JPS61213213A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は新規な光重合性組成物に関するものであり、更
に詳しくは、有機溶剤を含有しない弱アルカリ水溶液に
よって現像できる改善された光重合性組成物に関する。
に詳しくは、有機溶剤を含有しない弱アルカリ水溶液に
よって現像できる改善された光重合性組成物に関する。
「従来の技術」
従来、光重合性組成物の現像液として有機溶剤が使用さ
れてきたが有機溶剤は一般に高価で、有毒であり、かつ
可燃性でもある。その上使用に当っては労働衛生対策お
よび公害対策設備等に多額の費用全必要とする。そのた
め、このような有機溶剤を使用しないで現像できる光重
合性組成物が長い間熱型されてきた。一般に光重合性組
成物の溶解性およびその他の性質を決定するのは光重合
性組成物の結合剤成分である。
れてきたが有機溶剤は一般に高価で、有毒であり、かつ
可燃性でもある。その上使用に当っては労働衛生対策お
よび公害対策設備等に多額の費用全必要とする。そのた
め、このような有機溶剤を使用しないで現像できる光重
合性組成物が長い間熱型されてきた。一般に光重合性組
成物の溶解性およびその他の性質を決定するのは光重合
性組成物の結合剤成分である。
アルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物に関する文
献の代表的なものには、次のようなものがある。特公昭
3!−/ダobs号(結合剤は側鎖酸素識含有重合体で
ある)、特公昭4I6−.7コツ/4I号(結合剤は例
えばメタクリル酸メチル/メタクリル酸共重合体である
)、特公昭5ダ一3ダ327号(結合剤は例えばメタク
リル酸メチル/メタクリル酸−2−エチルヘキシル/メ
タクリル酸の三元共重合体である)、特公昭j−j−−
31961号(結合剤は例えばスチレン/マレイン酸モ
ノn−ブチルエステル共重合体である)、特公昭!14
−、I、lll1J号(結合剤は例えばメタクリル酸エ
チル/アクリル酸エチル/メタクリル酸の三元共重合体
である)、特公昭54I−23957号(結合剤は例え
ばスチレン/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/
メタクリル酸の四元共重合体である)、特開昭3コ一9
9110号(結合剤は例えばメタクリル酸ベンジル/メ
タクリル酸共重合体である)、特公昭!lag−/2に
77号(結合剤は例えばアクリロニトリル/メタクリル
酸−2−エチルヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体
である)および特公昭j?!−4210号(結合剤は例
えばメタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/アクリル
酸三元共重合体とイソプロパツールチ一部分エステル化
したスチレン/マレイン歳無水物共重合体のコ種である
)。
献の代表的なものには、次のようなものがある。特公昭
3!−/ダobs号(結合剤は側鎖酸素識含有重合体で
ある)、特公昭4I6−.7コツ/4I号(結合剤は例
えばメタクリル酸メチル/メタクリル酸共重合体である
)、特公昭5ダ一3ダ327号(結合剤は例えばメタク
リル酸メチル/メタクリル酸−2−エチルヘキシル/メ
タクリル酸の三元共重合体である)、特公昭j−j−−
31961号(結合剤は例えばスチレン/マレイン酸モ
ノn−ブチルエステル共重合体である)、特公昭!14
−、I、lll1J号(結合剤は例えばメタクリル酸エ
チル/アクリル酸エチル/メタクリル酸の三元共重合体
である)、特公昭54I−23957号(結合剤は例え
ばスチレン/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/
メタクリル酸の四元共重合体である)、特開昭3コ一9
9110号(結合剤は例えばメタクリル酸ベンジル/メ
タクリル酸共重合体である)、特公昭!lag−/2に
77号(結合剤は例えばアクリロニトリル/メタクリル
酸−2−エチルヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体
である)および特公昭j?!−4210号(結合剤は例
えばメタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/アクリル
酸三元共重合体とイソプロパツールチ一部分エステル化
したスチレン/マレイン歳無水物共重合体のコ種である
)。
しかしこれら参考文献に記載されている組成物は、ある
用途においては利点があるが、しかし特にフォトレジス
トとして使用された場合にはある種の欠点を示すのであ
る。通常は銅である金属箔を積層した基体を用いてプリ
ント配線基板を作成するに際し、その基体上に感光性の
固体フィルムを圧着積層する工@を含むいわゆるドライ
フィルムレジスト法については特公昭ll5−xsas
i号に記載されている。この方法に適合しうる光重合性
組成物は例えば現像性および剥膜性(ただし重合された
状態においてはエツチング又はメッキ溶液に対する抵抗
性)、低い粘着性、基体に対する高い接着性および可撓
性が適当にバランスしていることが必要である。
用途においては利点があるが、しかし特にフォトレジス
トとして使用された場合にはある種の欠点を示すのであ
る。通常は銅である金属箔を積層した基体を用いてプリ
ント配線基板を作成するに際し、その基体上に感光性の
固体フィルムを圧着積層する工@を含むいわゆるドライ
フィルムレジスト法については特公昭ll5−xsas
i号に記載されている。この方法に適合しうる光重合性
組成物は例えば現像性および剥膜性(ただし重合された
状態においてはエツチング又はメッキ溶液に対する抵抗
性)、低い粘着性、基体に対する高い接着性および可撓
性が適当にバランスしていることが必要である。
従来公知のアルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物
は、それらが粘着性でありすぎるか又は脆すぎること、
または高分解能の画僚を与えるには不十分な基体への接
着性と耐膨潤性を有していること、またはそれがアルカ
リ水溶液で現像できるとしても現像時間がかかりすぎる
というような、一つまたはそれ以上の不利な点を有して
いる@また特に近年、プリント配線の高密度化が望まれ
、そのために原稿に忠実で高解偉力のレジスト画線像を
与えるドライフィルムレジストが必要となってきた。
は、それらが粘着性でありすぎるか又は脆すぎること、
または高分解能の画僚を与えるには不十分な基体への接
着性と耐膨潤性を有していること、またはそれがアルカ
リ水溶液で現像できるとしても現像時間がかかりすぎる
というような、一つまたはそれ以上の不利な点を有して
いる@また特に近年、プリント配線の高密度化が望まれ
、そのために原稿に忠実で高解偉力のレジスト画線像を
与えるドライフィルムレジストが必要となってきた。
「本発明が解決しようとする問題点」
従来公知のアルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物
は、この目的に対し不十分であった。こ −れは主と
してフォトレジスト層の現像液に対する耐膨潤性および
基板への接着性の欠除に基づくものである。
は、この目的に対し不十分であった。こ −れは主と
してフォトレジスト層の現像液に対する耐膨潤性および
基板への接着性の欠除に基づくものである。
能な光重合性組成物の不利な点を克服することにある0
すなわち目的とする組成物は、短時間で弱アルカリ水溶
液で現像でき、ドライフィルムとして基体く積層するに
十分な可撓性金持ち、そして基体に対して高度の接着性
を有し、そして表面の粘着性は少なく、また保存時にコ
ールドクローを起すほどには軟質でなく、そしてlii
儂露光露光って重合した部分の現像液への耐膨潤性が優
れているが、さらに有機溶剤を含有しない強アルカリの
希薄水溶液で処理することにより剥膜が可能である。さ
らに本発明の目的は原稿に対する忠実な画線像の再現で
あり、高解偉力の発現である。
すなわち目的とする組成物は、短時間で弱アルカリ水溶
液で現像でき、ドライフィルムとして基体く積層するに
十分な可撓性金持ち、そして基体に対して高度の接着性
を有し、そして表面の粘着性は少なく、また保存時にコ
ールドクローを起すほどには軟質でなく、そしてlii
儂露光露光って重合した部分の現像液への耐膨潤性が優
れているが、さらに有機溶剤を含有しない強アルカリの
希薄水溶液で処理することにより剥膜が可能である。さ
らに本発明の目的は原稿に対する忠実な画線像の再現で
あり、高解偉力の発現である。
本発明者等は、次のような光重合性組成物を用いること
でこれらの目的が達成されることを見出し本出願に到っ
た。
でこれらの目的が達成されることを見出し本出願に到っ
た。
「問題点を解決するための手段」
不発明の光重合性組成物は、以下の通りである。
すなわち、分子中に少なくとも一個のエチレン性不飽和
二重結合を含有する付加重合性不飽和化合性組成物にお
いて、前記結合剤が次の(A)、(B)。
二重結合を含有する付加重合性不飽和化合性組成物にお
いて、前記結合剤が次の(A)、(B)。
(C)の各群より少なくとも7種ずつ選ばれた重合性物
質を共重合させたものであり、重量平均分子量が5oo
o〜7000,000の多元共重合体であること全特徴
とする光重合性組成物である。
質を共重合させたものであり、重量平均分子量が5oo
o〜7000,000の多元共重合体であること全特徴
とする光重合性組成物である。
(A) 下記一般式CI)で表わされる重合性物質H
2−Ar (ただし、式中Arは置換もしくは無置換の7二二ル基
) (B) 下記一般式(…)で表わされる重合性物質C
H2=CCH3 C=0 (I) 言 R+ (ただし、式中R#i炭素数/−4のアルキル基)(C
) α、β−不飽和カルボン酸である重合性物本発明
に用いる(A) 、 (B) 、 (C)の重合性物質
よりなる共重合体は感光層中の他成分の結合剤として使
用されるものであり、感光性ドライフィルムレジストの
主要な性能を決定する。
2−Ar (ただし、式中Arは置換もしくは無置換の7二二ル基
) (B) 下記一般式(…)で表わされる重合性物質C
H2=CCH3 C=0 (I) 言 R+ (ただし、式中R#i炭素数/−4のアルキル基)(C
) α、β−不飽和カルボン酸である重合性物本発明
に用いる(A) 、 (B) 、 (C)の重合性物質
よりなる共重合体は感光層中の他成分の結合剤として使
用されるものであり、感光性ドライフィルムレジストの
主要な性能を決定する。
(A)の重合性物質である一般式(I)において人rの
具体例として、フェニル、p−メチル7エ二ル、m−メ
チルフェニル、0−メチルフェニル。
具体例として、フェニル、p−メチル7エ二ル、m−メ
チルフェニル、0−メチルフェニル。
p−エチルフェニル、0−エチルフェニル、p−イソプ
ロピルフェニル、p−メトキシフェニル。
ロピルフェニル、p−メトキシフェニル。
p−クロロフェニル、m−クロルフェニル、o−クロル
フェニルtp−7’ロモフェニル、2,4cmジメチル
フェニル、5−a−ジメチルフェニル、 j、4!−ジ
メトキシフェニル基を挙げることができ、特に好ましい
のはフェニル基である。
フェニルtp−7’ロモフェニル、2,4cmジメチル
フェニル、5−a−ジメチルフェニル、 j、4!−ジ
メトキシフェニル基を挙げることができ、特に好ましい
のはフェニル基である。
(B)の重合性物質である一般式(I)において凡の具
体例として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、5ec−ブチル、イソブチル、te
rt−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、シクロヘ
キシル、シクロインチル基t−挙ケることかでき、l!
!#り好ましいのはメチル基、エチル基、n−プロピル
基である。
体例として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、5ec−ブチル、イソブチル、te
rt−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、シクロヘ
キシル、シクロインチル基t−挙ケることかでき、l!
!#り好ましいのはメチル基、エチル基、n−プロピル
基である。
(C)の重合性物質であるα、β不飽和カルボン酸の具
体例として、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、
フマル酸、イタコン酸、マレイン酸モノメチルエステル
、マレイン酸モノエチルエステル、マレイン酸モノメチ
ルエステル、マレイン酸モノベンジルエステル、イタコ
ン酸モノメチルエステル、イタコン酸モノブチルエステ
ルを挙げることができ、特に好ましいのは、アクリル酸
とメタクリル酸である。
体例として、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、
フマル酸、イタコン酸、マレイン酸モノメチルエステル
、マレイン酸モノエチルエステル、マレイン酸モノメチ
ルエステル、マレイン酸モノベンジルエステル、イタコ
ン酸モノメチルエステル、イタコン酸モノブチルエステ
ルを挙げることができ、特に好ましいのは、アクリル酸
とメタクリル酸である。
本発明釦用いる多元共重合体において(A)の第一重合
性物質は約−θ〜約約7壬 約−〇モルチ以下ではレジストの密着性が劣り約7θモ
ルチ以上では感光層の現像性が劣る、特に好ましいのは
約ダO〜約33モルチである。
性物質は約−θ〜約約7壬 約−〇モルチ以下ではレジストの密着性が劣り約7θモ
ルチ以上では感光層の現像性が劣る、特に好ましいのは
約ダO〜約33モルチである。
(B)の第二重合性物質は約3〜約70モルチが好まし
く、約3モルチ以下ではレジストの剥膜性が劣り、約7
0%ルー以上ではレジストのアルカリm**耐性に欠け
る、特に好ましいのは約3〜約70モルチである。
く、約3モルチ以下ではレジストの剥膜性が劣り、約7
0%ルー以上ではレジストのアルカリm**耐性に欠け
る、特に好ましいのは約3〜約70モルチである。
(C) (t)第三重合性物質は約−3〜約70−Eニ
ル−が好ましく約23モルチ以下では現像性が不良で約
70%ルー以上ではレジストの耐アルカリ現儂液性が劣
る。
ル−が好ましく約23モルチ以下では現像性が不良で約
70%ルー以上ではレジストの耐アルカリ現儂液性が劣
る。
本発明に用いる多元共重合体の重量平均分子量は、約よ
000から約tooaooo が適当であり、約s.o
oo以下ではテントの強度が劣り、約tooa000以
上では現像性が劣る。#KtH−ましくは、約2QOO
Oから約コkQOOOである。
000から約tooaooo が適当であり、約s.o
oo以下ではテントの強度が劣り、約tooa000以
上では現像性が劣る。#KtH−ましくは、約2QOO
Oから約コkQOOOである。
好ましい共重合体の具体例を第1表に示すが、これのみ
に限定されるものではない。これらの共重合体は当業者
には公知の任意の重合技術により製造することができる
。
に限定されるものではない。これらの共重合体は当業者
には公知の任意の重合技術により製造することができる
。
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる、重合性不
飽和化合物は、分子中に少なくとも2個のエチレン不飽
和二重結合を含有するものであり付加重合しうるもので
あればよい。そして1種又は2種以上の化合物を存在さ
せることができる。
飽和化合物は、分子中に少なくとも2個のエチレン不飽
和二重結合を含有するものであり付加重合しうるもので
あればよい。そして1種又は2種以上の化合物を存在さ
せることができる。
好ましい具体例としては、特公昭3!r−1093号、
特公昭J!r−/弘’119号、特公昭リグ−λg72
7号の各明細書に記載されている、ポリオールのアクリ
ル酸又はメタクリル醗エステル類、すなワチジエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(
メタ)アクリレート、トリメチロールプロノQントリ(
メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ
)アクリレート、インタエリスリトールテトラ(メタ)
アクリレート、ジにンタエリスリトールベンタ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)
アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)ア
クリレート等、又はビス(メタ)アクリルアミド類、す
なわちメチレンビス(メタ)アクリルアミド、エチレン
ビス(メタ)アクリルアミド、m−キシリレンビス(メ
タ)アクリルアミド等、あるいはウレタン基を含有する
化合物、すなわち、ジ(−一メタクリロ牛ジエチル)コ
、lI−トリレンジウレタン、ジー(コーアクリロキシ
エチル)へキサメチレンジウレタン、又はポリオールと
ジイソシアネートとを予め反応させて得られる末端イソ
シアネート化 ゛合物に更にβ−ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートを反応せしめることで得られる(
メタ)アクリルウレタンオリゴマー、例えばすなわち、
コ、タートリレンジイソシアネートヲタモルとエチレン
グリコールを3モルとの反応生成物に7モルのβ−ヒド
ロキシエチルアクリレ−1t−反応して得られるオリゴ
マー又は2.2−ビス(ヒドロキシフェニル)−フロノ
ξン、λ、2−ビス(ヒドロキシエトキシフェニル)プ
ロパン、コ9,2−ビス(ヒドロキシエトキシエトキシ
フェニル)プロパン等のジアクリレート等が挙げられる
。
特公昭J!r−/弘’119号、特公昭リグ−λg72
7号の各明細書に記載されている、ポリオールのアクリ
ル酸又はメタクリル醗エステル類、すなワチジエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(
メタ)アクリレート、トリメチロールプロノQントリ(
メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ
)アクリレート、インタエリスリトールテトラ(メタ)
アクリレート、ジにンタエリスリトールベンタ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)
アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)ア
クリレート等、又はビス(メタ)アクリルアミド類、す
なわちメチレンビス(メタ)アクリルアミド、エチレン
ビス(メタ)アクリルアミド、m−キシリレンビス(メ
タ)アクリルアミド等、あるいはウレタン基を含有する
化合物、すなわち、ジ(−一メタクリロ牛ジエチル)コ
、lI−トリレンジウレタン、ジー(コーアクリロキシ
エチル)へキサメチレンジウレタン、又はポリオールと
ジイソシアネートとを予め反応させて得られる末端イソ
シアネート化 ゛合物に更にβ−ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートを反応せしめることで得られる(
メタ)アクリルウレタンオリゴマー、例えばすなわち、
コ、タートリレンジイソシアネートヲタモルとエチレン
グリコールを3モルとの反応生成物に7モルのβ−ヒド
ロキシエチルアクリレ−1t−反応して得られるオリゴ
マー又は2.2−ビス(ヒドロキシフェニル)−フロノ
ξン、λ、2−ビス(ヒドロキシエトキシフェニル)プ
ロパン、コ9,2−ビス(ヒドロキシエトキシエトキシ
フェニル)プロパン等のジアクリレート等が挙げられる
。
重合性不飽和化合物の含有量は光重合性組成物の全重量
基準で、好ましくは約7.y−63重量%、そしてより
好ましくは約13〜4!、を重量−である。
基準で、好ましくは約7.y−63重量%、そしてより
好ましくは約13〜4!、を重量−である。
本発明の光重合性組成物に好適に用いられる光重合開始
剤としては、前記重合性不飽和化合物の重合を開始させ
うる単一の化合物、または二種以上の化合物の組合せた
光重合開始剤系はすべて用いることができる。好ましく
は、この光重合開始剤又は光重合開始剤系は約3000
〜toooh。
剤としては、前記重合性不飽和化合物の重合を開始させ
うる単一の化合物、または二種以上の化合物の組合せた
光重合開始剤系はすべて用いることができる。好ましく
は、この光重合開始剤又は光重合開始剤系は約3000
〜toooh。
好ましくfi3300−!000にの範囲内に少なくと
も約goの分子吸光係数を有する成分を少なくとも一種
含有している。
も約goの分子吸光係数を有する成分を少なくとも一種
含有している。
光重合開始剤の好ましい具体例として、次の化合物を挙
げることができる。芳香族ケトン類、例えばベンゾフェ
ノン、$、!’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、p、4<’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、ダーメトキシーダ′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、p、4I’−ジメトキシインシフエノン、ダージメ
チルアミノベンゾ7二ノン、ダージメチルアミノアセト
フェノン、ベンジル、アントラキノン、2−tert
−ブチルアントラキノン、コーメチルアントラキノン、
7エナントラキノン、キサントン、チオキサントン、λ
−クロルーチオキサントン、コ、lI−ジエチルチオキ
サントン、フルオレノン、アクリドンおよびベンゾイン
、ベンゾインエーテル類、例エハヘンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタールおよび
コ、り。
げることができる。芳香族ケトン類、例えばベンゾフェ
ノン、$、!’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、p、4<’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、ダーメトキシーダ′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、p、4I’−ジメトキシインシフエノン、ダージメ
チルアミノベンゾ7二ノン、ダージメチルアミノアセト
フェノン、ベンジル、アントラキノン、2−tert
−ブチルアントラキノン、コーメチルアントラキノン、
7エナントラキノン、キサントン、チオキサントン、λ
−クロルーチオキサントン、コ、lI−ジエチルチオキ
サントン、フルオレノン、アクリドンおよびベンゾイン
、ベンゾインエーテル類、例エハヘンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタールおよび
コ、り。
3−トリアリールイミダゾール二量体類、例えばコー(
0−/ロロフェニル)−a、s−ジフェニルイミダゾー
ルニ量体、コー(0−クロロ7エ二ル)−+、、1−ジ
(m−メトキシフェニル)イミタソールニ量体、コー(
o−フルオロフェニル)−タ、ヨージフェニルイミダゾ
ールニ量体、コー(0−メトキシフェニル)−#、s−
ジフェニルイミダゾールニ量体、λ−(p−メトキシ7
エ二ル)−〇、j′−ジフェニルイミダゾールニ量体、
およびポリハロゲン化合物、例えば四臭化炭素フェニル
トリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチル
ケトン、および特開昭!J−7.7.7’721号、特
公昭zy−itiq号、特公昭37−boqb号、米国
特許第、y6is;弘jj号各公報類に開示されている
化合物。二種以上の組合せ、例えばコe4’*j )
!Jアリールイミダゾールニ量体とλ−メルカプトベン
ズオキサゾール又はロイコクリスタルバイオレット等と
の組合せ、また米国特許第J’127/l、/号明細書
く記載のり、lIl ++ビス(ジメチルアミノ)ベン
ゾフェノンとベンゾフェノン又はベンゾインメチルエー
テルとの組合せおよび米国特許第1I2391!;0号
明細書に記載の、ベンゾイル−N−メチルナフトチアゾ
リンと2.ダービス(トリクロロメチル)−ルー弘−メ
トキシフェニルトリアゾールの組合せ、また特開昭57
一−3402号公報に記載のジメチルチオキサントンと
ダージアルキルアミノ安息香酸エステルの組合せが挙げ
られる。
0−/ロロフェニル)−a、s−ジフェニルイミダゾー
ルニ量体、コー(0−クロロ7エ二ル)−+、、1−ジ
(m−メトキシフェニル)イミタソールニ量体、コー(
o−フルオロフェニル)−タ、ヨージフェニルイミダゾ
ールニ量体、コー(0−メトキシフェニル)−#、s−
ジフェニルイミダゾールニ量体、λ−(p−メトキシ7
エ二ル)−〇、j′−ジフェニルイミダゾールニ量体、
およびポリハロゲン化合物、例えば四臭化炭素フェニル
トリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチル
ケトン、および特開昭!J−7.7.7’721号、特
公昭zy−itiq号、特公昭37−boqb号、米国
特許第、y6is;弘jj号各公報類に開示されている
化合物。二種以上の組合せ、例えばコe4’*j )
!Jアリールイミダゾールニ量体とλ−メルカプトベン
ズオキサゾール又はロイコクリスタルバイオレット等と
の組合せ、また米国特許第J’127/l、/号明細書
く記載のり、lIl ++ビス(ジメチルアミノ)ベン
ゾフェノンとベンゾフェノン又はベンゾインメチルエー
テルとの組合せおよび米国特許第1I2391!;0号
明細書に記載の、ベンゾイル−N−メチルナフトチアゾ
リンと2.ダービス(トリクロロメチル)−ルー弘−メ
トキシフェニルトリアゾールの組合せ、また特開昭57
一−3402号公報に記載のジメチルチオキサントンと
ダージアルキルアミノ安息香酸エステルの組合せが挙げ
られる。
光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は好ましくけ
光重合性組成物の総重量基準で約0.1〜70重量%そ
してより好ましくは約0.2〜6重量−である。
光重合性組成物の総重量基準で約0.1〜70重量%そ
してより好ましくは約0.2〜6重量−である。
本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤とエチレン不
飽和化合物と結合剤を必須成分とするが、必要に応じて
熱重合防止剤、可塑剤、色素、変色剤、単官能エチレン
不飽和化合物、さらに基体表面への密着促進剤およびそ
の他の助剤類を併用してもよく、これによって目的とす
る感光層の写真性、焼出し性、膜物性等の性質を調節す
ることができる。
飽和化合物と結合剤を必須成分とするが、必要に応じて
熱重合防止剤、可塑剤、色素、変色剤、単官能エチレン
不飽和化合物、さらに基体表面への密着促進剤およびそ
の他の助剤類を併用してもよく、これによって目的とす
る感光層の写真性、焼出し性、膜物性等の性質を調節す
ることができる。
熱重合防止剤は、本発明の光重合性組成物の熱的な重合
又は経時的な重合を防止するために添加するもので、例
えば、p−メトキシフェノール、ヒドロキノン、t−ブ
チルカテコール、ピロガロール、コーヒドロキシベンゾ
フエノン、グーメトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、塩化第1銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、コ、6−ジーt−ブチルー
p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンイン、
ピクリン酸、p−トルイジン等が挙げられる0 2可塑剤は、感光層およびレジスト像の膜物性をコント
ロールするために添加するもので、例えば1ジブチルフ
タレート、ジアリルフタレート、ジオクチルフタレート
、ジアリルフタレート等の7タル酸エステル類;トリエ
チレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコ
ールジアセテート等のグリコールエステル類;トリクレ
ジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン
酸エステル1lyp−)ルエンスルホンアミド、ベンゼ
ンスルホンアミド、N−n−ブチルアセトアミド等のア
ミド類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジは一
ト、ジメチルセパケート、ジオクチルアゼレート、ジブ
チルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類;クエン酸
トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセ
チルエステル、ラウリン酸ブチル、4t、!−ジェポキ
シシクロヘキサンー1.コージカルボン酸ジオクチル等
が挙げられる。
又は経時的な重合を防止するために添加するもので、例
えば、p−メトキシフェノール、ヒドロキノン、t−ブ
チルカテコール、ピロガロール、コーヒドロキシベンゾ
フエノン、グーメトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、塩化第1銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、コ、6−ジーt−ブチルー
p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンイン、
ピクリン酸、p−トルイジン等が挙げられる0 2可塑剤は、感光層およびレジスト像の膜物性をコント
ロールするために添加するもので、例えば1ジブチルフ
タレート、ジアリルフタレート、ジオクチルフタレート
、ジアリルフタレート等の7タル酸エステル類;トリエ
チレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコ
ールジアセテート等のグリコールエステル類;トリクレ
ジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン
酸エステル1lyp−)ルエンスルホンアミド、ベンゼ
ンスルホンアミド、N−n−ブチルアセトアミド等のア
ミド類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジは一
ト、ジメチルセパケート、ジオクチルアゼレート、ジブ
チルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類;クエン酸
トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセ
チルエステル、ラウリン酸ブチル、4t、!−ジェポキ
シシクロヘキサンー1.コージカルボン酸ジオクチル等
が挙げられる。
色素の例は、ブリリアントグリーン、エオシン、エチル
バイオレット、エリスロシンB1メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ペイシックツクシン、フェノール
フタレイン、7.3−ジフェニルトリアジン、了りザリ
ンレッドS1チ七−ル7タレイン、メチルバイオレット
2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−
イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブ
ルー、メチルオレンジ、オレンジN1ジフェニルチオカ
ルバゾン、コ、クージクロロフルオレセイン、ノラメチ
ルレツド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン参B1α
−す7チルーレツド、ベンゾプルプリン#B、α−ナフ
チルレッド、ナイルブルーA17エナセタリン、メチル
バイオレット、マラカイトグリーン、バラツクシン、オ
イルブルー=b。
バイオレット、エリスロシンB1メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ペイシックツクシン、フェノール
フタレイン、7.3−ジフェニルトリアジン、了りザリ
ンレッドS1チ七−ル7タレイン、メチルバイオレット
2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−
イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブ
ルー、メチルオレンジ、オレンジN1ジフェニルチオカ
ルバゾン、コ、クージクロロフルオレセイン、ノラメチ
ルレツド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン参B1α
−す7チルーレツド、ベンゾプルプリン#B、α−ナフ
チルレッド、ナイルブルーA17エナセタリン、メチル
バイオレット、マラカイトグリーン、バラツクシン、オ
イルブルー=b。
3〔オリエント化学工業■製〕、ビクトリアピュアブル
ーBOH,スピロンブル一〇N(保士谷化学工業■製〕
、ローダミンB10−ダミン6Gなどである@ 変色剤は、露光により可視儂を与えることができるよう
に光重合性組成物に添加される。これらの具体例として
、前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルアニリ
ン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニ
ル−p−7二二レンジアミン、p−トルイジン、ダ、4
!′−ヒフェニルジアミン、0−クロロアニリン、p、
p’ 、 p” −ヘキサメチルトリアミノトリフェ
ニルメタン、p。
ーBOH,スピロンブル一〇N(保士谷化学工業■製〕
、ローダミンB10−ダミン6Gなどである@ 変色剤は、露光により可視儂を与えることができるよう
に光重合性組成物に添加される。これらの具体例として
、前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルアニリ
ン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニ
ル−p−7二二レンジアミン、p−トルイジン、ダ、4
!′−ヒフェニルジアミン、0−クロロアニリン、p、
p’ 、 p” −ヘキサメチルトリアミノトリフェ
ニルメタン、p。
p′−テトラメチルジアミノトリフェニルメタン、p、
p’、p”−トリアミノトリフェニルカルビノール、ロ
イコメチルバイオレッ′ト等が挙げられる。
p’、p”−トリアミノトリフェニルカルビノール、ロ
イコメチルバイオレッ′ト等が挙げられる。
密着促進剤の具体例としては、ベンズイミダゾール、ベ
ンズチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンズトリアゾ
ールなど特公昭!0−9/77号に記載の化合物、コー
メルカブトベンズチアゾール、−一メルカブトベンズイ
ミダゾールなど特開昭j−、7−70:1号忙記載の化
合物等が挙げられる。
ンズチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンズトリアゾ
ールなど特公昭!0−9/77号に記載の化合物、コー
メルカブトベンズチアゾール、−一メルカブトベンズイ
ミダゾールなど特開昭j−、7−70:1号忙記載の化
合物等が挙げられる。
本発明の光重合性組成物は、前述の各種構成成分を溶媒
中に溶解せしめ、所望の支持体上に公知の方法により塗
布して用いられる。その場合に使用される溶媒としては
エチレンジクロリド、モノクロルベンゼン、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルセ
ロソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、メタノール、エタ
ノール1n−プロノノール、インプロパツール、n−ブ
タノール、l−メトキシーコープロAノール、コーメト
キシー7−プロAノール、l−メトキシーコーアセトキ
シプロパン、−一メトキシー/−アセトキシプロ/qン
、メチルセロソルブ、トルエン、キシレンなどの単独、
又は混合物である。
中に溶解せしめ、所望の支持体上に公知の方法により塗
布して用いられる。その場合に使用される溶媒としては
エチレンジクロリド、モノクロルベンゼン、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルセ
ロソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、メタノール、エタ
ノール1n−プロノノール、インプロパツール、n−ブ
タノール、l−メトキシーコープロAノール、コーメト
キシー7−プロAノール、l−メトキシーコーアセトキ
シプロパン、−一メトキシー/−アセトキシプロ/qン
、メチルセロソルブ、トルエン、キシレンなどの単独、
又は混合物である。
本発明の光重合性組成物は、ドライフィルムレジストの
フォトレジスト層として好適である。その場合、フォト
レジスト層の厚みとしては 0.7μから500μが適
当であり、特に好ましくはlμから200μの範囲であ
る。また本発明の光重合性組成物を用いて感光性平版印
刷版を製造する場合、塗布量は一般的に乾燥時0./
−10,0?/m2 が適当であ04IIC好まL
< ff:、0. !r 〜!r、0?/m2 である
。
フォトレジスト層として好適である。その場合、フォト
レジスト層の厚みとしては 0.7μから500μが適
当であり、特に好ましくはlμから200μの範囲であ
る。また本発明の光重合性組成物を用いて感光性平版印
刷版を製造する場合、塗布量は一般的に乾燥時0./
−10,0?/m2 が適当であ04IIC好まL
< ff:、0. !r 〜!r、0?/m2 である
。
本発明の光重合性組成物をドライフィルムレジストとし
て使用する場合、好適な支持体としてポリアミド、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ビニル重合体およびセルロ
ースエステルなどのフィルムから選ばれ3μから700
μの厚みを持つものがよい。特に好適な支持体フィルム
は約23μの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフタレ
ートフィルムである。又この場合好適な保護フィルムと
してはポリオレフィンが挙げられ、特に好ましいものと
して20〜2jμの厚さのポリエチレンフィルムを挙げ
ることができる。
て使用する場合、好適な支持体としてポリアミド、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ビニル重合体およびセルロ
ースエステルなどのフィルムから選ばれ3μから700
μの厚みを持つものがよい。特に好適な支持体フィルム
は約23μの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフタレ
ートフィルムである。又この場合好適な保護フィルムと
してはポリオレフィンが挙げられ、特に好ましいものと
して20〜2jμの厚さのポリエチレンフィルムを挙げ
ることができる。
また本発明の光重合性組成物上フォトマスク用フィルム
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチ
レンテレフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチ
レンテレ7タレートフイルムを挙げることができる。
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチ
レンテレフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチ
レンテレ7タレートフイルムを挙げることができる。
また本発明の光重合性組成物を感光性平版印刷版の感光
層として使用する場合の好適な支持体としては、親水化
処理したアルミニウム板、たとえばシリケート処理した
アルミニウム板、陽極酸化したアルミニウム板、砂目立
てしたアルミニウム板、シリケート電着したアルミニウ
ム板があり、それ以外にも、亜鉛板、ステンレス板、ク
ローム処理鋼板、親水化処理したプラスチックフィルム
や紙を挙げることができる。
層として使用する場合の好適な支持体としては、親水化
処理したアルミニウム板、たとえばシリケート処理した
アルミニウム板、陽極酸化したアルミニウム板、砂目立
てしたアルミニウム板、シリケート電着したアルミニウ
ム板があり、それ以外にも、亜鉛板、ステンレス板、ク
ローム処理鋼板、親水化処理したプラスチックフィルム
や紙を挙げることができる。
また印刷用カラープルーフ、オーバーヘッドプロジェク
タ−用フィルム、第一原図用フィルムの製造忙、本発明
の光重合性組成物を用いる場合、これらに適する支持体
としてはポリエチレンテレ7タレートフイルム、三酢酸
セルa−ズフイルム等の透明フィルムや、これらのプラ
スチックフィルムの表面を化学的又は物理的にマット化
したもot−挙げることができる。
タ−用フィルム、第一原図用フィルムの製造忙、本発明
の光重合性組成物を用いる場合、これらに適する支持体
としてはポリエチレンテレ7タレートフイルム、三酢酸
セルa−ズフイルム等の透明フィルムや、これらのプラ
スチックフィルムの表面を化学的又は物理的にマット化
したもot−挙げることができる。
本発明の光重合性組成物は、弱アルカリ水溶液によって
fi儂できる。また水と混和性の有機溶剤を少量(約2
0重量%以下)含んでいてt屯い。
fi儂できる。また水と混和性の有機溶剤を少量(約2
0重量%以下)含んでいてt屯い。
添加する適轟な塩基としてはアルカリ金属又はアンモニ
ウム、ダ級アンモニクムの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩
、ケイ酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、酢酸塩及びアミ
ン類から選はれる。それらの具体的な例としては、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化アンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、リン
酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム
、酢酸ナトリウム、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミンが挙げられる。特に炭酸ナトリウムのl−コチ
水溶液が好ましい。
ウム、ダ級アンモニクムの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩
、ケイ酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、酢酸塩及びアミ
ン類から選はれる。それらの具体的な例としては、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化アンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、リン
酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム
、酢酸ナトリウム、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミンが挙げられる。特に炭酸ナトリウムのl−コチ
水溶液が好ましい。
本発明の結合剤を含む光重合性組成物が、フィルム形成
時の可撓性、基体との密着性に優れ容易なレジスト剥膜
性を有し、しかも原稿画像の忠実な再現性および高い解
儂力を与えることは驚くべきことである。結果として、
高精度で基体の加工が可能となる。
時の可撓性、基体との密着性に優れ容易なレジスト剥膜
性を有し、しかも原稿画像の忠実な再現性および高い解
儂力を与えることは驚くべきことである。結果として、
高精度で基体の加工が可能となる。
さらに本発明の光重合性組成物は耐コールドフロー性が
優れていて、表面の粘着性の低いフォトレジスト表面を
与える。iた基体への密着性が優れているため通常の塩
化第二鉄水溶液、過硫酸アンモニウム水溶液等のエツチ
ング液に対してもまたハンダメッキ、ピロリン酸鋼メッ
キ、硫酸銅メッキやその他の通常のメッキ処理中におい
ても十分なレジスト性を有している。
優れていて、表面の粘着性の低いフォトレジスト表面を
与える。iた基体への密着性が優れているため通常の塩
化第二鉄水溶液、過硫酸アンモニウム水溶液等のエツチ
ング液に対してもまたハンダメッキ、ピロリン酸鋼メッ
キ、硫酸銅メッキやその他の通常のメッキ処理中におい
ても十分なレジスト性を有している。
本発明の組成はフォトレジストに特に好ましく適用でき
るが、別の用途にも有利である。例えば、本発明の組成
物は、予め感光性を付与した平版印刷版CF2版)の製
造にも使用することができる◎「実施例」 実施例/−/3 本発明の第1表に記載した共重合体あるいは比較のため
に第2表に記載した比軟用共重合体を含み、他の要素は
同一の下記感光液を調製し、ロッドコーターで、−3μ
厚のポリエチレンテレ7タレートフイルムに乾燥膜厚が
約30μになるように塗布し、lQOoCのオーブン中
で3分間乾燥した。
るが、別の用途にも有利である。例えば、本発明の組成
物は、予め感光性を付与した平版印刷版CF2版)の製
造にも使用することができる◎「実施例」 実施例/−/3 本発明の第1表に記載した共重合体あるいは比較のため
に第2表に記載した比軟用共重合体を含み、他の要素は
同一の下記感光液を調製し、ロッドコーターで、−3μ
厚のポリエチレンテレ7タレートフイルムに乾燥膜厚が
約30μになるように塗布し、lQOoCのオーブン中
で3分間乾燥した。
結合剤(第1表及び第2表記載)の ’I!?f33
重量%溶液 J、l−ジメチルチオキサントン 0.3fp−ジ
メチルアミノ安息香酸エテル 0.3J ?トリフロモ
メチルフェニルスルホン o、IIyトリメゾ
ロールプロパン)97 s、Ofクリレート トリメチロールプロパンシフ/ !r、Ofリ
レート テトラエテレングリコールジア コ、oy−クリ
レート ロイコメチルバイオレット o、oty/−フ
ェニル−3−モルホリノ o、oqy−メチル−/
、3.lI−トリア ゾール−コーチオン ビクトリアピュアブルーBOHO,0/ ?メチルセロ
ソルブ 10y−整面し、乾燥し
た鋼張積層板上に、上記塗膜面が銅表面に接触するよう
に、AコlImラミネーター(DuPont社製)を用
いて720°(4”ラミネートした。配線パターン(導
体パターン(線幅100μ)が不透明背景上に透明部分
として現れている高コントラスト透明体画像)Ik通し
て露光した(コKW超高圧水銀灯ニジエツトライト(オ
ーク■製)t−使用)。−ポ、リエテレンテレフタレ−
トフイルムを剥ぎ取t)、UO″Co/重量%炭酸ナト
リウム水溶液を/ 、 !r kf/ cm2で6θ秒
間スプレーするととにより未露光部を除去した。得られ
るレジスト像の画像の形成状況や画線の切れ全観察し、
更に画線幅の太りを測定した。次に配線パターンの代9
に解像力チャートを焼きつけて、上記と同様に未露光部
を除去してレジスト像が判別できる線幅を観察して解像
力とした。また、内径コ、j11mlのスルホール10
0個を有する両面鋼張積層板の両側に、同様圧してレジ
ストフィルムをラミネー)t、、JKW超高超高圧水銀
灯両面同時1装光装置H−b−N型(オーク■製)K:
!り、スルホール上にランド径J、91111の円形ノ
ターンを焼きつけて上記と同様に未露光部を除去してテ
ントを形成した。テントの強度を評価するため、この板
t−34A0Cでzkp/em2r)熱水スプレーヲ通
過させた後で破れないで残っているテントの数を数えて
、テントの残存率(チ)を求めた。
重量%溶液 J、l−ジメチルチオキサントン 0.3fp−ジ
メチルアミノ安息香酸エテル 0.3J ?トリフロモ
メチルフェニルスルホン o、IIyトリメゾ
ロールプロパン)97 s、Ofクリレート トリメチロールプロパンシフ/ !r、Ofリ
レート テトラエテレングリコールジア コ、oy−クリ
レート ロイコメチルバイオレット o、oty/−フ
ェニル−3−モルホリノ o、oqy−メチル−/
、3.lI−トリア ゾール−コーチオン ビクトリアピュアブルーBOHO,0/ ?メチルセロ
ソルブ 10y−整面し、乾燥し
た鋼張積層板上に、上記塗膜面が銅表面に接触するよう
に、AコlImラミネーター(DuPont社製)を用
いて720°(4”ラミネートした。配線パターン(導
体パターン(線幅100μ)が不透明背景上に透明部分
として現れている高コントラスト透明体画像)Ik通し
て露光した(コKW超高圧水銀灯ニジエツトライト(オ
ーク■製)t−使用)。−ポ、リエテレンテレフタレ−
トフイルムを剥ぎ取t)、UO″Co/重量%炭酸ナト
リウム水溶液を/ 、 !r kf/ cm2で6θ秒
間スプレーするととにより未露光部を除去した。得られ
るレジスト像の画像の形成状況や画線の切れ全観察し、
更に画線幅の太りを測定した。次に配線パターンの代9
に解像力チャートを焼きつけて、上記と同様に未露光部
を除去してレジスト像が判別できる線幅を観察して解像
力とした。また、内径コ、j11mlのスルホール10
0個を有する両面鋼張積層板の両側に、同様圧してレジ
ストフィルムをラミネー)t、、JKW超高超高圧水銀
灯両面同時1装光装置H−b−N型(オーク■製)K:
!り、スルホール上にランド径J、91111の円形ノ
ターンを焼きつけて上記と同様に未露光部を除去してテ
ントを形成した。テントの強度を評価するため、この板
t−34A0Cでzkp/em2r)熱水スプレーヲ通
過させた後で破れないで残っているテントの数を数えて
、テントの残存率(チ)を求めた。
導体ノにターンを焼き付は現像した銅張積層板を塩化第
一鉄の3!チ水溶液のスプレー(ダ0°C1/ 、 s
kg/cm2)でエツチングした。エツチングはレジ
スト画線に覆われていない部分の銅が完全に溶解するま
で実施した。エツチングした板を水洗し、乾燥して未だ
レジストで被覆されている銅の導体パターンを得た。と
のレジス)i4L<7°Cのタチ水酸化ナトリウム水溶
液で1分間スプレーして銅の表面から剥膜して剥膜性を
調べた◇これらの結果を第3表に示す。
一鉄の3!チ水溶液のスプレー(ダ0°C1/ 、 s
kg/cm2)でエツチングした。エツチングはレジ
スト画線に覆われていない部分の銅が完全に溶解するま
で実施した。エツチングした板を水洗し、乾燥して未だ
レジストで被覆されている銅の導体パターンを得た。と
のレジス)i4L<7°Cのタチ水酸化ナトリウム水溶
液で1分間スプレーして銅の表面から剥膜して剥膜性を
調べた◇これらの結果を第3表に示す。
第3表の結果より明らかなように、本発明の重合体を用
い九場合には、レジスト画線の質が良好で、画線幅の再
現性に優れかつ、高解像力が得られる。またテントの強
度も高く、剥膜性も良好である。
い九場合には、レジスト画線の質が良好で、画線幅の再
現性に優れかつ、高解像力が得られる。またテントの強
度も高く、剥膜性も良好である。
実施例 /4I
下記組成の感光液を調製し、ロッドコーターで、15μ
厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚が
約50μになるように塗布し、lOOoCのオーブン中
でS分間乾燥して、感光層を形成した。
厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚が
約50μになるように塗布し、lOOoCのオーブン中
でS分間乾燥して、感光層を形成した。
2、ダージメテルテオキサントン 0.3を亭−N、
N−ジメチルアミノ安息 0.3y−香酸エテル トリメデロールプロノ2ンジアクリ 4t、Ofレー
ト トリメテロールプαノ破ントリアク λ、41?リレ
ート コ、−一ビス(アクリロイルオキ !、6?ジェトキ
シエトキシフェニル) 一ブーツにン ロイコメチルバイオレット 0.Otfトリフ
ロモメチルフェニルスル O,ダ?ホン /−7二二ルー3−モルホリ/ 0.Ogfメチル
−/、J、ダートリア ゾールーコーテオ/ ビクトリアビニアープルーBOHo、oot )共重合
体(第1表の番号l)の ダj?メチルセロソル
ブ/メチルエ チルケトン(/’//)33重 量−溶液 メテルセロノルブ 10fこの感
光性ドライフィルムレジスト材料ヲ実施゛例1と同様に
して銅張積層板上にラミネートした。
N−ジメチルアミノ安息 0.3y−香酸エテル トリメデロールプロノ2ンジアクリ 4t、Ofレー
ト トリメテロールプαノ破ントリアク λ、41?リレ
ート コ、−一ビス(アクリロイルオキ !、6?ジェトキ
シエトキシフェニル) 一ブーツにン ロイコメチルバイオレット 0.Otfトリフ
ロモメチルフェニルスル O,ダ?ホン /−7二二ルー3−モルホリ/ 0.Ogfメチル
−/、J、ダートリア ゾールーコーテオ/ ビクトリアビニアープルーBOHo、oot )共重合
体(第1表の番号l)の ダj?メチルセロソル
ブ/メチルエ チルケトン(/’//)33重 量−溶液 メテルセロノルブ 10fこの感
光性ドライフィルムレジスト材料ヲ実施゛例1と同様に
して銅張積層板上にラミネートした。
光学濃度差0.1!のステップウェッジを重ね、ジェッ
トライト(オーク■製)で20カウント露光した。ポリ
エチレンテレフタレートフィルムを剥ぎ取った後で、ダ
06Coi−炭酸ナトリウム水溶液t−60秒間スプレ
ーすることで未露光部を溶解した。こうして得られるス
テップウェッジの画僚の段数を読みとったところ、tw
itまで硬化していた。
トライト(オーク■製)で20カウント露光した。ポリ
エチレンテレフタレートフィルムを剥ぎ取った後で、ダ
06Coi−炭酸ナトリウム水溶液t−60秒間スプレ
ーすることで未露光部を溶解した。こうして得られるス
テップウェッジの画僚の段数を読みとったところ、tw
itまで硬化していた。
また本組成物を用いて得られた配fsノターンのレジス
ト像は30μの解像力を持ち原稿の忠実な線幅の再現を
示した。また、塩化第二鉄のエツチング液、硫酸鋼メッ
キ液、ピロ銅メッキ液、ハンダメッキ液に十分耐えるも
のであつ九。
ト像は30μの解像力を持ち原稿の忠実な線幅の再現を
示した。また、塩化第二鉄のエツチング液、硫酸鋼メッ
キ液、ピロ銅メッキ液、ハンダメッキ液に十分耐えるも
のであつ九。
そして、得られたレジストを剥離するKは、IIOoC
で1Iqb水酸化ナトリウム水溶液を八!rkp/el
12でコ分間吹きつけることにより可能であった。
で1Iqb水酸化ナトリウム水溶液を八!rkp/el
12でコ分間吹きつけることにより可能であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を
含有する付加重合性不飽和化合物と光重合開始剤および
結合剤を含有する光重合性組成物において、前記結合剤
が次の(A)、(B)、(C)の各群より少なくとも1
種ずつ選ばれた重合性物質を共重合させたものであり、
重量平均分子量が5,000〜1,000,000の多
元共重合体であることを特徴とする光重合性組成物。 (A)下記一般式( I )で表わされる重合性物質▲数
式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、式中Arは置換もしくは無置換のフェニル基
) (B)下記一般式(II)で表わされる重合性物質▲数式
、化学式、表等があります▼(II) (ただし、式中Rは炭素数1〜6のアルキル基) (C)α,β−不飽和カルボン酸である重合性物質
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5488285A JPS61213213A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5488285A JPS61213213A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61213213A true JPS61213213A (ja) | 1986-09-22 |
Family
ID=12982957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5488285A Pending JPS61213213A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61213213A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01227141A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-09-11 | Hercules Inc | 光重合可能な組成物 |
| JPH01263645A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性組成物 |
| US5919603A (en) * | 1992-08-28 | 1999-07-06 | Hitachi, Ltd. | Process for producing printed wiring board |
| JP2007034286A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-02-08 | Eternal Chemical Co Ltd | フォトイメージャブル組成物 |
| JP2007041497A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-02-15 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂積層体 |
| JP2012229421A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Korea Kumho Petrochemical Co Ltd | 有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びその共重合体を含む組成物 |
| KR20140116021A (ko) | 2013-03-21 | 2014-10-01 | 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 | 절연막용 감광성 수지 조성물 및 경화물 |
| US9557444B2 (en) | 2013-08-29 | 2017-01-31 | Chi Mei Corporation | Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, color filter, method for manufacturing the same, and liquid crystal display apparatus |
| US10088612B2 (en) | 2014-11-18 | 2018-10-02 | Chi Mei Corporation | Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition for color filter containing the same and uses thereof |
| US10495919B2 (en) | 2017-08-14 | 2019-12-03 | Chi Mei Corporation | Photosensitive resin composition and manufacturing method of the same, black matrix, pixel layer, protection film, color filter, and liquid crystal display apparatus |
| KR20200135969A (ko) | 2018-03-27 | 2020-12-04 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지, 그것을 필수 성분으로 하는 감광성 수지 조성물 및 그 경화물 |
| KR20210034525A (ko) | 2019-09-20 | 2021-03-30 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 에폭시아크릴레이트 수지, 알칼리 가용성 수지, 그 제조 방법, 그것을 포함하는 수지 조성물 및 그 경화물 |
| KR20210122191A (ko) | 2020-03-31 | 2021-10-08 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지, 그것을 필수 성분으로 하는 감광성 수지 조성물 및 당해 조성물의 경화물 |
| KR20230007429A (ko) | 2020-05-19 | 2023-01-12 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지 및 그 제조 방법, 및 감광성 수지 조성물 및 그 경화물 |
-
1985
- 1985-03-19 JP JP5488285A patent/JPS61213213A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01227141A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-09-11 | Hercules Inc | 光重合可能な組成物 |
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| JP2007034286A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-02-08 | Eternal Chemical Co Ltd | フォトイメージャブル組成物 |
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| KR20140116021A (ko) | 2013-03-21 | 2014-10-01 | 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 | 절연막용 감광성 수지 조성물 및 경화물 |
| US9557444B2 (en) | 2013-08-29 | 2017-01-31 | Chi Mei Corporation | Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, color filter, method for manufacturing the same, and liquid crystal display apparatus |
| US10088612B2 (en) | 2014-11-18 | 2018-10-02 | Chi Mei Corporation | Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition for color filter containing the same and uses thereof |
| US10495919B2 (en) | 2017-08-14 | 2019-12-03 | Chi Mei Corporation | Photosensitive resin composition and manufacturing method of the same, black matrix, pixel layer, protection film, color filter, and liquid crystal display apparatus |
| KR20200135969A (ko) | 2018-03-27 | 2020-12-04 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지, 그것을 필수 성분으로 하는 감광성 수지 조성물 및 그 경화물 |
| KR20210034525A (ko) | 2019-09-20 | 2021-03-30 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 에폭시아크릴레이트 수지, 알칼리 가용성 수지, 그 제조 방법, 그것을 포함하는 수지 조성물 및 그 경화물 |
| KR20250115970A (ko) | 2019-09-20 | 2025-07-31 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 에폭시아크릴레이트 수지, 알칼리 가용성 수지, 그 제조 방법, 그것을 포함하는 수지 조성물 및 그 경화물 |
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| KR20230007429A (ko) | 2020-05-19 | 2023-01-12 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 중합성 불포화기 함유 알칼리 가용성 수지 및 그 제조 방법, 및 감광성 수지 조성물 및 그 경화물 |
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