性ホトレジス
ト、第２パターンが有機溶媒可溶性ホトレジストをを用
いて形成している。
第１０図はかかる二層ホトレジスト膜による金属材料の
エツチング工程を順に示す第９図のＡ−Ａ線に沿って切
断した断面図である。ホトレジスト膜１．２の施された
金属板３の表面を適当深度までエツチングすると、同図
（ａ）に示すように第２ホトレジストパターン２に対応
した凸部３ａが当該金属板表面に形成される。この後、
第２ホトレジスト膜２を除去してから金属板３に対し第
２段階のエツチングを施すと、同図（ｂｌに示すように
第１ホトレジストパターン１に対応した凸部３ｂが金属
板表面に形成される。この後、第１ホトレジスト膜１を
除去して所望の活字ｒＡＪに対応する字形体凸部を金属
板３の表面に彫出し、作業を完了する。
エツチング工程を順に示す第９図のＡ−Ａ線に沿って切
断した断面図である。ホトレジスト膜１．２の施された
金属板３の表面を適当深度までエツチングすると、同図
（ａ）に示すように第２ホトレジストパターン２に対応
した凸部３ａが当該金属板表面に形成される。この後、
第２ホトレジスト膜２を除去してから金属板３に対し第
２段階のエツチングを施すと、同図（ｂｌに示すように
第１ホトレジストパターン１に対応した凸部３ｂが金属
板表面に形成される。この後、第１ホトレジスト膜１を
除去して所望の活字ｒＡＪに対応する字形体凸部を金属
板３の表面に彫出し、作業を完了する。
ところが、前記した従来の活字製造法では、二種のホト
レジストパターン形成において各々２段階のレジスト塗
布、露光、現像工程が必要であるうえに、エツチング工
程も２段階必要であり、作業工数が多くてコスト高にな
る欠点があった。
レジストパターン形成において各々２段階のレジスト塗
布、露光、現像工程が必要であるうえに、エツチング工
程も２段階必要であり、作業工数が多くてコスト高にな
る欠点があった。
この発明は、以上のような従来の状況から印刷用活字を
１段階のホトエツチングにて膨出可能とした活字製造方
法の提供を目的とするものである。
１段階のホトエツチングにて膨出可能とした活字製造方
法の提供を目的とするものである。
この発明の印刷用活字製造方法は、第６図と第８図に示
すように金属材料１１′の表面に被覆されたホトレジス
ト膜２１に、被彫出活字体の形状に略一致するパターン
の露光適正な第１の感光部２１１と、このパターンの外
周をその輪郭線に略相似したパターンをもってとり巻い
た腐食化として作用する露光不足の第２の感光部２１２
をそれぞれ形成する。そのため第２図に示すような被彫
出活字体の形状に略一致する透光パターンを持つ第１の
遮光マスク３１と、この遮光マスクの透光パターンの全
外周に略平行してひと周り大きい透光パターンを持つ第
２の遮光マスク３２を用いる。そして第４図〜第７図に
示すように、まず第２の遮光マスク３２、第１の遮光マ
スク３１の順で各透光パターンを合わせて重ねて前記ホ
トレジスト膜２１上に載せ、その上から適正露光量とな
る手前まで光を入射して一次露光を行う０次いで一次露
光されたホトレジスト膜２１上に、第２の遮光マスク３
２を一次露光部位に合わせて載置した状態で適正露光量
となるまで光を入射して二次露光を行う。そして二次露
光されたホトレジスト膜２１をマスクにして金属材料１
１′をエツチングすることにより、テーパ状の裾を有し
た活字体１１１を当該金属材料１１′に形成するよう構
成している。
すように金属材料１１′の表面に被覆されたホトレジス
ト膜２１に、被彫出活字体の形状に略一致するパターン
の露光適正な第１の感光部２１１と、このパターンの外
周をその輪郭線に略相似したパターンをもってとり巻い
た腐食化として作用する露光不足の第２の感光部２１２
をそれぞれ形成する。そのため第２図に示すような被彫
出活字体の形状に略一致する透光パターンを持つ第１の
遮光マスク３１と、この遮光マスクの透光パターンの全
外周に略平行してひと周り大きい透光パターンを持つ第
２の遮光マスク３２を用いる。そして第４図〜第７図に
示すように、まず第２の遮光マスク３２、第１の遮光マ
スク３１の順で各透光パターンを合わせて重ねて前記ホ
トレジスト膜２１上に載せ、その上から適正露光量とな
る手前まで光を入射して一次露光を行う０次いで一次露
光されたホトレジスト膜２１上に、第２の遮光マスク３
２を一次露光部位に合わせて載置した状態で適正露光量
となるまで光を入射して二次露光を行う。そして二次露
光されたホトレジスト膜２１をマスクにして金属材料１
１′をエツチングすることにより、テーパ状の裾を有し
た活字体１１１を当該金属材料１１′に形成するよう構
成している。
なお、ホトエツチング法においては、周知のように露光
されたホトレジスト膜は、感光部分の被エツチング物と
の密着性は感光時間が長いほうが良く、感光不足の場合
はエツチング端より剥離し易くオーバエツチング量が多
くなるという性質がある。この発明の活字製造法は、こ
れを応用して前記レジスト膜の第１感光部と第２感光部
において金属材料との密着性に差を与え、結果的にテー
パ状の裾を持つ活字体の凸部を得んとしたものである。
されたホトレジスト膜は、感光部分の被エツチング物と
の密着性は感光時間が長いほうが良く、感光不足の場合
はエツチング端より剥離し易くオーバエツチング量が多
くなるという性質がある。この発明の活字製造法は、こ
れを応用して前記レジスト膜の第１感光部と第２感光部
において金属材料との密着性に差を与え、結果的にテー
パ状の裾を持つ活字体の凸部を得んとしたものである。
感光量の異なる二種のパターンを持つ単一膜のホトレジ
スト膜は、−回のエツチングにて所望の印刷用活字体を
金属材料に彫出することができる。
スト膜は、−回のエツチングにて所望の印刷用活字体を
金属材料に彫出することができる。
この発明を印字ベルトの活字形成に適用した実施例につ
き第１図〜第８図を参照して説明する。
き第１図〜第８図を参照して説明する。
第１図の（ａ）および山）はステンレス製のベルト１１
に形成されたｒＴＪなる活字１１１の平面図と、Ｂ−Ｂ
線に沿った断面図を示す。本実施例では、この活字ｒＴ
Ｊを製造するために第２図に示すような二種類の遮光マ
スク３１．３２を使用する。第１の遮光マスク３１は、
活字ｒＴＪの字形に略一致する透光パターン（空白部）
を有する。第２の遮光マスク３２は、第１遮光マスクの
透光パターンの全外周に略平行してひと周り大きい透光
パターン（空白部）を有する。なお、これらの遮光マス
ク３１は、第４図（ａ）に具体的に示すように支持体と
なるフィルム層３１１．３２１と、透光パターンが形成
される感光層３１２．３２２とから成る。
に形成されたｒＴＪなる活字１１１の平面図と、Ｂ−Ｂ
線に沿った断面図を示す。本実施例では、この活字ｒＴ
Ｊを製造するために第２図に示すような二種類の遮光マ
スク３１．３２を使用する。第１の遮光マスク３１は、
活字ｒＴＪの字形に略一致する透光パターン（空白部）
を有する。第２の遮光マスク３２は、第１遮光マスクの
透光パターンの全外周に略平行してひと周り大きい透光
パターン（空白部）を有する。なお、これらの遮光マス
ク３１は、第４図（ａ）に具体的に示すように支持体と
なるフィルム層３１１．３２１と、透光パターンが形成
される感光層３１２．３２２とから成る。
第３図は、ステンレス製のベルト素材１１’の表面（活
字形成面）にネガ系のホトレジスト膜２１を塗布する工
程を示す。
字形成面）にネガ系のホトレジスト膜２１を塗布する工
程を示す。
第４図（ａｌと（ｂｌは、ブレベークされたホトレジス
ト膜２１の活字形成面に、前記二種の遮光マスクを第２
マスク３２．第１マスク３１の順で各透光パターンを合
致して重ね置き、上方から紫外線を矢印のごとく入射し
て適正露光量となる手前（例えば、適正露光時間の９０
％程度）まで露光する工程を示す。この−次露光によっ
て、ホトレジスト膜２１は同図（ｂ）に示すように第１
の遮光マスク３１の透光パターンに対応した部位（斜線
部）２１１が適正量の９０％程度感光される。なお、こ
の図はｒＴＪの下端部を切断した断面図である。
ト膜２１の活字形成面に、前記二種の遮光マスクを第２
マスク３２．第１マスク３１の順で各透光パターンを合
致して重ね置き、上方から紫外線を矢印のごとく入射し
て適正露光量となる手前（例えば、適正露光時間の９０
％程度）まで露光する工程を示す。この−次露光によっ
て、ホトレジスト膜２１は同図（ｂ）に示すように第１
の遮光マスク３１の透光パターンに対応した部位（斜線
部）２１１が適正量の９０％程度感光される。なお、こ
の図はｒＴＪの下端部を切断した断面図である。
第５図（ａｌと山）は、−次露光されたホトレジスト膜
２１から各遮光マスクを一旦取り除いた後、第２の遮光
マスク３２だけを再びホトレジスト膜の一次露光部位と
同じ位置に載置し、残りの１０％程度の露光を行う工程
を示す。この二次露光によって、ホトレジスト膜２１は
適正量感光されたわけであるが、実際は同図中）に示す
ように前記第１遮光マスク３１の透光パターンに対応し
た第１の感光部位２１１（クロス斜線部）だけが１００
％感光され、第２遮光マスク３２の透光パターンと第１
遮光マスクのパターンとが重ならない部位、つまり腐食
代となる第２の感光部位（斜線部）２１２は１０％程度
しか感光されず露光不足状態である。
２１から各遮光マスクを一旦取り除いた後、第２の遮光
マスク３２だけを再びホトレジスト膜の一次露光部位と
同じ位置に載置し、残りの１０％程度の露光を行う工程
を示す。この二次露光によって、ホトレジスト膜２１は
適正量感光されたわけであるが、実際は同図中）に示す
ように前記第１遮光マスク３１の透光パターンに対応し
た第１の感光部位２１１（クロス斜線部）だけが１００
％感光され、第２遮光マスク３２の透光パターンと第１
遮光マスクのパターンとが重ならない部位、つまり腐食
代となる第２の感光部位（斜線部）２１２は１０％程度
しか感光されず露光不足状態である。
なお、−次露光と二次露光における露光時間比率は、彫
出される活字をその字形体凸部の側面にオーバエツチン
グを発生することなく高品質化する上で重要であり、被
膨出活字の形状に応じ適当に選定する。
出される活字をその字形体凸部の側面にオーバエツチン
グを発生することなく高品質化する上で重要であり、被
膨出活字の形状に応じ適当に選定する。
第６図の断面図と第８図の平面図は、露光後現像、ボリ
ベーク工程を経てベルト素材１１′上に形成された、感
光状態の異なる二種のパターン２１１と２１２を持つホ
トレジスト膜２１を示す。
ベーク工程を経てベルト素材１１′上に形成された、感
光状態の異なる二種のパターン２１１と２１２を持つホ
トレジスト膜２１を示す。
第７図の（ａ）〜（Ｃ１は、上記したようなホトレジス
ト膜２１が被覆されたベルト素材１１’に対し、所定時
間エツチングを行った際の時間経過に従ったエツチング
度合を示すものである。これらから明らかなように腐食
代として作用する露光不足のレジスト部分２１２は、ベ
ルト素材１１′との密着性が悪いために食刻の進行につ
れて端部が剥離し易く、オーバエツチング量が多い。し
かし、活字形体に略一致したパターンの露光適正なレジ
スト部分２１１は、ベルト素材１１′に対し密着性が良
いので剥離がほとんど起こらず、オーバエツチングも発
生しない。このようなエツチングによって、ベルト素材
１１′の表面には、第７図（Ｃ）に示す如きテーパ状の
裾を有した活字体凸部１１１が彫出される。
ト膜２１が被覆されたベルト素材１１’に対し、所定時
間エツチングを行った際の時間経過に従ったエツチング
度合を示すものである。これらから明らかなように腐食
代として作用する露光不足のレジスト部分２１２は、ベ
ルト素材１１′との密着性が悪いために食刻の進行につ
れて端部が剥離し易く、オーバエツチング量が多い。し
かし、活字形体に略一致したパターンの露光適正なレジ
スト部分２１１は、ベルト素材１１′に対し密着性が良
いので剥離がほとんど起こらず、オーバエツチングも発
生しない。このようなエツチングによって、ベルト素材
１１′の表面には、第７図（Ｃ）に示す如きテーパ状の
裾を有した活字体凸部１１１が彫出される。
この後、ホトレジスト膜２１を溶剤で除去する工程を加
えて活字製造作業を完了すると、第１図に示すような表
面にｒＴＪなる活字１１１を存する印字ベルト１１が完
成する。
えて活字製造作業を完了すると、第１図に示すような表
面にｒＴＪなる活字１１１を存する印字ベルト１１が完
成する。
なお、この発明は以上述べた印字ベルトの他、印字ドラ
ム、タイプライタなどの活字形成にも適用できる。
ム、タイプライタなどの活字形成にも適用できる。
以上の説明から明らかなように、この発明によれば、印
刷用活字を金属材料に１段階のホトエツチングにて彫出
することができ、製作面およびコスト面できわめて有益
である。
刷用活字を金属材料に１段階のホトエツチングにて彫出
することができ、製作面およびコスト面できわめて有益
である。
第１図の（ａ）および（ｂｌは、この発明を適用して彫
出した印字ベルトの活字ｒＴＪを示す平面図と断面図、 第２図は前記活字ｒＴＪの製造に用いる二種の遮光マス
クを示す平面図、 第３図〜第７図は前記活字「Ｔ」の製造を工程１頓に示
す断面図、 第８図は前記遮光マスクに基づき形成されたホトレジス
ト膜の平面図、 第９図および第１０図は従来の活字製造法を説明するた
めのホトレジストパターンの平面図と、エツチング工程
を順に示す第９図のＡ−Ａｉに沿って切断した断面図で
ある 第１図〜第８図において、 １１は印字ベルト、 １１′はベルト素材、 ２１はホトレジスト膜、 ３１は第１の遮光マスク、 ３２は第２の遮光マスク、 １１１は活字体、 ２１１は適正露光のレジストパターン、２１２は露光不
足のレジストパターン、３１１．３２１はフィルム層３
１１． ３１２．３２２は感光層である。 ｔａ＋ （ｂ＞ＩＫ １ 図 １４２ 圀 ＠ ３ 図 ０ 、ロ −
の＋ ＋
Ｕｓ ｇ ａ
昧トトト ＩｉＩｗ＆ 禮 、」
出した印字ベルトの活字ｒＴＪを示す平面図と断面図、 第２図は前記活字ｒＴＪの製造に用いる二種の遮光マス
クを示す平面図、 第３図〜第７図は前記活字「Ｔ」の製造を工程１頓に示
す断面図、 第８図は前記遮光マスクに基づき形成されたホトレジス
ト膜の平面図、 第９図および第１０図は従来の活字製造法を説明するた
めのホトレジストパターンの平面図と、エツチング工程
を順に示す第９図のＡ−Ａｉに沿って切断した断面図で
ある 第１図〜第８図において、 １１は印字ベルト、 １１′はベルト素材、 ２１はホトレジスト膜、 ３１は第１の遮光マスク、 ３２は第２の遮光マスク、 １１１は活字体、 ２１１は適正露光のレジストパターン、２１２は露光不
足のレジストパターン、３１１．３２１はフィルム層３
１１． ３１２．３２２は感光層である。 ｔａ＋ （ｂ＞ＩＫ １ 図 １４２ 圀 ＠ ３ 図 ０ 、ロ −
の＋ ＋
Ｕｓ ｇ ａ
昧トトト ＩｉＩｗ＆ 禮 、」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 金属材料にホトエッチングにより活字を彫出する方法に
おいて、 前記金属材料（１１′）の活字形成面にホトレジスト膜
（２１）を設け、 該ホトレジスト膜（２１）に、被彫出活字体の形状に略
一致するパターンの露光適正な第１の感光部（２１１）
と、このパターンの外周をその輪郭線に略相似したパタ
ーンをもってとり巻いた腐食代として作用する露光不足
の第２の感光部（２１２）を形成し、 感光状態の異なる二種の感光部（２１１、２１２）を持
つ前記ホトレジスト膜（２１）をマスクにして前記金属
材料（１１′）をエッチングすることにより、該金属材
料（１１′）にテーパ状の裾を有した活字体（１１１）
を形成することを特徴とする印刷用活字の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5017385A JPS61209162A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | 印刷用活字の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5017385A JPS61209162A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | 印刷用活字の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61209162A true JPS61209162A (ja) | 1986-09-17 |
Family
ID=12851808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5017385A Pending JPS61209162A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | 印刷用活字の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61209162A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5152616A (en) * | 1990-02-15 | 1992-10-06 | Seiko Epson Corporation | Miniature printer |
-
1985
- 1985-03-12 JP JP5017385A patent/JPS61209162A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5152616A (en) * | 1990-02-15 | 1992-10-06 | Seiko Epson Corporation | Miniature printer |
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