JPS61209295A - Conntinuous conversion of hydrocarbon - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は炭化水素の連続変換法に関し、さらに詳しくは
、480乃至600℃の温度範囲におけるならびに触媒
の存在下における炭化水素のハイトロリフォーミング法
すなわち芳香族炭化水素の製造法であって、炭化水素と
水素とより成る当初の装入物を、直列状に連なりかつ各
々が流動床型である少なくとも2つの反応帯を通して流
通せしめ、装入物が各反応帯を順次流通し、しかして触
媒も同じく流動床の形態でその各々の中を上部から下部
へ連続して流れて順次各反応帯を流通し、装入物の通過
した最後の反応帯の下部から連続して取出された触媒が
再生帯の中へ送られる方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a process for the continuous conversion of hydrocarbons, more particularly to a process for the hydro-reforming of hydrocarbons in the temperature range from 480 to 600°C and in the presence of catalysts, i.e. aromatic A process for the production of hydrocarbons, comprising: passing an initial charge of hydrocarbons and hydrogen through at least two reaction zones in series, each of the fluidized bed type; The catalyst flows through each of the reaction zones in succession, also in the form of a fluidized bed, through each of them in succession from top to bottom, until the last reaction zone through which the charge has passed passes. It concerns a method in which the catalyst continuously removed from the lower part is sent into a regeneration zone.
従来技術およびその問題点
従来の技術においては、再生触媒は、第1反応帯に達す
る前に、触媒中に存在するある種の酸化物、特に金属酸
化物を還元する目的で、還元処理、換言すれば水素によ
る処理を受ける。PRIOR ART AND ITS PROBLEMS In the prior art, the regenerated catalyst is subjected to a reduction treatment, i.e., in order to reduce certain oxides, especially metal oxides, present in the catalyst before reaching the first reaction zone. If so, it will be treated with hydrogen.
従来の技術においては、触媒床の反応帯において操作を
行なう時は、前記の還元は反4応装置の頭部、反応装置
の内側、あるいは反応装置の頭部の近くで行なわれる。In the prior art, when operating in the reaction zone of the catalyst bed, the reduction is carried out at the head of the reactor, inside the reactor, or near the head of the reactor.
還元帯の反応の加熱は反応装置自身の加熱手段、特に処
理すべき高温の装入物との間接接触によって確保する。Heating of the reaction in the reduction zone is ensured by heating means of the reactor itself, in particular by indirect contact with the hot charge to be treated.
還元が完了すると、触媒は、本来の反応帯に到達する。Once the reduction is complete, the catalyst reaches the proper reaction zone.
同じ〈従来の技術においては、再生され、還元された触
媒は、一般に本来の反応帯に到達する前に硫化処理を受
け、その進行中に、触媒のすべての金属は相当程度に硫
化される。硫化反応は反応装置のam、還元の行なわれ
るものと同じ帯域においてか、還元帯のすぐ下にある帯
域かで行なわれる。硫化帯においては、従来の技術では
、還元の行なわれる温度の要求する温度、即ち、480
乃至600℃の間で操作が行なわれる。In the same prior art, the regenerated and reduced catalyst is generally subjected to a sulphidation treatment before reaching the original reaction zone, during which all the metals of the catalyst are sulphurized to a significant extent. The sulfurization reaction takes place in the am of the reactor, either in the same zone where the reduction takes place or in a zone just below the reduction zone. In the sulfide zone, in the conventional technology, the temperature required for the reduction, i.e. 480
The operation is carried out at temperatures between 600°C and 600°C.
用いられる硫化剤は、あるいは純硫化水素または炭化水
素ガスで希釈した硫化水素であり、あるいはまた水素で
希釈したジメチルジスルフィドもしくは硫化アルキルま
たはアルキル・メルカプタンの如きその他の硫黄化合物
で、水素で希釈したものである。用いられる圧力は、リ
フオーミング反応装置あるいは芳香族炭化水素生成反応
装置の中の圧力ということになり、硫化反応の持続時間
は選択した操作条件に応じ数分間から数日間までの変動
がある。The sulfiding agent used is alternatively pure hydrogen sulfide or hydrogen sulfide diluted with hydrocarbon gas, or alternatively dimethyl disulfide diluted with hydrogen or other sulfur compounds such as alkyl sulfides or alkyl mercaptans diluted with hydrogen. It is. The pressure used will be that within the reforming reactor or aromatic hydrocarbon production reactor, and the duration of the sulfurization reaction will vary from a few minutes to several days depending on the operating conditions selected.
従来例1
第3図は本発明に属するものではなく、従来の技術にお
ける1つの方法を例示するものである。Conventional Example 1 FIG. 3 does not belong to the present invention, but illustrates one method in the prior art.
第3図においては3基の反応装置を用いる。In FIG. 3, three reactors are used.
装入物は導管(1)、炉(2)、流路(3)を通って第
1反応装置(29)に導かれる。第1反応装置(29)
からの流出液は導管(30)によって取出され、炉(3
7)及び導管(38)を通って第2反応装置(42)へ
送られる。第2反応装置(42)からの流出液は導管(
43)によって取出され、路(50)及び導管(51)
を通って第3反応装置 (55)へ送られる。第3反応
装置(55)からの流出液は導管(56)によって取出
される。未使用の触媒は、ユニットの始動に際して、例
えば導管(4)によって第1反応装置(29)に導入さ
れる。再生触媒は導管あるいはリフト(19)ならびに
複数の導管(27)(28)によって第1反応装置(2
9)に入り込む。触媒は導管(27028)をついで接
触帯(22)内を進む。この進行は流動床の形態をとっ
てなされる。The charge is led to the first reactor (29) through the conduit (1), the furnace (2) and the channel (3). First reactor (29)
The effluent from the furnace (30) is removed by a conduit (30).
7) and through conduit (38) to the second reactor (42). The effluent from the second reactor (42) is transferred to the conduit (
43), the tract (50) and the conduit (51)
through which it is sent to the third reactor (55). The effluent from the third reactor (55) is removed by a conduit (56). Unused catalyst is introduced into the first reactor (29), for example via conduit (4), upon start-up of the unit. The regenerated catalyst is transferred to the first reactor (2) by a conduit or lift (19) and a plurality of conduits (27) (28).
9) Get into it. The catalyst follows conduit (27028) into contact zone (22). This process takes place in the form of a fluidized bed.
触媒は複数の導管(31)(32)ならびに触媒をリフ
ト・ボット(34)へ到達させる導管(33)によって
第1反応装置(29)から取出される。この取出しは、
−切の適当なゲート弁方式によって周期的になされるか
、またはさらに良い方法としては、ゲート弁方式を用い
ず連続してなされる。The catalyst is removed from the first reactor (29) by a plurality of conduits (31, 32) as well as a conduit (33) which brings the catalyst to the lift bot (34). This extraction is
This can be done periodically by means of a suitable gate valve system, or even better, continuously without a gate valve system.
そしてその際触媒の流量の調節は、リフト・ポット(3
4)の高さにおいて、図に示していない導管によって注
入される純水素あるいはユニット内で生成する水素の力
による古典的な手段で確保される。At that time, the catalyst flow rate is adjusted using the lift pot (3
4) is secured by classical means by pure hydrogen injected by conduits not shown or by the force of hydrogen generated within the unit.
反応流出液の一部が触媒粒子とともに運び去られるのを
阻止するために、ユニットのガス流量を適lにして送る
。次いで触媒は、本明細書にお0ては「リフト」なる語
を以て指す一切の既知の揚卸装置によって、リフト・ポ
ット(34)から第2反応装置(42)に運ばれる。リ
フト(36)の流体は、導管(35)から導入される再
循環水素すなわちユニットの生成した水素であればよい
。The gas flow rate of the unit is adjusted to prevent part of the reaction effluent from being carried away with the catalyst particles. The catalyst is then conveyed from the lift pot (34) to the second reactor (42) by any known lifting and unloading device, herein referred to by the word "lift". The fluid in the lift (36) may be recycled hydrogen, ie hydrogen produced by the unit, introduced through the conduit (35).
このようにしてリフト(36]内に運ばれた触媒は、受
器(39)に到達し、そこから複数の導管(40)(4
1)によって第2反応装置(42)に到達する。The catalyst thus transported into the lift (36) reaches the receiver (39) and from there a plurality of conduits (40) (4
1) to reach the second reactor (42).
ここで受器(39)ならびに導管(40)(41)は、
場合によって第2反応装置(42)の一部を構成するこ
ともある。換言すれば第2反応装置(42)内に設けら
れることもある。Here, the receiver (39) and the conduits (40) (41) are
Depending on the case, it may constitute a part of the second reaction device (42). In other words, it may be provided within the second reaction device (42).
触媒は、流動床の形態で第2反応装置(42)を通り、
第1反応装置 (29)についてと同様に複数の導管(
44)(45)によって第2反応装置(42)から取出
され、導管(46)によってリフト・ボ、ット(47)
に到達する。例えば、導管(48)を通って来る再循環
水素即ちユニットの水素の供給を受けるリフト(49)
によって、触媒は受@ (52)に達し、そこから複数
の導管(53)(54)によって流動床の第1反応装置
I(55)に達する。触媒は、第1及び第2反応装置(
29) (42)についてと同様に、複数の導管(57
)(58)によって第3反応装置(55)から取出され
る。The catalyst passes through a second reactor (42) in the form of a fluidized bed;
As for the first reactor (29), a plurality of conduits (
44) (45) from the second reactor (42) and by conduit (46) to the lift port (47).
reach. For example, a lift (49) receiving a supply of recycled hydrogen, i.e. hydrogen of the unit, coming through a conduit (48).
The catalyst then reaches the receiver (52) and from there via a plurality of conduits (53, 54) to the first reactor I (55) of the fluidized bed. The catalyst is supplied to the first and second reactors (
29) Similar to (42), multiple conduits (57
) (58) from the third reactor (55).
この使用済触媒は導管(59)によってリフト・ポット
(60)に到達する。次いで、この使用済触媒は例えば
導管(61)によってリフト・ポット(60)に送り込
まれる再循環水素の供給を受けるリフト(6)を用いて
、[アキュミュレーター・デカンタ−」フラスコ(γ)
に送られる。使用済触媒は、ゲート弁システム(8)及
び導管(5H9)を通って再生帯(10)に到達する。This spent catalyst reaches the lift pot (60) by conduit (59). This spent catalyst is then transferred to an "accumulator decanter" flask (γ), for example by means of a lift (6) fed with recycled hydrogen which is fed by a conduit (61) into a lift pot (60).
sent to. The spent catalyst reaches the regeneration zone (10) through a gate valve system (8) and a conduit (5H9).
触媒の再生が完了し、再生触媒のパージを行なって分子
状酸素を除去した後(再生及びパージに必要な種々の供
給用導管は常套的なものであるので、図には示していな
い)、この再生触媒は流路(11)(13)ならびにゲ
ート弁システム(12)を通して受はフラスコ(15)
に送られる。その中では、場合によっては、受はフラス
コ(15)内においてリフト・ポット(17)に対し軽
度の高圧を維持する目的で、導管(14)を通して送り
込まれる純水素気流によって前記再生触媒を一部する。After catalyst regeneration is complete and the regenerated catalyst is purged to remove molecular oxygen (the various feed conduits required for regeneration and purging are conventional and are not shown): This regenerated catalyst is passed through the channels (11, 13) and the gate valve system (12) to the flask (15).
sent to. Therein, in some cases, the regenerated catalyst is partially regenerated by a stream of pure hydrogen fed through the conduit (14) for the purpose of maintaining a mildly high pressure in the flask (15) relative to the lift pot (17). do.
従って、導!! (1B)によってフラスコ(15)か
ら取出した触媒は、リフト・ポット(17)に達し、そ
こから導管(18)により送り込まれる純水素により、
第1反応装置(29)の上部におかれている還元帯(2
0)に向うリフト(19)に運ばれる。Therefore, guide! ! The catalyst removed from the flask (15) by (1B) reaches the lift pot (17) from where it is pumped with pure hydrogen via conduit (18).
The reduction zone (2
0) is carried to the lift (19).
還元帯(20)は、リフト(19)の純水素が還元を引
受けるのに十分でない場合には、必要に応じて、導管(
21)より送り込まれる水素の供給を受ける。触媒は、
還元帯(20)の中を流動床の形態で流れる。次いで、
触媒は複数の導管(27028)によって還元帯(20
)から取出されるが、これらの導管の中でもまた、触媒
の流動床の形態で流れる。The reduction zone (20) is optionally connected to a conduit (
21) Receive the supply of hydrogen sent from. The catalyst is
It flows in the form of a fluidized bed through the reduction zone (20). Then,
The catalyst is connected to the reduction zone (20
), but also in these conduits flows in the form of a fluidized bed of catalyst.
硫黄化合物を含むガスまたは場合によっては、硫黄化合
物のキャリヤー・ガスとして用いられる純水素□によっ
て触媒の硫化のなされるのは、導管即ち脚(27) (
28)の中においてである。この含硫ガスは導管(24
)(25)及び(26)によって導管(27)(28)
内に導かれる。導管即ち脚(27)(28)の中ではガ
スの乱流が甚だ強く、かくして順調な硫化反応を確保で
きる。The sulfurization of the catalyst with a gas containing sulfur compounds or optionally with pure hydrogen □ used as carrier gas for the sulfur compounds is carried out in the conduit or leg (27) (
28). This sulfur-containing gas is passed through the conduit (24
) (25) and (26) by conduit (27) (28)
Guided within. The gas turbulence in the conduits or legs (27, 28) is very strong, thus ensuring a smooth sulfurization reaction.
一般に導管(27)(28)は、触媒、含硫ガスならび
に導管(18)(19)(21)の水素の過剰分で満た
されているので、過剰の純水素を放出導管(23)によ
って除去する必要がある。その後、還元され硫化された
再生触媒は導管(27)(28)を通って本来の接触帯
(22)に入り込む。Generally, conduits (27) (28) are filled with catalyst, sulfur-containing gas and an excess of hydrogen in conduits (18), (19), and (21), so that excess pure hydrogen is removed by discharge conduit (23). There is a need to. The reduced and sulphurized regenerated catalyst then enters the actual contact zone (22) through conduits (27) and (28).
従来rI41の問題点
第3図においては、還元及び硫化が第1反応装置(29
)の頭部即ちこの反応装置(29)の内側の上部におい
て行なわれるので、還元及び硫化の温度は反応装置自身
の温度即ちリフオーミング温度(480℃またはこれ以
上)あるいは芳香族炭化水素生成の温度(好ましくは5
20℃またはこれ以上)の制約を受ける。しかして、反
応装置は極めて大きい熱的慣性を示すものであるので、
第1反応装置(29)の上部の温度を急速に変動せしめ
る方法はいずれにせよ存在しない。Problems with Conventional rI41 In Figure 3, reduction and sulfidation occur in the first reactor (29
), i.e., in the upper part of the inside of this reactor (29), the reduction and sulfurization temperature is either the temperature of the reactor itself, i.e., the reforming temperature (480°C or higher) or the temperature of aromatic hydrocarbon production ( Preferably 5
20°C or higher). However, since the reactor exhibits extremely large thermal inertia,
There is in any case no way to rapidly vary the temperature in the upper part of the first reactor (29).
従って、この事実から還元温度及び硫化温度が実際上リ
フオーミング反応あるいは芳香族炭化水素生成反応の行
なわれる温度に等しいのであるから、還元温度及び硫化
温度を正確に調節することは不可能である。従って、第
3図によって実施される方法では、硫化反応が例えば3
00乃至390℃の範囲の適度の温度で行なうのが望ま
しいことが認められているだけに、この方法は改良の余
地がある。Therefore, from this fact, it is impossible to accurately control the reduction temperature and the sulfidation temperature, since the reduction temperature and the sulfidation temperature are practically equal to the temperature at which the reforming reaction or the aromatic hydrocarbon production reaction takes place. Therefore, in the method carried out according to FIG.
There is room for improvement in this process, as it has been recognized that it is desirable to operate at moderate temperatures in the range of 0.000 to 390.degree.
従来例2
最近、特開昭53−90303号において、本発明によ
るものではないが、第4図の配置が提案された。これに
よれば、還元及び硫化の2種の反応は、一方において各
々別個に行なわれ、他方においては反応装置の外部で行
なわれる。Conventional Example 2 Recently, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-90303, the arrangement shown in FIG. 4 was proposed, although it is not based on the present invention. According to this, the two reactions, reduction and sulfidation, are carried out separately on the one hand, and outside the reactor on the other hand.
第4図においては、同じく3基の反応装置を用いる。装
入物に導管(1)、炉(2)、流路(3)(4)を通っ
て第1反応装置 (29)に導かれる。第1反応装置(
29)からの流出液は導管(30)によって取出され、
炉(37)及び導管(38)を通って第2反応装置(4
2)へ送られる。第1反応装置!(42)からの流出液
は導管(43)によって取出され、炉(50)及び導管
(51)を通って第3反応装置(55)へ送られる。最
11流出物はM3反応装置(55)から導管(56)に
よって取出される。In FIG. 4, three reactors are also used. The charge is led to the first reactor (29) through the conduit (1), the furnace (2), and the channels (3) and (4). First reaction device (
Effluent from 29) is removed by conduit (30);
The second reactor (4) passes through the furnace (37) and the conduit (38).
2). First reactor! The effluent from (42) is removed by conduit (43) and sent through the furnace (50) and conduit (51) to the third reactor (55). The most effluent is removed from the M3 reactor (55) by conduit (56).
未使用の触媒は、ユニットの始動に際して、第4図に示
されていない導管によって第1反応装置(29)に導入
される。再生触媒は導管あるいはリフト(19)ならび
に複数の導管(27028)によって第1反応装置(2
9)に入り込む。触媒は流動床の形態で一方では導管(
27)(2B)内をまた他方では第1反応装置(29)
内を進む。Unused catalyst is introduced into the first reactor (29) by a conduit not shown in FIG. 4 upon start-up of the unit. The regenerated catalyst is transferred to the first reactor (2) by a conduit or lift (19) as well as a plurality of conduits (27028).
9) Get into it. The catalyst is in the form of a fluidized bed on the one hand in a conduit (
27) (2B) and on the other hand the first reactor (29)
Go inside.
触媒は、第3図について説明したように、第4図の3基
の反応装置(29) (42)(55)を通って進む。The catalyst passes through the three reactors (29) (42) (55) of FIG. 4 as described with respect to FIG.
触媒は導管(31)(32)、導管(33)、リフト・
ポット(34)及びリフト(36)を順次通って流通す
る。リフト(36)の流体は導管(35)を通って入れ
られる。かくして、触媒は複数の導管(40)(41)
を通って第2反応装置(42)に達し、これを通過し、
導管(44)(45)によってこの第2反応装置(42
)から取出され、導管(46)を通ってリフト・ポット
(47)に到達する。搬送流体が導管(48)を通して
入れられるリフト(49)によって、触媒は受器(52
)に達し、導管(53H54)、第3反応装置(55)
ならびに導管(57)(58)、次いで導管(59)の
中を進む。こうして、導管(59)によって第1反応装
置I(55)から取出された使用済触媒は、リフトポッ
ト(60)に到達し、そこから導管(61)を通って導
入した再循環水素の供給を受けるリフト(6)によって
、[アキュミュレーター・デカンタ−]フラスコ(7)
へ送られる。The catalyst is connected to the conduits (31) (32), conduit (33), lift and
It passes sequentially through the pot (34) and the lift (36). The fluid of the lift (36) is admitted through the conduit (35). Thus, the catalyst is connected to a plurality of conduits (40) (41)
through to and through a second reactor (42);
This second reactor (42) is connected by conduits (44) (45).
) and passes through the conduit (46) to the lift pot (47). The catalyst is transferred to the receiver (52) by means of a lift (49) in which the carrier fluid is admitted through the conduit (48).
), the conduit (53H54), the third reactor (55)
as well as through conduits (57), (58) and then conduit (59). The spent catalyst removed from the first reactor I (55) by conduit (59) thus reaches the lift pot (60), from where it is fed with recycled hydrogen introduced through conduit (61). [Accumulator Decanter] flask (7) by receiving lift (6)
sent to.
また使用済触媒は、ゲート弁システム(8)及び導管(
9)を通って再生帯(10)に達する。触媒を再生し、
再生触媒のパージを行なって分子状酸素を除去した後、
この再生触媒は、第3図における場合と全く同様に、還
元帯(20)に送られる。再生及びパージに必要な各種
の供給管は常套的なものであり示していない。The spent catalyst is also removed from the gate valve system (8) and the conduit (
9) and reaches the regeneration zone (10). regenerate the catalyst,
After purging the regenerated catalyst to remove molecular oxygen,
This regenerated catalyst is sent to the reduction zone (20) just as in FIG. The various supply lines required for regeneration and purging are conventional and not shown.
再生触媒は流路(11)(13)、ゲート弁システム(
12)及び受はフラスコ(15)を通って流通するが、
受はフラスコ(15)は、場合によっては導管(14)
を通って導入される純水素流によって掃気される。触媒
は、導管(16)によって受はフラスコ(15)から取
出され、リフト・ポット(17)に達し、そこから、導
管(18)によって導入される純水素によってリフト(
19)へ運ばれる。かくして触媒は還元帯(2G)に到
達する。The regenerated catalyst is connected to the flow path (11) (13), gate valve system (
12) and the receiver flow through the flask (15),
The receiver is a flask (15), and in some cases a conduit (14)
It is scavenged by a stream of pure hydrogen introduced through it. The catalyst is removed from the receiver flask (15) by conduit (16) and reaches the lift pot (17), from where it is lifted by pure hydrogen introduced by conduit (18).
19). The catalyst thus reaches the reduction zone (2G).
第3図との違いは、第4図においては、還元帯(20)
が第1反応装置(29)の内側上部ではなく、第1反応
装置(29)より上方に配置されていることである。還
元帯(20)は、場合によっては、リフト(19)の純
水素がこの還元に当たるのに十分ではないことが確認さ
れれば、導管(21)によって導入される純水素の供給
を受ける。還元帯(20)は、例えば、導管(5)(2
2)を介して装入物の一部との間接接触によって加熱さ
れる。還元帯(20)の加熱に役立つ装入物の分流部分
は、次いで、一般に2基の反応装置(42)(55)の
いずれかに向って直接送られる。The difference from Figure 3 is that in Figure 4, the reduction zone (20)
is located above the first reactor (29) rather than at the inner upper part of the first reactor (29). The reduction zone (20) is optionally supplied with pure hydrogen introduced by the conduit (21) if it is confirmed that the pure hydrogen in the lift (19) is not sufficient to carry out this reduction. The reduction zone (20) is, for example, a conduit (5) (2
2) by indirect contact with a portion of the charge. The split portion of the charge serving to heat the reduction zone (20) is then generally routed directly to one of the two reactors (42) (55).
次いで触媒は、複数の導管(27)(28)を通って、
還元帯(20)から取出される。これらの導管即ち[脚
J (27028)の中で、換言すれば第1反応装M
(29)の外部で、場合によっては純水素に搬送されて
いる硫黄化合物によって触媒の硫化がなされる。この含
硫ガスは導管(24)(25N26)を通って導管(2
7)(28)内に導入される。過剰の水素は導管(23
)によって取出される。次いで、触媒は第1反応装置(
29)内に入る。The catalyst then passes through a plurality of conduits (27) (28).
It is taken out from the reduction zone (20). In these conduits or [legs J (27028), in other words the first reactor M
External to (29), the sulfurization of the catalyst takes place with sulfur compounds, optionally carried in pure hydrogen. This sulfur-containing gas passes through the conduit (24) (25N26).
7) Introduced in (28). Excess hydrogen is removed from the conduit (23
) is retrieved by The catalyst is then transferred to the first reactor (
29) Go inside.
従来例2の問題点
第4図の方式によれば、還元を第3図におけるよりもわ
ずかに中庸の温度において行なうことが可能になる。し
かしながら、還元温度はまだ過度に高く、一般に530
℃以上である。何故ならば、一般にリフオーミング反応
及び芳香族炭化水素生成反応は、少なくとも540℃の
温度を必要とするし、第4図の方式は究極的には第3図
の1変法にすぎないからである。Problems with Conventional Example 2 According to the method shown in FIG. 4, reduction can be carried out at a slightly more moderate temperature than in FIG. However, the reduction temperature is still excessively high, generally 530
℃ or higher. This is because reforming reactions and aromatic hydrocarbon production reactions generally require a temperature of at least 540°C, and the method shown in Figure 4 is ultimately just a variation of the method shown in Figure 3. .
還元反応の高温及び反応帯の高温という事実のために、
また脚(27) (28)の伝熱性のために、第4図の
方式は、第3図におけるより遥かに中庸の温度を得るこ
とを可能とはしない。従って事実上は、硫化温度は反応
装置の温度に強いられている第3図におけると同じ程度
に過度である。Due to the fact that the high temperature of the reduction reaction and the high temperature of the reaction zone,
Also, because of the heat conductivity of the legs (27) (28), the scheme of FIG. 4 does not make it possible to obtain much more moderate temperatures than in FIG. In effect, therefore, the sulfiding temperature is as excessive as in FIG. 3, where it is forced to the temperature of the reactor.
従って、第4図の方式は第3図の方式と共通した重大な
支障があるので満足すべきものではない。即ち、
(a)先ず第一に、各反応帯は極めて大きい熱的慣性を
示すので、例えば、第1反応帯の上部(第3図及び第4
図における符号(201)がたとえ第4図において、第
1反応装置(29)の外部に配置してあっても、この部
分(20)の温度を急速に変動させる方法がない。実際
上、第4図においては、還元温度及び硫化温度はリフォ
ーミング反応及び芳香族炭化水素生成反応の行なわれる
温度に等しいので、還元温度も硫化温度も正しく調節す
ることは不可能である。Therefore, the system of FIG. 4 is not satisfactory because it has the same serious problems as the system of FIG. (a) First of all, since each reaction zone exhibits extremely large thermal inertia, e.g.
Even if the reference numeral (201) in the figure is placed outside the first reactor (29) in FIG. 4, there is no way to rapidly change the temperature of this part (20). In fact, in FIG. 4, since the reduction temperature and the sulfidation temperature are equal to the temperatures at which the reforming reaction and the aromatic hydrocarbon production reaction take place, it is impossible to properly adjust either the reduction temperature or the sulfidation temperature.
(b)次に、第1反応装置(29)の上部あるいはこの
反応装置に隣接する部分の熱的慣性という事実から、硫
化温度は事実上常に還元の行なわれる温度即ち480℃
以上であるという結果になる。ところが、この硫化が一
層効果的であるためには、換言すれば、硫黄が触媒の金
属に一層よく定着するためには、硫化温度が400℃以
下であることが望ましい。理想的な硫化温度は390℃
あるいは380℃以下であろう。(b) Secondly, due to the fact of the thermal inertia of the upper part of the first reactor (29) or of the parts adjacent to this reactor, the sulfurization temperature is virtually always the temperature at which the reduction takes place, i.e. 480°C.
The result is as follows. However, in order for this sulfurization to be more effective, in other words, for sulfur to be more firmly fixed on the metal of the catalyst, it is desirable that the sulfurization temperature be 400° C. or lower. The ideal sulfiding temperature is 390℃
Or it will be below 380°C.
(c)さらに、第3図及び第4図の方式においては、安
全条件が未だ十分ではない。事実、触媒の再生に続く触
媒の窒素によるパージによって、再生の進行中に作用し
た酸素ガスのすべてを除去し、かくして還元帯内におけ
る爆発の危険を避けることは可能である。しかし、高圧
もしくは偶発的な漏出の如き不特定の原因によって、爆
発が突発すれば、それは直ちに硫化帯及びリフオーミン
グ反応帯または芳香族炭化水素生成反応帯の中に伝播す
るであろう。何故ならば、還元、硫化及び反応の各帯域
は相互に極めて近接しているからである。(c) Furthermore, safety conditions are still not sufficient in the systems shown in FIGS. 3 and 4. In fact, by purging the catalyst with nitrogen following its regeneration, it is possible to remove all the oxygen gas that has acted on it during the course of the regeneration, thus avoiding the risk of explosion in the reduction zone. However, if an explosion were to occur suddenly due to unspecified causes such as high pressure or accidental leakage, it would immediately propagate into the sulfidation zone and the reforming reaction zone or the aromatic hydrocarbon production reaction zone. This is because the reduction, sulfidation and reaction zones are in close proximity to each other.
本発明による水沫によれば、これらの支障を防ぐことが
可能である。水沫においては、一方において鴫水素処理
帯と硫化帯は相互に区別されており、他方においては双
方とも第1反応装置から明らかに隔たった位置に置かれ
ている。According to the water droplet according to the present invention, it is possible to prevent these problems. In the water droplet, on the one hand, the hydrogen treatment zone and the sulphidation zone are distinct from each other, and on the other hand, both are located at a distinct distance from the first reactor.
問題点の解決手段
本発明は、480乃至600℃の温度範囲におけるなら
びに触媒の存在下における炭化水素のリフオーミンク法
すなわち芳香族炭化水素の製造法であって、炭化水素と
水素とより成る当初の装入物を、直列状に運なりかつ各
々が流動床型である少なくとも2つの反応帯を通して流
通せしめ、装入物が各反応帯を順次流通し、しかして触
媒も同じく流動床の形態でその各々の中を上部から下部
へ連続して流れて順次各反応帯を流通し、装入物の通過
した最後の反応帯の下部から連続して取出された触媒が
再生帯の中へ送られる方法において、
・再生触媒が、反応帯とは区別された水素処理帯の中を
下行し、その中で該触媒が、部分的還元を受ける目的で
、450℃より低い温度において水素処理されること、
・再生され水素処理された触媒が、第1の囲域の中を連
続して下行し、該第1の囲域はその内部に硫黄化合物が
注入されるものであり、再生され水素処理された触媒が
、前記の第1の囲域から、装入物が通過した第1反応帯
より上方に置かれかつ同反応帯とは区別された第2の囲
域の中まで連続して流れ、次いで触媒が前記の第2の囲
域から第1反応帯の中へ連続して流れ、前記の再生され
水素処理された触媒が、第1の囲域から第1反応帯まで
の連続した進行の途中において、前記の第1の囲域の中
へ注入された硫黄化合物の力で、200乃至390℃の
温度範囲において行なわれる硫化を受けることを特徴と
する方法である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a process for reforming hydrocarbons or producing aromatic hydrocarbons in the temperature range of 480 to 600° C. and in the presence of a catalyst, in which the original composition of hydrocarbons and hydrogen is The charge is passed through at least two reaction zones conveyed in series and each of the fluidized bed type, the charge passing through each reaction zone in turn and the catalyst also flowing through each of the reaction zones in the form of a fluidized bed. A method in which the catalyst flows continuously from the top to the bottom through each reaction zone in turn, and the catalyst continuously taken out from the bottom of the last reaction zone through which the charge has passed is sent into the regeneration zone. , - the regenerated catalyst descends into a hydrotreating zone that is separate from the reaction zone, in which it is hydrotreated at a temperature below 450° C. in order to undergo partial reduction; The regenerated and hydrotreated catalyst is continuously passed down through a first enclosure into which a sulfur compound is injected; flows continuously from said first enclosure into a second enclosure located above and distinct from the first reaction zone through which the charge passes, and then passes through the catalyst. flows continuously from the second enclosure into the first reaction zone, and the regenerated and hydrotreated catalyst is continuously flowed from the first enclosure to the first reaction zone. , the method is characterized in that it undergoes sulfidation carried out in the temperature range from 200 to 390° C. with the force of a sulfur compound injected into said first zone.
本発明の対象は、触媒が、再生された後に反応帯より明
確に隔てられた2基の区別された帯域において、水素に
よる処理ついで硫化を受ける如き方法である。かくて水
沫によれば、従来の技術において用いられた温度より甚
だしく低い中程度の理想的な温度を以って水素処理及び
硫化を行なうことができる。従来の技術においては、水
素処理帯及び硫化帯が反応帯のすぐ近くに存在している
が故に、水素処理及び硫化の温度は、実際上反応帯の温
度に制約されていた。The object of the present invention is a process in which the catalyst, after being regenerated, undergoes treatment with hydrogen and sulfidation in two distinct zones clearly separated from the reaction zone. Thus, the water droplet allows hydrogen treatment and sulfurization to be carried out at moderately ideal temperatures, which are significantly lower than those used in the prior art. In the prior art, the hydrotreating and sulfiding zones are located in close proximity to the reaction zone, so that the hydrotreating and sulfiding temperatures are effectively limited to the reaction zone temperatures.
本発明は炭化水素のリフオーミンク法に関するものであ
る。本発明はまた、不飽和または然らざるガソリン(例
えば熱分解ガソリン、特にスチーム・クラッキング・ガ
ソリン、あるいは接触改質ガソリン)から出発するか、
あるいは脱水素により芳香族炭化水素に変換し得るナフ
テン系炭化水素から出発する芳香族炭化水素、例えばベ
ンゼン、トルエン及びオルト、メタあるいはバラのキシ
レンの製造にも関するものである。The present invention relates to a hydrocarbon reforming process. The invention also provides starting from unsaturated or unsaturated gasolines (e.g. pyrolysis gasolines, in particular steam cracking gasolines, or catalytically reformed gasolines);
It also concerns the production of aromatic hydrocarbons, such as benzene, toluene and ortho, meta or xylenes, starting from naphthenic hydrocarbons which can be converted into aromatic hydrocarbons by dehydrogenation.
水沫においては、リフォーミング反応即ち芳香族炭化水
素製造反応を行なうために、少なくとも2基の反応装置
あるいは反応帯、好ましくは3乃至4基の反応装置ある
いは反応帯を用いるが、使用する反応装置は各々触媒の
流動床を包蔵しているものである。In the water droplet, at least two reactors or reaction zones, preferably three to four reactors or reaction zones, are used to carry out the reforming reaction, that is, the reaction for producing aromatic hydrocarbons. Each contains a fluidized bed of catalyst.
装入物は軸方向または半径方向(即ち、中心から周囲に
向うか、あるいは周囲から中心に向う)の流れに従って
、各々の反応装置あるいは反応帯の中を順次流通する。The charge flows sequentially through each reactor or reaction zone according to an axial or radial (ie, from the center to the periphery or from the periphery to the center) flow.
反応帯は、装入物が各帯域の間で中間的に加熱されて、
これらの反応帯の各々を順次通過して流れるように、連
続して、例えば、横に並べて、あるいは縦に重ねて、配
置しである。The reaction zones are heated intermediately between each zone;
They are arranged in series, eg, side by side, or vertically stacked, so as to flow through each of these reaction zones in turn.
新しい触媒は、新しい装入物を入れる第1反応帯の上部
に入れる。次いで、触媒はこの帯域の上部から下部へ向
って連続して流れて行き、その下部より連続して取出さ
れ、あらゆる適当な方法(特にリフト)によって次の反
応帯の上部へ運ばれ、その中を同様に上部から下部に向
って流れて行き、以下同様に最後の反応帯まで行って、
その下部において連続して取出され、次いで再生帯へ送
られる。The new catalyst is placed at the top of the first reaction zone which receives the new charge. The catalyst then flows continuously from the top to the bottom of this zone, from which it is continuously removed and conveyed by any suitable method (particularly lift) to the top of the next reaction zone, where it is Flows in the same way from the top to the bottom, and so on until the last reaction zone,
In its lower part it is continuously removed and then sent to the regeneration zone.
反応帯は機に並べて配置するのが望ましい。It is desirable to arrange the reaction zones side by side.
1つの反応帯の下部から他の反応帯の上部への触媒の流
通、また最後の反応帯の下部から再生帯への触媒の流通
、また場合によっては、再生帯の下部から第1反応帯の
上部への流通は、本明細書において「リフト」なる語を
以て示す一切の既知の揚卸装置を用いて行なう。触媒を
送り出すのに用いるリフトの流体は如何なる気体でも適
当なもの、例えば窒素、純水素あるいは精製水素、また
例えば装置内において生成される水素の如きものであれ
ばよい。Flow of catalyst from the bottom of one reaction zone to the top of another reaction zone, and from the bottom of the last reaction zone to the regeneration zone, and in some cases, from the bottom of the regeneration zone to the top of the first reaction zone. The flow to the top takes place using any known lifting device, designated herein with the word "lift". The lift fluid used to deliver the catalyst may be any suitable gas, such as nitrogen, pure or purified hydrogen, or hydrogen produced within the system.
反応帯から反応帯へ、また再生帯へ移動する固体は、例
えば、粒状の触媒であってもよい。The solids transferred from reaction zone to reaction zone and to regeneration zone may be, for example, particulate catalyst.
この触媒は、例えば、一般には1乃至3−一の間に含ま
れる直径好ましくは1.5乃至2−の問の直径を有する
球形になっていることもある。The catalyst may, for example, be spherical with a diameter generally comprised between 1 and 3-1, preferably between 1.5 and 2-1.
但し、これらの数値は限定するものではないゝ。However, these numbers are not limiting.
一般に触媒の比重量は、0.4乃至1の間、ましくは0
.5乃至0.9、詳細には0.55乃至0.8の間にあ
る。但し、これらの数値は限定的なものではない。Generally the specific weight of the catalyst is between 0.4 and 1, or 0.
.. It is between 5 and 0.9, specifically between 0.55 and 0.8. However, these numerical values are not limited.
本発明による方法が好んで適用される反応は、本明細書
の冒頭に掲げたものであるが、明らかに以下の2つのグ
ループに区分することができる。即ち、
(1) その1つは、リフォーミング反応である。The reactions to which the method according to the invention is preferably applied are those listed at the beginning of this specification, and can clearly be divided into the following two groups: (1) One of them is a reforming reaction.
接触リフオーミング反応の一般的条件は次の通りである
。即ち、各反応帯域における平均温度は約480乃至6
00℃、あるいは530乃至600℃の範囲にあり、圧
力は約5乃至20Kg/allの範囲にあり、時速は触
媒1容に対して液体ナフサ0゜5乃至10容の範囲にあ
り、再循環率は装入物1モルに対し水素1乃至10モル
の範囲にある。The general conditions for the catalytic reforming reaction are as follows. That is, the average temperature in each reaction zone is approximately 480 to 6
00°C, or in the range of 530 to 600°C, the pressure is in the range of about 5 to 20 kg/all, the speed is in the range of 0°5 to 10 volumes of liquid naphtha per 1 volume of catalyst, and the recirculation rate is ranges from 1 to 10 moles of hydrogen per mole of charge.
リフオーミング反応の具体例として以下のものを挙げる
ことができる。Specific examples of rehoming reactions include the following.
装入物:約60乃至220℃の範囲で濡出するナフサ、
特に1溜ナフサ。Charge: naphtha that leaches in the range of about 60 to 220°C,
Particularly single-capture naphtha.
触媒:触媒はアルミナあるいはこれ均等な化合物の担体
に保持された少なくとも1種の白金族の金属、還元すれ
ば白金、パラジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミ
ウムの如き貴金属のうちの1種を含んでいる(例:白金
−アルミナ−ハロゲン、または白金−イリジウム−アル
ミナ−ハロゲン)、貴金属の含量は触媒に対し、重量に
して0.1乃至2%、ハロゲン望ましくは塩素あるいは
弗素の含量は0.1乃至10%である。アルミナ−ハロ
ゲンの組合せをその他の担体、例えばシリカ−アルミナ
を以て代えることができる。触媒には、元素周期表上の
8族にわたって選んだ少なくとも1種の金属助触媒を含
むこともある。Catalyst: The catalyst comprises at least one metal of the platinum group, reduced to one of the noble metals such as platinum, palladium, iridium, ruthenium, osmium, supported on a support of alumina or equivalent compounds. (e.g. platinum-alumina-halogen or platinum-iridium-alumina-halogen), the content of noble metal is 0.1 to 2% by weight based on the catalyst, and the content of halogen, preferably chlorine or fluorine, is 0.1 to 10% by weight. %. The alumina-halogen combination can be replaced with other supports, such as silica-alumina. The catalyst may also include at least one metal promoter selected from Group 8 of the Periodic Table of Elements.
(2) 他の1つは、飽和もしくは不飽和ガソリンか
らの芳香族炭化水素の生成反応である。(2) The other one is the production reaction of aromatic hydrocarbons from saturated or unsaturated gasoline.
装入物が不飽和である場合、還元すればジオレフィン及
びモノオレフィンを含んでいる場合は、先ず選択水素添
加あるいは全水素添加によってそれらを除去しなければ
ならない。If the charge is unsaturated and contains diolefins and monoolefins upon reduction, they must first be removed by selective or total hydrogenation.
次いで、装入物がオレフィン類を含んでいる時は、必要
に応じて、水素添加によりそのオレフィンのすべて及び
モノオレフィンを相当程度に除去した装入物は、各反応
帯域において、酸性担体と少なくとも1種の金属例えば
1種の第■族の貴金属(白金族)及び/または元素周期
表から適宜選んだ少なくとも1種の金属助触媒を含む触
媒と水素との存在下において、約500乃至600℃あ
るいは520乃至620℃の範囲の温度、1乃至60K
f/aIの範囲の圧力下において、液体装入物の1時間
あたり容積流量を触媒の容積の0.1乃至10倍程度、
水素/炭化水素(モル比)を0.5乃至20程度として
、芳香族炭化水素生成反応を受ける。If the charge contains olefins, the charge from which all of its olefins and a significant amount of monoolefins have been removed by hydrogenation, if necessary, is then treated in each reaction zone with at least one acidic carrier. at about 500 to 600°C in the presence of hydrogen and a catalyst containing one kind of metal, for example, one kind of noble metal of group Ⅰ (platinum group) and/or at least one kind of metal co-catalyst appropriately selected from the periodic table of elements. or a temperature in the range of 520 to 620°C, 1 to 60K
Under a pressure in the range of f/aI, the volumetric flow rate of the liquid charge per hour is about 0.1 to 10 times the volume of the catalyst,
The aromatic hydrocarbon production reaction is carried out at a hydrogen/hydrocarbon (molar ratio) of about 0.5 to 20.
本来の触媒の再生については、−切の既知の方法を以て
行なうことができる。好ましくは、触媒を
(a)分子状酸素を含む気体の助けによって燃焼せしめ
る。Regeneration of the original catalyst can be carried out using known methods. Preferably, the catalyst is combusted with the aid of (a) a gas containing molecular oxygen;
(b)分子状酸素を含む気体を用いて、また同時にハロ
ゲンあるいはハロゲン化合物、例えばハロゲン化水素酸
もしくはハロゲン化アルキルを用いて、オキシ塩素化す
る。(b) Oxychlorination using a gas containing molecular oxygen and simultaneously using a halogen or a halogen compound, such as hydrohalic acid or an alkyl halide.
(c)分子状酸素を含む気体によって最終処理を行なう
。(c) Perform final treatment with a gas containing molecular oxygen.
これらの3種の処理は、あるいは単一の固定床帯域にお
いて、あるいは流動床の囲域内において、これらの再生
の3工程が行なわれる区別された帯域に相次いで触媒を
進入せしめて、順次行なわれる。These three treatments may be carried out sequentially, either in a single fixed bed zone or within the confines of a fluidized bed, with the catalyst successively entering distinct zones in which these three steps of regeneration take place. .
再生は、残留酸素ガスの一切の痕跡を触媒より除去する
ために、例えば窒素によるパージを伴う。Regeneration involves purging, for example with nitrogen, to remove any traces of residual oxygen gas from the catalyst.
一般に触媒は、例えば固定床あるいは流動床の形態で、
好ましくは流動床の形態で、囲域(15)を通過するの
に必要なやや長い時間中この水素処理を受ける。水素処
理が380乃至445℃の間で行なわれる場合、硫化は
水素処理の温度以下の温度、詳しくは水素処理温度より
約50℃だけ低い温度にて行なわれるので、この硫化温
度は好適には260乃〒390℃、更に詳しくは280
乃至300℃の間に含まれる。水素処理が150乃至2
00℃の間で行なわれる場合、硫化温度は好適には20
0乃至390℃の間に含まれる。Generally, the catalyst is in the form of a fixed bed or a fluidized bed, e.g.
Preferably in the form of a fluidized bed, it undergoes this hydrogen treatment during the rather long time required to pass through the enclosure (15). When the hydrogen treatment is carried out between 380 and 445°C, the sulfidation is carried out at a temperature below the hydrogen treatment temperature, in particular at a temperature about 50°C lower than the hydrogen treatment temperature, so that the sulfidation temperature is preferably 260°C. No〒390℃, more details 280℃
It is included between 300°C and 300°C. Hydrogen treatment is 150 to 2
When carried out between 00°C, the sulfiding temperature is preferably 20°C.
Included between 0 and 390°C.
450℃以下の温度におけるこの水素処理に適当な触媒
は、具体的には、アルミナ担体と種々の適当な金属元素
(金属あるいは金属化合物)の臨界含量を含んでいる触
媒である。リフォーミング反応用の具体的な触媒は、ア
ルミナ担体に対して重量にして以下を含んでいるもので
ある。Catalysts suitable for this hydrogen treatment at temperatures below 450° C. are in particular catalysts containing an alumina support and a critical content of various suitable metallic elements (metals or metal compounds). Specific catalysts for the reforming reaction include, by weight relative to the alumina support, the following:
(a)白金、イリジウム、ルテニウム及びロジウムの中
から選択した第1の金属O12乃至0゜4%、
(b)かつ第1の金属とは異なりかつイリジウム及びロ
ジウムの中から選択した第2の金属0゜02乃至0.0
7%、
(c)銅、銀、金、チタン、ニオブ、インジウム、タリ
ウム、マンガン、ゲルマニウム、錫、鉛及びレニウムの
中から選択した少なくとも1種の第3の金属0.25乃
至0.55%、(d)ハロゲン1種、例えば塩素あるい
はフッ素をO31乃至10%。(a) a first metal O12 to 0.4% selected from platinum, iridium, ruthenium and rhodium; (b) a second metal different from the first metal and selected from iridium and rhodium; 0°02 to 0.0
(c) 0.25 to 0.55% of at least one third metal selected from copper, silver, gold, titanium, niobium, indium, thallium, manganese, germanium, tin, lead, and rhenium. , (d) One type of halogen, such as chlorine or fluorine, in an amount of O31 to 10%.
芳香族化反応(芳香族炭化水素の生成反応)用の具体的
な触媒は、アルミナ担体に対して、重量にして以下を含
んでいるものである。A specific catalyst for aromatization reaction (aromatic hydrocarbon production reaction) contains the following in terms of weight relative to the alumina support.
(a)白金、イリジウム及びロジウムの中から選択シタ
第1の金jlo、45乃至0.65%と、(b)第1の
金属とは異なりかつイリジウム、ロジウム、ルテニウム
、パラジウム及びオスミウムの中から選択した第2の金
属を0.03乃至0.05%、もしくはレニウムを0.
05乃至0.15%、
(c)銅、銀および金の中から選択した第3の金属1種
を0.02乃至09045%、あるいはマンガンを0.
1乃至012%、もしくはチタン、ニオブ、タリウム、
カドミウム及びインジウムの中から選択した金属1種を
0゜2乃至0.3%、
(d)ハロゲン1種、例えば塩素あるいはフッ素を0.
1乃至10%、しかして、場合によっては、なお第4の
金属元素、即ち、
(e)コバルトを0.1乃至004%、好ましくはO9
2乃至0.3%。(a) a first metal selected from among platinum, iridium and rhodium; (b) different from the first metal and selected from among iridium, rhodium, ruthenium, palladium and osmium; 0.03 to 0.05% of the selected second metal or 0.05% of rhenium.
(c) 0.02 to 0.09045% of a third metal selected from copper, silver and gold; or 0.02 to 0.09045% of manganese;
1 to 0.12%, or titanium, niobium, thallium,
0.2 to 0.3% of one metal selected from cadmium and indium; (d) 0.2 to 0.3% of one halogen, such as chlorine or fluorine;
1 to 10%, but optionally also a fourth metal element, i.e. (e) 0.1 to 0.04%, preferably O9
2 to 0.3%.
発明の作用および効果
本発明による炭化水素の連続変換法は以上のとおり構成
されているので、つぎの効果が奏される。Functions and Effects of the Invention Since the method for continuous conversion of hydrocarbons according to the present invention is configured as described above, the following effects are achieved.
まず、本発明の方法によれば、従来の技術において用い
られた温度より甚だしく低い中程度の理想的な温度を以
って水素処理及び硫化を行なうことができる。First, the method of the present invention allows hydrogen treatment and sulfidation to be carried out at moderately ideal temperatures, which are significantly lower than those used in the prior art.
さらに詳しくいえば、これら水素処理及び硫化の2帯域
においては、熱的慣性はもはや存在せず、水素処理帯の
温度(例えば装入物の一部の分流によって)及び硫化帯
の温度を希望する値に容易に且つ別個に調節することが
できる。More specifically, in these two zones, hydrotreating and sulfiding, thermal inertia no longer exists and the temperature in the hydrotreating zone (e.g. by diversion of a portion of the charge) and the temperature in the sulfiding zone is as desired. The values can be easily and independently adjusted.
特に、水素処理温度を一般に450℃以下の最適温度に
調節することができる。同様に、従来技術においては硫
化帯は2つの高温帯域即ち還元帯と反応装置の間に配置
されていたので、硫化帯の温度を低下させることは不可
能であったのに対し、本発明の方法では、硫化を200
乃至390℃の間の温度において行なうことが特に容易
になった。In particular, the hydrogen treatment temperature can be adjusted to an optimum temperature, generally below 450°C. Similarly, whereas in the prior art the sulfiding zone was located between two high temperature zones, namely the reduction zone and the reactor, it was not possible to reduce the temperature of the sulfiding zone; In the method, sulfurization is
It has become particularly easy to perform at temperatures between 390°C and 390°C.
また水素処理帯及び硫化帯は反応帯から隔たった位置に
設けられているので、仮に水素処理帯で爆発が起きても
、これが反応帯に伝播して大事故につながるのを確実に
防止することができる。Additionally, the hydrogen treatment zone and sulfidation zone are located at a distance from the reaction zone, so even if an explosion were to occur in the hydrogen treatment zone, this would surely prevent it from propagating to the reaction zone and causing a major accident. I can do it.
さらに詳しくは、本発明による水沫においては、触媒の
本来の再生に続いてパージを行なったにも拘らず、仮に
、再生触媒の中に酸素の痕跡が依然として存在していて
、たまたま水素処連帯の中で爆発を惹き起したとしても
、この爆発は、ここでは水素処理帯とは完全に区別され
ている第1反応装置の中へ拡がることがない。More specifically, in the water droplet according to the present invention, even if the original regeneration of the catalyst was followed by a purge, traces of oxygen were still present in the regenerated catalyst and it happened that the hydrogen treatment joint Even if an explosion were to occur inside, this explosion would not spread into the first reactor, which here is completely separate from the hydrogen treatment zone.
水沫では極めて低い温度で水素処理することを特徴とし
ている。事実、再生触媒の還元を450℃以下、好まし
くは380乃至440℃のまの範囲の温度において行な
えば特に有利になることは見出されていた。これより遥
かに低い温度、例えば、好ましくは150乃至290℃
の間の温度においてさえも操作することが可能である。Miizuki is characterized by hydrogen treatment at extremely low temperatures. In fact, it has been found to be particularly advantageous if the reduction of the regenerated catalyst is carried out at a temperature below 450°C, preferably in the range from 380 to 440°C. temperatures much lower than this, e.g. preferably between 150 and 290°C
It is possible to operate even at temperatures between.
温度が充分に高くはないので、厳密に言えばこれはもう
完全な還元反応ではない。むしろ、部分的還元、即ち不
完全ではあるが触媒の有効な作用を得るには充分である
還元を確実に行なう中程度の温度における触媒の水素処
理である。Strictly speaking, this is no longer a complete reduction reaction since the temperature is not high enough. Rather, it is a hydrogen treatment of the catalyst at moderate temperatures that ensures a partial reduction, ie, an incomplete but sufficient reduction to obtain effective action of the catalyst.
このようにして行なった触媒の水素処理は、ある種の触
媒については、その寿命の持続時間及び特に安定性に関
して、480℃に等しいかそれ以上の温度においてこれ
らの触媒を還元するのと同じ程度に効果のあることが認
められた。Hydrotreating the catalysts carried out in this way can, for certain catalysts, be as effective as reducing these catalysts at temperatures equal to or above 480°C, with regard to the duration of their lifetime and especially their stability. was found to be effective.
かくして本発明による450℃以下の温度におけるこの
水素処理は、リフォーミング反応に、あるいは芳香族炭
化水素それも特に極めて純度の高いベンゼンの生成反応
(所謂「芳香族化」反応)に用いられている触媒に特に
効果のあることが明らかになった。This hydrogen treatment according to the invention at temperatures below 450° C. can thus be used for reforming reactions or for the production of aromatic hydrocarbons, especially benzene of very high purity (the so-called "aromatization" reaction). It has been found that it is particularly effective as a catalyst.
実 施 例
実施例1
本発明による方法を実施するためには、各種の配置が可
能である。第1図は本発明を実施するための先ず1つの
方法を例示するものである。EXAMPLES Example 1 Various arrangements are possible for carrying out the method according to the invention. FIG. 1 first illustrates one method for implementing the invention.
第1図には、その主要部分だけを示しである。In FIG. 1, only the main parts are shown.
第1図においては、水素処理帯となる下部帯(26)に
おいて希望の温度を得るのに外部の熱の補給を受けるこ
とは必要ではない。水素処理の後で過剰になった水素は
、放出管(14a)によって取出すことができる。なお
、第1図の他の符号は第3図のものと同じ意味を示す。In FIG. 1, no external heat supplementation is necessary to obtain the desired temperature in the lower zone (26), which is the hydrogen treatment zone. Excess hydrogen after hydrogen treatment can be removed by means of a discharge pipe (14a). Note that other symbols in FIG. 1 have the same meanings as in FIG. 3.
第1図に従って操作を行なえば、硫化を26O乃至39
0℃あるいは200乃至390℃の間の温度において行
なうことが極めて容易になる。If the operation is carried out according to Figure 1, the sulfurization will be from 26O to 39
It is very easy to carry out at temperatures of 0°C or between 200 and 390°C.
例えば水素処理の温度が380乃至445℃の間にある
場合に、上流にある下部帯(26)の中では約380〜
445℃であった温度を少なくとも50℃低下させるに
は、リフト・ポット(17)を加熱しないか、あるいは
リフト・ポット(17)及び/または導管(16)及び
/またはリフト(19)及び/または脚(27)(28
)について適宜の断熱くまたは伝熱)を行なえば十分で
ある。また同じく、リフト・ポット(17)あるいはリ
フト(19)自身あるいは脚(27)(28)の熱損失
に依存するのみならず、キャリヤー・ガスとして導管(
18)を通ってリフト(19)の中へ入れられる水素の
温度にもまた全面的もしくは部分的に依存して、硫化温
度の調節を行なうことができる。水素処理の温度が15
0乃至290℃の間にある場合には、この温度を脚(2
7)(28)の位置まで維持するか、あるいは例えば、
導管(18)を通って入れられる水素を加熱して硫化帯
の温度を上昇せしめる。For example, when the temperature of hydrogen treatment is between 380 and 445°C, in the upstream lower zone (26), the
To reduce the temperature from 445°C by at least 50°C, the lift pot (17) must not be heated or the lift pot (17) and/or the conduit (16) and/or the lift (19) and/or Legs (27) (28
), it is sufficient to provide appropriate insulation or heat transfer. It also depends not only on the heat loss of the lift pot (17) or the lift (19) itself or the legs (27) (28), but also on the conduit (
Adjustment of the sulfurization temperature can also be carried out depending wholly or partly on the temperature of the hydrogen introduced into the lift (19) through 18). Hydrogen treatment temperature is 15
If it is between 0 and 290℃, this temperature is
7) Maintain up to position (28) or e.g.
The hydrogen admitted through conduit (18) is heated to raise the temperature of the sulphide zone.
第1図に従って450℃以下の再生触媒水素処理温度で
操作する1つの利点は、本来の再生に続いてパージを行
なったにも拘らず再生触媒の中に酸素の痕跡が残存して
おり、これが下部帯(26)の中で爆発を惹き起こすお
それがあるとしても、この下部帯(26)は^温ではな
いので爆発の可能性が少なくなり、また爆発が突発した
としても、第1反応装置 (29)は水素処理帯から遠
く隔たっているので、爆発が第1反応装置(29)の中
にまで拡がることはないことである。One advantage of operating at regenerated catalyst hydrotreating temperatures below 450°C according to Figure 1 is that traces of oxygen remain in the regenerated catalyst despite the original regeneration followed by purging; Even if there is a risk of an explosion occurring in the lower zone (26), this lower zone (26) is not at ^ temperature, so the possibility of an explosion is reduced, and even if an explosion occurs suddenly, the first reactor (29) is far away from the hydrogen treatment zone so that the explosion cannot spread into the first reactor (29).
同様に、必要な場合には水素処理帯の中であるいは硫化
帯の中で、温度を制御することはきわめて容易である。Similarly, it is very easy to control the temperature in the hydrotreating zone or in the sulfiding zone if necessary.
これは、還元帯が反応装置の頭部あるいは近接した場所
に設けられている従来技術(第3図及び第4図)におい
ては、それほど容易なことではなかった。This was not so easy in the prior art (FIGS. 3 and 4), where the reduction zone was located at or near the top of the reactor.
以上のことから、ユニット全体の操作条件は著しく安全
であるということになる。From the above, it follows that the operating conditions of the entire unit are extremely safe.
第3図及び第4図の配置によれば、本発明に従って操作
すること即ち450℃以下の温度において再生触媒の水
素処理を行なうことは可能ではない。With the arrangement of FIGS. 3 and 4, it is not possible to operate according to the invention, ie to carry out hydrotreating of the regenerated catalyst at temperatures below 450.degree.
事実、第3図の方法においては、還元温度も硫化温度も
、480℃以下にまで低下せしめる手段がないことがわ
かる。第4図は高度の厳密さには適合するが、450℃
以上の温度を持つ分留導管(5)によって還元帯(20
)の断熱の制御を行なうことは困難な問題であろう。還
元帯(20)を加熱せずかつリフト(19)を適当に断
熱しても、熱の消耗は、最高500℃の温度において再
生帯(10)から出て来る触媒が還元帯(20)に到達
した時、最高でも360〜370℃の温度になる程度で
ある。そのため、ここでまた還元帯(20)を加熱する
ことが必要になり、したがって不経済な熱の補給を要す
ることになる。In fact, it can be seen that in the method shown in FIG. 3, there is no means to lower both the reduction temperature and the sulfurization temperature to 480° C. or lower. Figure 4 is compatible with high altitude rigor, but at 450℃
The reduction zone (20
) would be a difficult problem to control. Even if the reduction zone (20) is not heated and the lift (19) is suitably insulated, the loss of heat is such that the catalyst coming out of the regeneration zone (10) reaches the reduction zone (20) at temperatures of up to 500°C. When the temperature is reached, the maximum temperature will be 360 to 370°C. Therefore, it is now necessary to heat the reduction zone (20) again, which requires an uneconomical supply of heat.
これに対して、触媒が最高500℃の温度で再生帯(1
0)から出て来る第1図の方法においては、導管(11
)(13)ならびにゲート弁(12)の中における熱の
消耗は、囲域(15)が450℃以下の希望する温度に
なる程度である。これは、エネルギーの利得を可能にす
るものである。In contrast, if the catalyst is heated at temperatures up to 500°C in the regeneration zone (1
In the method of FIG. 1, the conduit (11
) (13) as well as in the gate valve (12) is such that the enclosure (15) reaches the desired temperature below 450°C. This allows for energy gains.
その上、第1図の方法によれば下記の如き新しい利点を
得ることが可能になる。Moreover, the method of FIG. 1 makes it possible to obtain new advantages as follows.
即ち、第3図及び第4図においては、リフト(19)の
中ではユニット内の水素を用いないことが絶対に必要で
あった。事実、ユニット内の水素を用いれば、触媒はユ
ニットの水素が含んでいることのあるごく微温の炭化水
素によるハイドロクラッキングという副反応に対して触
媒作用を示す傾向を常に有している。That is, in FIGS. 3 and 4, it was absolutely necessary not to use the hydrogen in the unit in the lift (19). In fact, with the hydrogen in the unit, the catalyst always has a tendency to catalyze the side reaction of hydrocracking due to the very low temperature hydrocarbons that the hydrogen in the unit may contain.
ところが第1図の方法においては、リフト(19)の鎮
静帯は極めて高温の2つの帯域の間に存在するのではな
く、比較的低温の帯域である下部帯(26)と高温の第
1反応装置(29)との間に置かれている。このことを
、リフト(19)の中では硫化が390℃以下の温度に
おいて行なわれるという事実に加えれば、その結果とし
て、本発明による方法においては、ハイドロクラッキン
グの副反応が起るかもしれない帯域は、この種の反応が
突発するには不十分な温度であるということになる。そ
れでも、永続してこのように操作を行なうことは勧めら
れないとはいえ、第1図の導管(18)の中へ純水素で
はなく、ユニット内の水素を注入することが可能である
という結果になる。このことは−切の従来技術において
排除されていることである。同様に、水素処理の温度が
相当に低い(150〜290℃)場合は、第1図の導管
(14)及び囲1! (15)の中で、ユニット内の水
素を用いることが可能である。However, in the method shown in Figure 1, the sedation zone of the lift (19) does not exist between two extremely high temperature zones, but rather between the lower zone (26), which is a relatively low temperature zone, and the high temperature first reaction zone. and the device (29). If this is added to the fact that in the lift (19) the sulfurization takes place at temperatures below 390°C, it follows that in the process according to the invention there are no zones where side reactions of hydrocracking may occur. It follows that the temperature is insufficient for this type of reaction to take place. Nevertheless, the result is that it is possible to inject hydrogen within the unit rather than pure hydrogen into the conduit (18) of Figure 1, although it is not recommended to operate in this manner permanently. become. This is something that is excluded in the prior art. Similarly, if the hydrogen treatment temperature is fairly low (150-290°C), conduit (14) and enclosure 1 in Figure 1! In (15) it is possible to use hydrogen within the unit.
硫黄化合物のキャリヤー・ガスとして導管(18)の中
で、場合によっては導管(24)の中で、また場合によ
っては導管(14)の中で、ユニット内の水素をこのよ
うに用いることは、理由の如何拘らず、純水素が不足を
来たした際に非常に高く評価される。その際、ユニット
の運転を止める必要はなく、一時ユニット内の水素を用
いれば足りるのである。純水素が不足した場合には稼働
中のすべての設備の運転を止めなければならない従来技
術においては、これは不可能である。This use of hydrogen in the unit in conduit (18), optionally in conduit (24), and optionally in conduit (14) as carrier gas for sulfur compounds, Regardless of the reason, it is highly valued when there is a shortage of pure hydrogen. At that time, there is no need to stop the operation of the unit, and it is sufficient to temporarily use the hydrogen in the unit. This is not possible in the prior art, where all operating equipment must be shut down if there is a shortage of pure hydrogen.
第1図は、再生帯(10)と再生触媒水素処理帯である
下部帯(26)とが第1反応装置(29)の側方に置か
れており、第1反応装置(29)の下方で再生され処理
された触媒を再び上へ揚げるために、揚卸装置としてリ
フト(19)を必要とする配置を示している。In FIG. 1, the regeneration zone (10) and the lower zone (26), which is a regenerated catalyst hydrogen treatment zone, are placed on the side of the first reactor (29), and below the first reactor (29). The arrangement requires a lift (19) as a lifting device in order to lift the regenerated and treated catalyst upward again.
実施例2
しかして、反応装置が大型でない時あるいは大型であっ
ても若干の場合には、第2図に説明する別個の配置を以
て本発明を実施するのが有利である。第2図においては
、再生帯は水素処理帯及び硫化帯より上方に配置されて
おり、水素処理帯及び硫化帯の双方はそれ自身、水素で
処理されかつ硫化された再生触媒が入れられる反応帯よ
り上方に置かれている。この方式によれば、リフト1基
を削除し、従って、装置において用いる触媒の総量を減
少させ再生帯から第1反応装置の中へ入るまでの触媒の
流通をよりいっそうなめらかに行なうことが可能になる
。EXAMPLE 2 However, when the reactor is not large, or even in some cases, it may be advantageous to carry out the invention with a separate arrangement as illustrated in FIG. In Figure 2, the regeneration zone is located above the hydrotreating zone and the sulfiding zone, both of which are themselves reaction zones in which the hydrogen treated and sulfided regenerated catalyst is placed. placed higher up. According to this method, one lift can be eliminated, thus reducing the total amount of catalyst used in the device and allowing smoother flow of catalyst from the regeneration zone into the first reactor. Become.
第2図においては3基の反応装置を用いる。In FIG. 2, three reactors are used.
装入物は流路(1)、炉(2)、流路(3)を通って第
1反応装置 (29)に導入される。第1反応装置(2
9)からの流出液は、導管(30)によって取出され、
炉(37)及び導管(38)を通って第2反応装置(4
2)へ送られる。第2反応装置(42)からの流出液は
導管(43)によって取出され、炉(50)及び導管(
51)を通って第3反応装置(55)へ送られる。The charge is introduced into the first reactor (29) through channel (1), furnace (2) and channel (3). First reaction device (2
The effluent from 9) is removed by a conduit (30);
The second reactor (4) passes through the furnace (37) and the conduit (38).
2). The effluent from the second reactor (42) is taken off by conduit (43) and is removed from the furnace (50) and conduit (
51) and sent to the third reactor (55).
第3反応装置(55)からの流出液は導管(56)によ
って取出される。未使用の触媒は、ユニットの始動に際
して、第2図に示されていない導管あるいは再生触媒と
ともに導管(27) (28)によって第1反応装置(
29)に導入される。触媒は流動床の形態をとって第1
反応装置(29)に進む。The effluent from the third reactor (55) is removed by a conduit (56). Upon start-up of the unit, the unused catalyst is transferred to the first reactor (27) (28) together with the conduit not shown in FIG. 2 or the regenerated catalyst.
29). The catalyst is in the form of a fluidized bed.
Proceed to reactor (29).
触媒は、複数の導管(31)(32)ならびに触媒をリ
フト・ポット(34)へ到達させる導管(33)によっ
て第1反応装置(29)から取出される。この取出しは
連続してなされる(したがってゲート弁システムは必須
ではない)。触媒の流量の調節は、リフト・ポット(3
4)の高さにおいて、図には示していない導管によって
注入される純水素あるいはユニット内で生成する水素の
力による古典的な手段で確保される。The catalyst is removed from the first reactor (29) by a plurality of conduits (31) (32) as well as a conduit (33) which takes the catalyst to the lift pot (34). This withdrawal is done continuously (therefore no gate valve system is required). The catalyst flow rate can be adjusted using the lift pot (3
4) is secured by classical means by pure hydrogen injected by a conduit not shown in the figure or by the force of hydrogen generated within the unit.
反応流出液の一部が触媒粒子とともに運び去られるのを
阻止するために、ユニットのガス流量を適量にして送る
。次いで触媒は、本明細書においては「リフト」なる語
を以て指す一切の既知の揚卸装置によって、リフト・ポ
ット(34)から第2反応装置(42)に運ばれる。リ
フト(36)の流体は、導管(35)から導入される再
循環水素すなわちユニットの生成した水素であればよい
。The gas flow rate of the unit is adjusted to prevent a portion of the reaction effluent from being carried away with the catalyst particles. The catalyst is then transported from the lift pot (34) to the second reactor (42) by any known lifting and unloading device, herein referred to by the word "lift". The fluid in the lift (36) may be recycled hydrogen, ie hydrogen produced by the unit, introduced through the conduit (35).
このようにしてリフト(36)内に運ばれた触媒は、受
器(39)に達し、そこから複数の導管(40)(41
)によって第2反応装置(42)に到達する。ここで受
器(39)ならびに導管(40) (41)は、場合に
よっては第2反応装置(42)の一部をなすこともある
。換言すればこれらは第2反応装置(42)内に設けら
れることもある。The catalyst thus transported into the lift (36) reaches the receiver (39) and from there a plurality of conduits (40) (41
) to reach the second reactor (42). Here, the receiver (39) as well as the conduits (40, 41) may optionally form part of the second reactor (42). In other words, these may be provided within the second reactor (42).
触媒は、流動床の形態で第2反応装置(42)を通り、
第1反応装置(29)についてと同様に複数の導管(4
4)(45)によって第2反応装置(42)から取出さ
れ、導管(46)によってリフト・ポット(41)に到
達する。例えば、導管(48)を通って来る再循環水素
即ちユニットの水素の供給を受けるリフト(49)によ
って、触媒は受器(52)に達し、そこから複数の導管
(53) (54)によって流動床の□ 第3反応装置
(55)に達する。触媒は、第1及び第2反応装置(2
9)(42)についてと同様に、複数の導管(57)(
58)によって第3反応装置(55)から取出される。The catalyst passes through a second reactor (42) in the form of a fluidized bed;
As for the first reactor (29), a plurality of conduits (4
4) (45) from the second reactor (42) and reaches the lift pot (41) by a conduit (46). For example, by means of a lift (49) fed with recycled hydrogen or unit hydrogen coming through a conduit (48), the catalyst reaches a receiver (52) from where it is flowed through a plurality of conduits (53) (54). □ of the bed reaches the third reactor (55). The catalyst is supplied to the first and second reactors (2
9) Similar to (42), a plurality of conduits (57) (
58) from the third reactor (55).
この使用済触媒は導管(59)によってリフト・ポット
(60)に到達する。次いで、この使用済触媒は、例え
ば導管(61)によってリフト・ポット(60)に送り
込まれる再循環水素の供給を受けるリフト(6)を用い
て[アキュミュレーター・デカンタ−]フラスコ(7)
に送られる。使用済触媒は、ゲート弁システム(8)お
よび導管(21)(9)を通って11生帯(10)に到
着する。This spent catalyst reaches the lift pot (60) by conduit (59). This spent catalyst is then transferred to an [accumulator decanter] flask (7), for example by means of a lift (6) fed with recycled hydrogen which is fed by a conduit (61) into a lift pot (60).
sent to. The spent catalyst reaches the 11 green zone (10) through the gate valve system (8) and conduits (21) (9).
触媒の再生が完了すると、再生触媒は流路(11)(1
3)ならびにゲート弁システム(12)を通って囲域(
15)の上部の中へ送られ、その中へ導管(14)を通
って水素が送り込まれる。触媒は、例えば導管(23H
25)の如き通常の手段によって、下部即ち囲域(15
)の中の下部帯(26)に向って進行する。When the regeneration of the catalyst is completed, the regenerated catalyst is transferred to the flow path (11) (1
3) as well as the enclosure (
15) into which hydrogen is pumped through conduit (14). The catalyst is, for example, a conduit (23H
25) by conventional means such as the lower or surrounding area (15).
) towards the lower zone (26).
下部帯(26)の中において、固定床あるいは流動床と
して導管(14)を通って入れられる水素を用いて、再
生触媒の水素処理が行なわれる。この処理は希望する温
度、第1図について説明した如くここでは450℃以下
において行なわれる。In the lower zone (26), the regenerated catalyst is hydrotreated with hydrogen introduced through the conduit (14) as a fixed or fluidized bed. This treatment is carried out at the desired temperature, here below 450 DEG C., as described with respect to FIG.
再生されかつ水素で処理された触媒は、導管(4)及び
場合によってはゲート弁(16)によって(第1反応装
置(29)より上方に置かれた)囲域(15)から取出
され、第1反応装置 (29)より上方にある受入れフ
ラスコ(17)の中へ連続して下行する。受入れフラス
コ(17)から硫化反応を出発することができるが、場
合によっては水素流によって搬送される硫黄化合物が、
導管(24)を通って導入される。それから触媒は、導
管(18H5)ならびに場)によってはゲート弁(19
)を通って、アキュムレーター・フラスコ(20)の中
へ連続して下行を続ける。次いで触媒は、複数の導管、
即ちr ml J (27)(28)を通って、流動床
の形態でアキュムレーター・フラスコ(20)から第1
反応装置(29)に至るまで連続して流れる。The regenerated and hydrogen-treated catalyst is removed from the enclosure (15) (located above the first reactor (29)) by means of a conduit (4) and optionally a gate valve (16) and transferred to the first reactor (29). 1 Continuously descends into the receiving flask (17) located above the reactor (29). The sulfurization reaction can start from the receiving flask (17), but in some cases the sulfur compounds carried by the hydrogen stream are
It is introduced through conduit (24). The catalyst is then activated by the conduit (18H5) as well as the gate valve (19
) and continue descending into the accumulator flask (20). The catalyst is then connected to a plurality of conduits,
i.e. from the accumulator flask (20) in the form of a fluidized bed through r ml J (27) (28).
It flows continuously up to the reactor (29).
触媒は、囲域(15)の出口から第1反応装置(29)
まで(場合によってはゲート弁は解放しであるか除いで
ある)、水素処理及び硫化の温度の正しい調節が確実に
行なわれるように、また触媒が急激な温度変動を受けな
いように、流動床の形態で流れる。The catalyst is transferred from the outlet of the enclosure (15) to the first reactor (29).
(in some cases the gate valve is open or removed) to ensure correct regulation of the hydrogen treatment and sulfiding temperatures and to ensure that the catalyst is not subjected to sudden temperature fluctuations. flows in the form of
水素処理の進行中に過剰になった水素は放出管(22)
を通って除去することができる。During hydrogen treatment, excess hydrogen is removed from the discharge pipe (22).
can be removed through.
再生触媒の水素処理の後に行なわれる硫化は、第2図の
装置においては、一部は受入れフラスコ(17)の中に
おいて、一部は導管(18)(5)の中において、場合
によっては一部はアキュムレーター・フラスコ(20)
ならびに脚(27) (28)の中において行なわれる
。The sulfurization carried out after the hydrotreatment of the regenerated catalyst is carried out in the apparatus according to FIG. 2 partly in the receiving flask (17), partly in the conduits (18) (5), and in some cases even once. Part is accumulator flask (20)
as well as in the legs (27) (28).
第1図及び第2図は、再生触媒が反応装置の中へ改めて
入れられる前に先ず450℃以下の温度において水素に
よる処理を受けることを特徴とする方法を例示するもの
である。1 and 2 illustrate a method characterized in that the regenerated catalyst is first subjected to treatment with hydrogen at a temperature below 450° C. before being reintroduced into the reactor.
水素による処理が比較的低い温度において行なわれるの
で、純水素あるいは精製水素が不足した場合、装置の中
で爆発を惹起するかもしれないハイドロクラッキングの
副反応を恐れることなく、一時ユニット・ガスを用いて
、一方においてこの水素処理を行なうことができ、また
他方において第1図の場合再生触媒を、水素を推進流体
とするリフトの力で第1反応装置に向って再度揚げるこ
とができる。Because the hydrogen treatment takes place at relatively low temperatures, temporary unit gas can be used in the event of a shortage of pure or purified hydrogen without fear of hydrocracking side reactions that may cause an explosion in the equipment. On the one hand, this hydrogen treatment can be carried out, and on the other hand, in the case of FIG. 1, the regenerated catalyst can be lifted again towards the first reactor by means of a lift with hydrogen as the propelling fluid.
ところで、(水素による処理を320乃至370℃の間
、望ましくは350℃近傍の温度において操作し、硫化
を水素処理温度より70乃至130℃低い温度において
行ない、かつこの温度が200乃至280℃の間好まし
くは220乃至280℃の間に含まれ、また好ましくは
約250℃に近いことを条件にして)、例えば、リフオ
ーマット(reformat)からの流出液を用いてプ
レートの中でユニット内の水素を洗うというような比較
的簡単な精製を、ユニット内の水素が受けてさえいるな
らば、ユニット内で生成する水素を、水素処理用及び(
水素によって処理した触媒を反応装置の頂へ運ぶために
)装置の中にリフトがある場合はキャリヤー・ガス用と
して、ユニットの全稼働期間にわたって用いることが今
や可能になったことが認められた。By the way, (the hydrogen treatment is carried out at a temperature between 320 and 370°C, preferably around 350°C, the sulfidation is carried out at a temperature 70 to 130°C lower than the hydrogen treatment temperature, and this temperature is between 200 and 280°C). (preferably between 220 and 280°C, and preferably close to about 250°C), e.g. As long as the hydrogen in the unit has undergone relatively simple purification such as washing, the hydrogen produced in the unit can be used for hydrogen processing and (
It has now been recognized that it is now possible to use a lift in the apparatus for the carrier gas (for transporting the catalyst treated with hydrogen to the top of the reactor) during the entire operating life of the unit.
このようにして精製されたユニット内の水素を以下、本
明細書においては「精製ユニット水素」と呼ぶことにす
る。水素処理及び硫化反応の比較的低い温度のために、
ユニット内に由来し、高度にまでは進めないで簡単に精
製した。The hydrogen within the unit purified in this manner will hereinafter be referred to as "refined unit hydrogen". Due to the relatively low temperatures of the hydrogen treatment and sulfidation reactions,
It originated within the unit and was easily purified without being advanced to a high level.
このような水素は、この簡単な精製後も尚含んでいる不
純物にも拘らず、その水素が含んでいるかもしれない炭
化水素にょるハイドロクラッキングというn1重反転起
因する寄生爆発の原因にはならないはずである。事実、
この副反応は水素処理及び硫化に用いられる比較的低い
温度においては起り得ない。Such hydrogen, despite the impurities it still contains after this simple purification, is not susceptible to parasitic explosions due to n1 flipping, such as hydrocracking due to hydrocarbons it may contain. It should be. fact,
This side reaction cannot occur at the relatively low temperatures used in hydrotreating and sulfidation.
第3図及び第4図の方法においては、触媒の水素処理及
びその硫化が比較的高温、一般には反応装置自身の中で
用いられるものに近い温度において行なわれるので、純
水素か、場合によっては、分子節上の水素の通過または
低温科学的方法による精製の如き、極めて費用のかかる
物理化学的方法により予め厳格な精製を必要とする、再
循環水素即ちユニット内の水素を用いることが絶対に必
要であった。第1図及び第2図においては、一時的には
再循環水素即ちユニット内の水素を用いることができた
。In the process of Figures 3 and 4, the hydrotreatment of the catalyst and its sulfidation are carried out at relatively high temperatures, generally close to those used in the reactor itself, so that pure hydrogen or It is absolutely not possible to use recycled hydrogen, i.e. hydrogen within the unit, which requires prior rigorous purification by very expensive physicochemical methods, such as passing hydrogen over molecular nodes or purification by low temperature chemical methods. It was necessary. In Figures 1 and 2, recycled hydrogen, ie hydrogen within the unit, could be used temporarily.
本発明による第1図及び第2図においては、再生触媒は
、これらの図の囲域(15)において、あるいは固定床
の形をとりあるいは流動床の形をとって、水素による処
理を受ける。好ましくは、触媒の進行の一層順調な連続
性を確実にするために、囲域(15)はyL動床型のも
のである。1 and 2 according to the invention, the regenerated catalyst is subjected to treatment with hydrogen in the area (15) of these figures or in the form of a fixed bed or in the form of a fluidized bed. Preferably, the enclosure (15) is of the yL moving bed type, in order to ensure better continuity of the catalyst progress.
この場合、図面を混雑させないために、例えば、再生が
固定床で行なわれる場合において、必然的に周期的な再
生帯(10)からの取出しを水素処理帯の中への連続的
な供給に変化させるのに必要な付帯ゲート弁あるいは容
器は示していない。In this case, in order not to crowd the drawing, it is necessary to change the periodic withdrawal from the regeneration zone (10) into a continuous feed into the hydrotreating zone, for example when regeneration is carried out in a fixed bed. Not shown are any additional gate valves or vessels required to do so.
同様に、再生触媒の水素による処理が図の囲域(15)
の中において固定床で行なわれる場合に、触媒を囲域(
15)の出口から硫化帯に向って連続して進行せしめる
のに必要な付帯装置も示していない。Similarly, treatment of the regenerated catalyst with hydrogen is in the area (15) in the figure.
When carried out in a fixed bed in a
Also not shown is the ancillary equipment necessary for continuous advancement from the outlet of 15) towards the sulfidation zone.
第1図及び第2図は本発明の実施例を示す管系統図、第
3図および第4図は従来技術を示す管系統図である。
以 上
特許出願人 アンステイテユ・7ランセ外2名
第1図1 and 2 are pipe system diagrams showing an embodiment of the present invention, and FIGS. 3 and 4 are pipe system diagrams showing the prior art. Applicants for the above patents: 2 people other than Institut Les 7 Lances Figure 1
Claims (12)
触媒の存在下における炭化水素のリフォーミング法すな
わち芳香族炭化水素の製造法であって、一化水素と水素
とより成る当初の装入物を、直列状に連なりかつ各々が
流動床型である少なくとも2つの反応帯を通して流通せ
しめ、装入物が各反応帯を順次流通し、しかして触媒も
同じく流動床の形態でその各々の中を上部から下部へ連
続して流れて順次各反応帯を流通し、装入物の通過した
最後の反応帯の下部から連続して取出された触媒が再生
帯の中へ送られる方法において、 再生触媒が、反応帯とは区別された水素処理帯の中を下
行し、その中で該触媒が、部分的還元を受ける目的で、
450℃より低い温度において水素処理されること、 再生され水素処理された触媒が、第1の囲域の中を連続
して下行し、該第1の囲域はその内部に硫黄化合物が注
入されるものであり、再生され水素処理された触媒が、
前記の第1の囲域から、装入物が通過した第1反応帯よ
り上方に置かれかつ同反応帯とは区別された第2の囲域
の中まで連続して流れ、次いで触媒が前記の第2の囲域
から第1反応帯の中へ連続して流れ、前記の再生され水
素処理された触媒が、第1の囲域から第1反応帯までの
連続した進行の途中において、前記の第1の囲域の中へ
注入された硫黄化合物の力で、200乃至390℃の温
度範囲において行なわれる硫化を受けること を特徴とする方法。(1) A process for the reforming of hydrocarbons, i.e. for the production of aromatic hydrocarbons, in the temperature range from 480 to 600° C. and in the presence of a catalyst, in which an initial charge consisting of hydrogen monoxide and hydrogen is The flow is conducted through at least two reaction zones arranged in series and each of the fluidized bed type, with the charge flowing through each reaction zone in turn and the catalyst flowing through each of them from above, also in the form of a fluidized bed. A method in which the regenerated catalyst flows continuously to the bottom and passes through each reaction zone in turn, and the catalyst is continuously removed from the bottom of the last reaction zone through which the charge has passed and is sent into the regeneration zone. passing through a hydrotreating zone distinct from the reaction zone, in which the catalyst is intended to undergo partial reduction;
being hydrotreated at a temperature below 450° C.; the regenerated and hydrotreated catalyst is continuously passed down through a first enclosure, the first enclosure having a sulfur compound injected therein; The regenerated and hydrotreated catalyst is
From said first enclosure there is continuous flow into a second enclosure which is located above and distinct from the first reaction zone through which the charge has passed, and the catalyst then passes through said first enclosure. from the second enclosure into the first reaction zone, said regenerated and hydrotreated catalyst flowing continuously from said first enclosure to said first reaction zone, said A process characterized in that it undergoes sulfurization carried out in the temperature range from 200 to 390° C. with the force of a sulfur compound injected into the first zone of the sulfur compound.
り、硫化の温度が260乃至390℃の範囲にありかつ
水素処理の行なわれる温度よりも少なくとも50℃低い
特許請求の範囲第1項記載の方法。(2) The hydrogen treatment temperature is in the range of 380 to 445°C, and the sulfidation temperature is in the range of 260 to 390°C and is at least 50°C lower than the temperature at which the hydrogen treatment is performed. the method of.
り、硫化の温度が200乃至390℃の範囲にある特許
請求の範囲第1項記載の方法。(3) The method according to claim 1, wherein the hydrogen treatment temperature is in the range of 150 to 290°C, and the sulfidation temperature is in the range of 200 to 390°C.
水素である特許請求の範囲第1項記載の方法。(4) The method according to claim 1, wherein the hydrogen used for hydrogen treatment of the regenerated catalyst is hydrogen within the apparatus.
て (a)白金、イリジウム、ルテニウム及びロジウムの中
から選択した第1の金属0.2乃至0.4%と、 (b)第1の金属とは異なりかつイリジウム及びロジウ
ムの中から選択した第2の金属0.02乃至0.07%
と、 (c)銅、銀、金、チタン、ニオブ、インジウム、タリ
ウム、マンガン、ゲルマニウム、錫、鉛及びレニウムの
中から選択した少なくとも1種の第3の金属0.25乃
至0.55%と、(d)ハロゲン0.1乃至10%と を含む触媒の存在下におけるリフォーミングのための特
許請求の範囲第1項記載の方法。(5) an alumina support, and (a) 0.2 to 0.4% by weight of a first metal selected from platinum, iridium, ruthenium, and rhodium relative to the alumina support; (b) a first metal; 0.02 to 0.07% of a second metal different from the metal and selected from iridium and rhodium
and (c) 0.25 to 0.55% of at least one third metal selected from copper, silver, gold, titanium, niobium, indium, thallium, manganese, germanium, tin, lead, and rhenium. , (d) 0.1 to 10% of halogen.
て (a)白金、イリジウム及びロジウムの中から選択した
第1の金属0.45乃至0.65%と、(b)第1の金
属とは異なりかつイリジウム、ロジウム、ルテニウム、
パラジウム、オスミウム及びレニウムの中から選択した
第2の金属1種と、 (c)銅、銀、金、マンガン、チタン、ニオブ、タリウ
ム、カドミウム及びインジウムの中から選択した第3の
金属1種と、 (d)ハロゲン0.1乃至10%と を含む触媒の存在下における高純度芳香族炭化水素の製
造のための特許請求の範囲第1項記載の方法。(6) an alumina carrier; (a) 0.45 to 0.65% by weight of a first metal selected from platinum, iridium, and rhodium; and (b) a first metal; are different and iridium, rhodium, ruthenium,
(c) a second metal selected from palladium, osmium, and rhenium; and (c) a third metal selected from copper, silver, gold, manganese, titanium, niobium, thallium, cadmium, and indium. , (d) 0.1 to 10% of halogen. The method according to claim 1 for the production of high purity aromatic hydrocarbons in the presence of a catalyst containing 0.1 to 10% of halogen.
物がまた他方においては水素流が注入されるものであり
、該水素流は再生され水素処理された触媒を第2の囲域
内へ連続して揚げるのを助けるためのものである特許請
求の範囲第1項記載の方法。(7) A first enclosure into which a sulfur compound is injected on the one hand and a hydrogen stream on the other hand which carries the regenerated and hydrotreated catalyst into a second enclosure. A method according to claim 1, which is for aiding in continuous frying.
り、硫化の温度が260乃至390℃の範囲にありかつ
水素処理の行なわれる温度よりも少なくとも50℃低い
特許請求の範囲第7項記載の方法。(8) The humidity of the hydrogen treatment is in the range of 380 to 445°C, and the temperature of sulfidation is in the range of 260 to 390°C and is at least 50°C lower than the temperature at which the hydrogen treatment is performed. the method of.
り、硫化の温度が200乃至390℃の範囲にある特許
請求の範囲第7項記載の方法。(9) The method according to claim 7, wherein the hydrogen treatment temperature is in the range of 150 to 290°C, and the sulfidation temperature is in the range of 200 to 390°C.
の囲域へ向って運ぶのに力を貸す水素、及び再生触媒の
水素処理に用いられる水素が、装置内の水素である特許
請求の範囲第7項記載の方法。(10) Transfer the regenerated and hydrotreated catalyst to the second
8. The method of claim 7, wherein the hydrogen that assists in transporting the hydrogen to the surrounding area and the hydrogen that is used to hydrotreat the regenerated catalyst is hydrogen within the apparatus.
して (a)白金、イリジウム、ルテニウム及びロジウムの中
から選択した第1の金属0.2乃至0.4%と、 (b)第1の金属とは異なりかつイリジウム及びロジウ
ムの中から選択した第2の金属0.02乃至0.07%
と、 (c)銅、銀、金、チタン、ニオブ、インジウム、タリ
ウム、マンガン、ゲルマニウム、錫、鉛及びレニウムの
中から選択した少なくとも1種の第3の金属0.25乃
至0.55%と、(d)ハロゲン0.1乃至10%と を含む触媒の存在下におけるリフォーミングのための特
許請求の範囲第7項記載の方法。(11) an alumina support, and (a) 0.2 to 0.4% by weight of a first metal selected from platinum, iridium, ruthenium, and rhodium relative to the alumina support; (b) a first metal; 0.02 to 0.07% of a second metal different from the metal and selected from iridium and rhodium
and (c) 0.25 to 0.55% of at least one third metal selected from copper, silver, gold, titanium, niobium, indium, thallium, manganese, germanium, tin, lead, and rhenium. , (d) 0.1 to 10% of halogen.
して (a)白金、イリジウム及びロジウムの中から選択した
第1の金属0.45乃至0.65%と、(b)第1の金
属とは異なりかつイリジウム、ロジウム、ルテニウム、
パラジウム、オスミウム及びレニウムの中から選択した
第2の金属1種と、 (c)銅、銀、金、マンガン、チタン、ニオブ、タリウ
ム、カドミウム及びインジウムの中から選択した第3の
金属1種と、 (d)ハロゲン0.1乃至10%と を含む触媒の存在下における高純度芳香族炭化水素の製
造のための特許請求の範囲第7項記載の方法。(12) an alumina carrier; (a) 0.45 to 0.65% by weight of a first metal selected from platinum, iridium, and rhodium; and (b) a first metal; are different and iridium, rhodium, ruthenium,
(c) a second metal selected from palladium, osmium, and rhenium; and (c) a third metal selected from copper, silver, gold, manganese, titanium, niobium, thallium, cadmium, and indium. (d) 0.1 to 10% of halogen. The method according to claim 7 for the production of high purity aromatic hydrocarbons in the presence of a catalyst containing 0.1 to 10% of halogen.
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| FR7702815A FR2378846A1 (en) | 1977-01-31 | 1977-01-31 | Hydrocarbon conversion with treatment of regenerated catalyst - using hydrogen and sulphur cpd. in zones sepd. from reaction zones |
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