JPS61213221A - プラズマ重合膜の製法 - Google Patents
プラズマ重合膜の製法Info
- Publication number
- JPS61213221A JPS61213221A JP60055549A JP5554985A JPS61213221A JP S61213221 A JPS61213221 A JP S61213221A JP 60055549 A JP60055549 A JP 60055549A JP 5554985 A JP5554985 A JP 5554985A JP S61213221 A JPS61213221 A JP S61213221A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- film
- polymerized film
- plasma polymerization
- plasma polymerized
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラズマ重合膜の製法に関し、特に低い摩擦
係数を有し固体の潤滑膜として有用なプラズマ重合膜の
製法に関する。
係数を有し固体の潤滑膜として有用なプラズマ重合膜の
製法に関する。
磁気テープ、磁気ディスク等の物品は、使用時に他の機
構要素１機械部材、物品等と摺動関係に置かれるが、こ
れらの摺動面には良好な潤滑性が求められる。
構要素１機械部材、物品等と摺動関係に置かれるが、こ
れらの摺動面には良好な潤滑性が求められる。
従来、このような摺動面の潤滑性を向上させる方法の１
つとして、脂肪酸等からなる有機潤滑剤を摺動面に塗布
する方法が知られ、磁気テープ。
つとして、脂肪酸等からなる有機潤滑剤を摺動面に塗布
する方法が知られ、磁気テープ。
磁気ディスク等に利用されている。しかし、この方法は
潤滑性を摺動面に均一に塗布することが容易でないこと
、被塗布面の材質によって効果が異なり、満足できる潤
滑性が必ずしも得られないこと、繰返し使用により次第
に潤滑剤が失われるために潤滑性の耐久性が劣ること、
耐熱性がなく高温では使用できないこと等の欠点を有す
る上１時計、ロボット等の精密機械には適用できないと
いう難点も有する。他の潤滑性を向上させる方法として
、例えばグラファイト粉末、硫化モリブデン粉末、酸化
鉛、フッ化カルシウムのような無機粉末を摺動面に塗布
する方法があり、歯車、軸受等の機械要素に利用されて
いるが、この方法も前記の有機潤滑剤と同様の欠点を有
する。さらに他の潤滑性を向上させる方法として、ポリ
テトラプルオロエチレン等からなる固体の潤滑膜を摺動
面上に形成する方法が知られており、耐薬品性が要求さ
れる摺動面、耐熱性が要求される摺動面等に使用されて
いるが、形成できる潤滑膜が数μｍ以上のかなり厚いも
のであるため、薄い潤滑膜が求められる精密機械の軸受
、歯車等、ビデオヘッド。
潤滑性を摺動面に均一に塗布することが容易でないこと
、被塗布面の材質によって効果が異なり、満足できる潤
滑性が必ずしも得られないこと、繰返し使用により次第
に潤滑剤が失われるために潤滑性の耐久性が劣ること、
耐熱性がなく高温では使用できないこと等の欠点を有す
る上１時計、ロボット等の精密機械には適用できないと
いう難点も有する。他の潤滑性を向上させる方法として
、例えばグラファイト粉末、硫化モリブデン粉末、酸化
鉛、フッ化カルシウムのような無機粉末を摺動面に塗布
する方法があり、歯車、軸受等の機械要素に利用されて
いるが、この方法も前記の有機潤滑剤と同様の欠点を有
する。さらに他の潤滑性を向上させる方法として、ポリ
テトラプルオロエチレン等からなる固体の潤滑膜を摺動
面上に形成する方法が知られており、耐薬品性が要求さ
れる摺動面、耐熱性が要求される摺動面等に使用されて
いるが、形成できる潤滑膜が数μｍ以上のかなり厚いも
のであるため、薄い潤滑膜が求められる精密機械の軸受
、歯車等、ビデオヘッド。
磁気テープ、磁気ディスク等には適用できないという欠
点を有する。
点を有する。
本発明は、摩擦係数が低く、非常に薄い膜厚でも潤滑性
に優れ、かつ耐久性および耐熱性が良好である固体の潤
滑膜として有用なプラズマ重合膜の製法を提供するもの
である。
に優れ、かつ耐久性および耐熱性が良好である固体の潤
滑膜として有用なプラズマ重合膜の製法を提供するもの
である。
本発明によると、アルカンおよびハロゲン化アルカンか
ら選ばれる１種はたけ２種以上のモノマー化合物を含有
するガスをパルス放電によるプラズマ重合に供すること
からなるプラズマ重合膜の製法が提供される。
ら選ばれる１種はたけ２種以上のモノマー化合物を含有
するガスをパルス放電によるプラズマ重合に供すること
からなるプラズマ重合膜の製法が提供される。
本発明の製法において、プラズマ重合膜は、プラズマ重
合の反応帯域に置かれた基体の表面上に形成される。
合の反応帯域に置かれた基体の表面上に形成される。
本発明の製法には、モノマー化合物としてアルカン、ハ
ロゲン化アルカンまたはこれらの混合物が用いられる。
ロゲン化アルカンまたはこれらの混合物が用いられる。
本発明の製法に用いられるアルカン、すなわち飽和脂肪
族炭化水素としては、後述のプラズマ重合の反応条件下
で気体状であればいずれのアルカンも使用することがで
きる。
族炭化水素としては、後述のプラズマ重合の反応条件下
で気体状であればいずれのアルカンも使用することがで
きる。
このようなアルカンは、好ましくは炭素原子数１〜１０
、より好ましくは３〜８のものであり１例えば、メタン
、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、ノナン。
、より好ましくは３〜８のものであり１例えば、メタン
、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、ノナン。
デカンおよびこれらの異性体が挙げられ、特に好ましい
ものは、プロパン、ｎ−ブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘ
キサン、ｎ−ヘプタンおよびｎ−オクタンである。
ものは、プロパン、ｎ−ブタン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘ
キサン、ｎ−ヘプタンおよびｎ−オクタンである。
本発明の製法に用いられるハロゲン化アルカンは、アル
カンの水素原子の少なくとも１つがフッ素、塩素、臭素
またはヨウ素のハロゲン原子、好ましくはフッ素原子ま
たは塩素原子により置換されたものであり、後述のプラ
ズマ重合の反応条件下で気体状であればいずれのハロゲ
ン化アルカンも使用することができる。このようなハロ
ゲン化アルカンは、好ましくは炭素原子数１〜１ｏ、よ
り好ましくは２〜６のものである。
カンの水素原子の少なくとも１つがフッ素、塩素、臭素
またはヨウ素のハロゲン原子、好ましくはフッ素原子ま
たは塩素原子により置換されたものであり、後述のプラ
ズマ重合の反応条件下で気体状であればいずれのハロゲ
ン化アルカンも使用することができる。このようなハロ
ゲン化アルカンは、好ましくは炭素原子数１〜１ｏ、よ
り好ましくは２〜６のものである。
このようなハロゲン化アルカンとしては、例えば、次の
ものを挙げることができる。なお、以下において例えば
「ペンタン類」はｎ−ペンタンおよびその異性体である
アルカンを意味する。モノフルオロメタン、ジフルオロ
メタン、トリフルオロメタン、テトラフルオロメタン、
モノクロロメタン、ジクロロメタン、トリクロロメタン
、テトラクロロメタン、モノフルオロジクロロメタン、
モノフルオロエタン、トリプルオロエタン、テトラフル
オロエタン、ペンタフルオロエタン、ヘキサフルオロエ
タン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ヘキサク
ロロエタン、ジフルオロジクロロエタン、トリフルオロ
トリクロロエタン、モノフルオロプロパン、トリフルオ
ロプロパン、ペンタフルオロプロパン、パーフルオロプ
ロパン、ジクロロプロパン、テトラクロロプロパン、ヘ
キサクロロプロパン、パークロロプロパン、ジフルオロ
ジクロロプロパン、テトラフルオロジクロロプロパン、
ブロモメタン、メチレンブロマイド、ブロモホルム、カ
ーボンテトラブロマイド、テトラブロモエタン、ペンタ
ブロモエタン、メチルヨーシト、ショートメタン、モノ
フルオロブタン類。
ものを挙げることができる。なお、以下において例えば
「ペンタン類」はｎ−ペンタンおよびその異性体である
アルカンを意味する。モノフルオロメタン、ジフルオロ
メタン、トリフルオロメタン、テトラフルオロメタン、
モノクロロメタン、ジクロロメタン、トリクロロメタン
、テトラクロロメタン、モノフルオロジクロロメタン、
モノフルオロエタン、トリプルオロエタン、テトラフル
オロエタン、ペンタフルオロエタン、ヘキサフルオロエ
タン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ヘキサク
ロロエタン、ジフルオロジクロロエタン、トリフルオロ
トリクロロエタン、モノフルオロプロパン、トリフルオ
ロプロパン、ペンタフルオロプロパン、パーフルオロプ
ロパン、ジクロロプロパン、テトラクロロプロパン、ヘ
キサクロロプロパン、パークロロプロパン、ジフルオロ
ジクロロプロパン、テトラフルオロジクロロプロパン、
ブロモメタン、メチレンブロマイド、ブロモホルム、カ
ーボンテトラブロマイド、テトラブロモエタン、ペンタ
ブロモエタン、メチルヨーシト、ショートメタン、モノ
フルオロブタン類。
トリフルオロブタン類、テトラフルオロブタン類、オク
タフルオロブタン類、ジフルオロブタン類、モノフルオ
ロペンタン類、ペンタフルオロペンタン類、オクタクロ
ロペンタン類、パークロロペンタン類、トリフルオロト
リクロロペンタン類、テトラフルオロヘキサン類、ノナ
クロロヘキサン類。
タフルオロブタン類、ジフルオロブタン類、モノフルオ
ロペンタン類、ペンタフルオロペンタン類、オクタクロ
ロペンタン類、パークロロペンタン類、トリフルオロト
リクロロペンタン類、テトラフルオロヘキサン類、ノナ
クロロヘキサン類。
ペンタフルオロトリクロロヘキサン類、テトラフルオロ
へブタン類、ヘキサフルオロへブタン類、トリフルオロ
ペンタクロロへブタン類、ジフルオロオクタン類、ペン
タフルオロオクタン類、ジフルオロテトラフルオロオク
タン類、モノフルオロノナン類、ヘキサフルオロノナン
類、デカクロロノナン類、ヘプタフルオロへキサクロロ
ノナン類、ジフルオロデカン類、ペンタフルオロデカン
類、テトラクロロデカン類、テトラフルオロテトラクロ
ロデカン類、オクタデカクロロデカン類等を挙げること
かでき、特に好ましいハロゲン化アルカンは、モノフル
オロエタン、ジフルオロエタン、トリフルオロエタン、
テトラフルオロエタン、ペンタフルオロエタン、モノフ
ルオロプロパン、ジフルオロプロパン、トクフルオロプ
ロパン、テトラフルオロプロパン、ペンタフルオロプロ
パン、モノフルオロブタン、ジフルオロブタン、トリフ
ルオロブタン、テトラフルオロブタン、ペンタフルオロ
ブタンである。
へブタン類、ヘキサフルオロへブタン類、トリフルオロ
ペンタクロロへブタン類、ジフルオロオクタン類、ペン
タフルオロオクタン類、ジフルオロテトラフルオロオク
タン類、モノフルオロノナン類、ヘキサフルオロノナン
類、デカクロロノナン類、ヘプタフルオロへキサクロロ
ノナン類、ジフルオロデカン類、ペンタフルオロデカン
類、テトラクロロデカン類、テトラフルオロテトラクロ
ロデカン類、オクタデカクロロデカン類等を挙げること
かでき、特に好ましいハロゲン化アルカンは、モノフル
オロエタン、ジフルオロエタン、トリフルオロエタン、
テトラフルオロエタン、ペンタフルオロエタン、モノフ
ルオロプロパン、ジフルオロプロパン、トクフルオロプ
ロパン、テトラフルオロプロパン、ペンタフルオロプロ
パン、モノフルオロブタン、ジフルオロブタン、トリフ
ルオロブタン、テトラフルオロブタン、ペンタフルオロ
ブタンである。
上記のモノマー化合物のガスを２種以上組合せて用いる
場合には、それらの混合ガスとしてプラズマ重合反応器
に導入してもよいし、別々にプラズマ重合反応器に導入
して反応器内で混合させてもよい。また、プラズマ重合
に供されるこれらモノマー化合物を含有するガスには、
アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン等の不活性ガス
をキャリアガス等として混合してプラズマ重合反応器に
導入することができる。
場合には、それらの混合ガスとしてプラズマ重合反応器
に導入してもよいし、別々にプラズマ重合反応器に導入
して反応器内で混合させてもよい。また、プラズマ重合
に供されるこれらモノマー化合物を含有するガスには、
アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン等の不活性ガス
をキャリアガス等として混合してプラズマ重合反応器に
導入することができる。
本発明の製法においては、上記モノマー化合物含有ガス
がパルス放電によるプラズマ重合に供される。パルス放
電は周期的に放電電力のオン（ＯＮ）−オフ（ＯＦＦ）
を繰返して行うが、好ましくは、第１図に示す概念図の
ように、０．０１秒以上、１０秒未満のオン時間（パル
ス幅）および０．０１秒以上、１０秒未満のオフ時間で
、かつ０．０１−１０秒の周期によりパルス放電を繰返
す。周期が上記範囲外となる場合、オン時間が上記範囲
より長い場合またはオフ時間が上記範囲より長い場合に
は低い摩擦係数のプラズマ重合膜が得難く、オン時間が
上記範囲より短い場合またはオフ時間が上記範囲より長
い場合は、プラズマ重合速度が遅くなる。
がパルス放電によるプラズマ重合に供される。パルス放
電は周期的に放電電力のオン（ＯＮ）−オフ（ＯＦＦ）
を繰返して行うが、好ましくは、第１図に示す概念図の
ように、０．０１秒以上、１０秒未満のオン時間（パル
ス幅）および０．０１秒以上、１０秒未満のオフ時間で
、かつ０．０１−１０秒の周期によりパルス放電を繰返
す。周期が上記範囲外となる場合、オン時間が上記範囲
より長い場合またはオフ時間が上記範囲より長い場合に
は低い摩擦係数のプラズマ重合膜が得難く、オン時間が
上記範囲より短い場合またはオフ時間が上記範囲より長
い場合は、プラズマ重合速度が遅くなる。
このとき、用いる放電方式には特に制限はなく、例えば
直流放電、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電の
いずれでもよい。
直流放電、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電の
いずれでもよい。
本発明の製法における他の条件は特に制約はない。典型
的な条件においては、プラズマ重合の反応帯域、具体的
には例えば基体の表面から垂直方向に１〜３ａｍｌｌれ
た領域における放電電力がオン（ＯＮ）の時のプラズマ
の電子温度は、０．５ Ｘ １０’〜８Ｘ１０’にの範
囲で選ばれる。ここで電子温度とは、特開昭５４−１３
５５７４号公報に開示されたプラズマ特性測定用探針を
用いる方法により測定されるものであり、プラズマ励起
のための放電電力、放電電流、モノマー化合物を含むガ
ス圧、該ガスの流量、電極の構造、処理する基体の位置
等を変えることで所望の値に調節することができる。ま
た、プラズマ重合中のプラズマ重合反応器の真空度は通
常Ｉ Ｘ １０−３〜Ｉ Ｔｏｒｒでよく、プラズマ重
合反応器に流入するモノマー化合物を含むガスの流量は
、例えばプラズマ反応器の内容積ｉｏｏ ｎ当り０．１
〜１００ｃｃ（ＳＴＰ）／分でよい。プラズマ重合中の
基体の温度にも特に制約はないが、通常は０〜３００℃
である。
的な条件においては、プラズマ重合の反応帯域、具体的
には例えば基体の表面から垂直方向に１〜３ａｍｌｌれ
た領域における放電電力がオン（ＯＮ）の時のプラズマ
の電子温度は、０．５ Ｘ １０’〜８Ｘ１０’にの範
囲で選ばれる。ここで電子温度とは、特開昭５４−１３
５５７４号公報に開示されたプラズマ特性測定用探針を
用いる方法により測定されるものであり、プラズマ励起
のための放電電力、放電電流、モノマー化合物を含むガ
ス圧、該ガスの流量、電極の構造、処理する基体の位置
等を変えることで所望の値に調節することができる。ま
た、プラズマ重合中のプラズマ重合反応器の真空度は通
常Ｉ Ｘ １０−３〜Ｉ Ｔｏｒｒでよく、プラズマ重
合反応器に流入するモノマー化合物を含むガスの流量は
、例えばプラズマ反応器の内容積ｉｏｏ ｎ当り０．１
〜１００ｃｃ（ＳＴＰ）／分でよい。プラズマ重合中の
基体の温度にも特に制約はないが、通常は０〜３００℃
である。
またプラズマ重合に用いる反応装置も特に制限されず、
内部電極方式、無電極方式のいずれでもよく、電極コイ
ルの形状、マイクロ波放電の場合キャビティやアンテナ
構造にも制約はなく、プラズマ重合等に用いられる通常
の装置を利用することができる。
内部電極方式、無電極方式のいずれでもよく、電極コイ
ルの形状、マイクロ波放電の場合キャビティやアンテナ
構造にも制約はなく、プラズマ重合等に用いられる通常
の装置を利用することができる。
本発明の製法によると、例えば１分〜１時間のプラズマ
重合により、反応帯域に配置した基体表面上に３人〜１
μ烏の厚さで均一にプラズマ重合膜を形成することがで
きる。このプラズマ重合膜は、平均厚さ３〜５０人程度
の極薄の膜でも耐久性のある潤滑膜として十分に有用で
ある。
重合により、反応帯域に配置した基体表面上に３人〜１
μ烏の厚さで均一にプラズマ重合膜を形成することがで
きる。このプラズマ重合膜は、平均厚さ３〜５０人程度
の極薄の膜でも耐久性のある潤滑膜として十分に有用で
ある。
本発明の製法によりその表面にプラズマ重合膜を形成す
る基体としては、磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記
録媒体を挙げることができ、特に非磁性支持体上に形成
された磁気記録層が金属薄膜（例えばコバルト薄膜）か
らなる金属薄膜型磁気記録媒体は、金属薄膜の摩擦係数
が大きく、本発明によるプラズマ重合膜は好適であり、
大きく威力を発揮することができる。また特開昭５９−
１７！１１６３２号公報には、プラズマ重合により磁気
記録媒体表面に保護膜を形成する方法が開示されている
が、このような保護膜の上に本発明の製法によるプラズ
マ重合膜をさらに形成することにより潤滑性を高め、も
って該磁気記録媒体の耐久性を一層高めることも可能で
ある。
る基体としては、磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記
録媒体を挙げることができ、特に非磁性支持体上に形成
された磁気記録層が金属薄膜（例えばコバルト薄膜）か
らなる金属薄膜型磁気記録媒体は、金属薄膜の摩擦係数
が大きく、本発明によるプラズマ重合膜は好適であり、
大きく威力を発揮することができる。また特開昭５９−
１７！１１６３２号公報には、プラズマ重合により磁気
記録媒体表面に保護膜を形成する方法が開示されている
が、このような保護膜の上に本発明の製法によるプラズ
マ重合膜をさらに形成することにより潤滑性を高め、も
って該磁気記録媒体の耐久性を一層高めることも可能で
ある。
本発明の製法により、その表面にプラズマ重合膜を形成
する基体の他の例としては、金属、プラスチックまたは
セラミック製の歯車、軸、軸受、カム、ベアリング、ピ
ストン、シリンダー、チェーン、ワイヤー等の機構要素
、ビデオやテープレコーダーのヘッド、ガイドポール、
リール等の部材、船体外面、各種スクリュー、ホース内
面、各種ポンプ内面、押出成形機のノズル内面、可動部
シール用０−リング、スキー板、人工関節等の物品を挙
げることができる。これらの基体の摺動面の摩擦係数は
形成されるプラズマ重合膜により著しく小さくなり、潤
滑性を向上させることができる。
する基体の他の例としては、金属、プラスチックまたは
セラミック製の歯車、軸、軸受、カム、ベアリング、ピ
ストン、シリンダー、チェーン、ワイヤー等の機構要素
、ビデオやテープレコーダーのヘッド、ガイドポール、
リール等の部材、船体外面、各種スクリュー、ホース内
面、各種ポンプ内面、押出成形機のノズル内面、可動部
シール用０−リング、スキー板、人工関節等の物品を挙
げることができる。これらの基体の摺動面の摩擦係数は
形成されるプラズマ重合膜により著しく小さくなり、潤
滑性を向上させることができる。
次に本発明の製法を実施例により具体的に説明するが、
これらは本発明を限定するものではない。
これらは本発明を限定するものではない。
実施例１〜５、比較例１〜４
第２図に示す装置を用いて磁気記録媒体の基材テープの
表面にプラズマ重合膜を形成した。
表面にプラズマ重合膜を形成した。
第２図に示す装置は、真空ポンプ１に接続されたプラズ
マ重合反応器２に互に対向する一対の電極３，４が設け
られていて、これらは交流電源（２０ｋＨｚ） ５に接
続されている。プラズマ重合反応器２の一偶にはガス状
モノマー化合物を供給する管６，７および８が接続され
ている。これらのモノマー化合物供給管には流量調節弁
（図示せず）が備わっている。プラズマ重合反応器２の
側壁には器内の圧力をモニターするための圧力計（図示
せず）が設けられている。第１のロール９に巻かれてい
る、処理すべき磁気記録媒体の基材テープ１１は、運転
時には２つの電極３と４の間を連続的に走行して第２の
ロール１０に巻き取られるようになっている。電極３と
４の間の領域において、処理されるテープから２１離れ
た位置に特開昭５４−１３５５７４号公報に記載の電子
温度測定用探針１２が設置されている。
マ重合反応器２に互に対向する一対の電極３，４が設け
られていて、これらは交流電源（２０ｋＨｚ） ５に接
続されている。プラズマ重合反応器２の一偶にはガス状
モノマー化合物を供給する管６，７および８が接続され
ている。これらのモノマー化合物供給管には流量調節弁
（図示せず）が備わっている。プラズマ重合反応器２の
側壁には器内の圧力をモニターするための圧力計（図示
せず）が設けられている。第１のロール９に巻かれてい
る、処理すべき磁気記録媒体の基材テープ１１は、運転
時には２つの電極３と４の間を連続的に走行して第２の
ロール１０に巻き取られるようになっている。電極３と
４の間の領域において、処理されるテープから２１離れ
た位置に特開昭５４−１３５５７４号公報に記載の電子
温度測定用探針１２が設置されている。
この装置の運転においては、プラズマ重合反応器２内を
真空ポンプにより排気しながら、１種または２種以上の
モノマー化合物をガス状で供給する。電極３と４の間に
放電によりプラズマを生起させると、電極間を走行する
基材テープ１１の表面にプラズマ重合膜が形成される０
反応帯域におけるプラズマの電子温度は探針１２で測定
され、放電電流、プラズマ重合反応器内の圧力、モノマ
ー化合物の流量等を変えることにより所望値に制御され
る。
真空ポンプにより排気しながら、１種または２種以上の
モノマー化合物をガス状で供給する。電極３と４の間に
放電によりプラズマを生起させると、電極間を走行する
基材テープ１１の表面にプラズマ重合膜が形成される０
反応帯域におけるプラズマの電子温度は探針１２で測定
され、放電電流、プラズマ重合反応器内の圧力、モノマ
ー化合物の流量等を変えることにより所望値に制御され
る。
本実施例および比較例では１表面に厚さ１００ ｎｍの
コバルト−ニッケル磁性薄膜にッケル分２０重量％）が
斜め蒸着されている厚さ１２μ■、幅１０ａａの長尺の
ポリエチレンテレフタレートフィルムを磁気記録媒体の
基材テープとして用い、コバルト−ニッケル磁性薄膜上
に第１図の装置を用いてプラズマ重合膜を形成して磁気
記録媒体を得た。なお、実施例１および２ならびに比較
例１および２においては、基材テープの上に単層のプラ
ズマ重合膜を形成し、実施例３，４および５ならびに比
較例３および４においては、プラズマ重合膜の第１の層
を形成した後に、その上に種類の異なるプラズマ重合膜
の第２の層を重ねて形成した。
コバルト−ニッケル磁性薄膜にッケル分２０重量％）が
斜め蒸着されている厚さ１２μ■、幅１０ａａの長尺の
ポリエチレンテレフタレートフィルムを磁気記録媒体の
基材テープとして用い、コバルト−ニッケル磁性薄膜上
に第１図の装置を用いてプラズマ重合膜を形成して磁気
記録媒体を得た。なお、実施例１および２ならびに比較
例１および２においては、基材テープの上に単層のプラ
ズマ重合膜を形成し、実施例３，４および５ならびに比
較例３および４においては、プラズマ重合膜の第１の層
を形成した後に、その上に種類の異なるプラズマ重合膜
の第２の層を重ねて形成した。
各実施例および比較例におけるプラズマ重合条件、すな
わちモノマー化合物の種類と流量、放電形式、放電電流
（パルス放電の場合は放電電力がオン（ＯＮ）時）、基
材テープの走行速度および形成されたプラズマ重合膜の
厚さを第１表および第２表に示す、なお、第１表はプラ
ズマ重合膜を単層で形成する場合および２層形成の場合
の第１層（下層）に関し、第２表は２層形成の場合の第
２層（上層）に関する。また第１表および第２表におい
て、プラズマ重合膜の厚さは、基材テープと同時走行さ
せたシリコンウェハー表面に形成されたプラズマ重合膜
の厚さをエリプソメーターによって測定し、その測定値
を基材テープ上に形成されたプラズマ重合膜の厚さと推
定することにより評価した。
わちモノマー化合物の種類と流量、放電形式、放電電流
（パルス放電の場合は放電電力がオン（ＯＮ）時）、基
材テープの走行速度および形成されたプラズマ重合膜の
厚さを第１表および第２表に示す、なお、第１表はプラ
ズマ重合膜を単層で形成する場合および２層形成の場合
の第１層（下層）に関し、第２表は２層形成の場合の第
２層（上層）に関する。また第１表および第２表におい
て、プラズマ重合膜の厚さは、基材テープと同時走行さ
せたシリコンウェハー表面に形成されたプラズマ重合膜
の厚さをエリプソメーターによって測定し、その測定値
を基材テープ上に形成されたプラズマ重合膜の厚さと推
定することにより評価した。
上記のようにして表面にプラズマ重合膜を形成した磁気
記録媒体テープ表面の動摩擦係数（μ）を第２図に示す
方法により測定した。この方法では、先端に５０ｇの重
り２１を取り付けたテープ２２を直径５０ＩＩＩ＋ノ固
定されたステンレス棒（ＳＯＳ ４２０Ｊ）２３（７）
上半に掛け、垂直下方へ導びいん後に自由回転可能なロ
ール２４を介して水平方向へ導びき、他端を張力検出器
２５に接続する。張力検出器２５によりテープ２２を２
０ｍｍ／秒の速度で５■のストロークを往復させる。往
時（張力検出器の方へテープ２２を引く時）の張力Ｔ２
を測定し１次式： ％式％） （ここで、ＴＩ＝５０ｇ重（重り２１による荷重））に
より動摩擦係数μを求める。
記録媒体テープ表面の動摩擦係数（μ）を第２図に示す
方法により測定した。この方法では、先端に５０ｇの重
り２１を取り付けたテープ２２を直径５０ＩＩＩ＋ノ固
定されたステンレス棒（ＳＯＳ ４２０Ｊ）２３（７）
上半に掛け、垂直下方へ導びいん後に自由回転可能なロ
ール２４を介して水平方向へ導びき、他端を張力検出器
２５に接続する。張力検出器２５によりテープ２２を２
０ｍｍ／秒の速度で５■のストロークを往復させる。往
時（張力検出器の方へテープ２２を引く時）の張力Ｔ２
を測定し１次式： ％式％） （ここで、ＴＩ＝５０ｇ重（重り２１による荷重））に
より動摩擦係数μを求める。
上記の方法によりプラズマ重合膜を形成した磁気記録媒
体テープ表面とステンレス棒２３との摩擦面との動摩擦
係数の初期値および第３図の装置でテープ２２を１００
０回往復させた後の摩擦面の動摩擦係数を測定した。ま
た、１０００回往復後にテープ表面を肉眼および光学顕
微鏡（×１００）で観察することにより、ステンレス棒
２３の摩耗物付着状態を調べた。これらの測定結果を第
３表に示す。
体テープ表面とステンレス棒２３との摩擦面との動摩擦
係数の初期値および第３図の装置でテープ２２を１００
０回往復させた後の摩擦面の動摩擦係数を測定した。ま
た、１０００回往復後にテープ表面を肉眼および光学顕
微鏡（×１００）で観察することにより、ステンレス棒
２３の摩耗物付着状態を調べた。これらの測定結果を第
３表に示す。
第３表
＄１
実施例 １ ０，２３ ０．２５
ＡＩＩ ２ ０．２２ ０．２５
ＡＩＩ ３ ０．２３ ０．２４
ＡＩＩ ４ ０．２３ ０．２５ ＡＩ
Ｉ ５ ０．２２ ０．２６ ＡＪｆｔｆ
ｆｌ １ ０．４３ ＞０．７ ＢｌＦ
２ ０．４５ ＞０．７ Ｂｎ ３
０．５１ ＞０．７ Ｂｙ ４ ０．４
２ ＞０．７ Ｂ実施例６ 第４図に示すベルジャ型プラズマ重合反応器を用いて直
径５０ＩＩＩＩｎ、厚さ５ｍｍの銅製円板の表面にパル
ス放電によるプラズマ重合によりプロパンのプラズマ重
合膜を形成した。
ＡＩＩ ２ ０．２２ ０．２５
ＡＩＩ ３ ０．２３ ０．２４
ＡＩＩ ４ ０．２３ ０．２５ ＡＩ
Ｉ ５ ０．２２ ０．２６ ＡＪｆｔｆ
ｆｌ １ ０．４３ ＞０．７ ＢｌＦ
２ ０．４５ ＞０．７ Ｂｎ ３
０．５１ ＞０．７ Ｂｙ ４ ０．４
２ ＞０．７ Ｂ実施例６ 第４図に示すベルジャ型プラズマ重合反応器を用いて直
径５０ＩＩＩＩｎ、厚さ５ｍｍの銅製円板の表面にパル
ス放電によるプラズマ重合によりプロパンのプラズマ重
合膜を形成した。
第４図に示すプラズマ重合反応器は、平行平板型電極３
２．３２’がプラズマ重合反応器３１内に設けられ、こ
れらの電極は反応器外の電源３３に接続されている。プ
ラズマ重合反応器３１の底にはガス状モノマー化合物を
供給する管３５が接続され、この管３５にはガス流量調
節バルブ３７が設けられている。
２．３２’がプラズマ重合反応器３１内に設けられ、こ
れらの電極は反応器外の電源３３に接続されている。プ
ラズマ重合反応器３１の底にはガス状モノマー化合物を
供給する管３５が接続され、この管３５にはガス流量調
節バルブ３７が設けられている。
プラズマ重合反応器の底の別の箇所には排気管３４を介
して真空ポンプ（図示せず）が接続され、この管３４に
は排気速度調節用バルブ３６が設けられている。プラズ
マ重合反応器３１の側壁には器内圧力をモニターするた
めの圧力計３８が備わっている。
して真空ポンプ（図示せず）が接続され、この管３４に
は排気速度調節用バルブ３６が設けられている。プラズ
マ重合反応器３１の側壁には器内圧力をモニターするた
めの圧力計３８が備わっている。
前記の円板を電極２，２′の間に基体３９として配置し
、この基体３９から２ａｍ離れた位置に特開昭５４−１
３５５７４号公報に記載の探針４０をプラズマの電子温
度を測定するために配置されている。
、この基体３９から２ａｍ離れた位置に特開昭５４−１
３５５７４号公報に記載の探針４０をプラズマの電子温
度を測定するために配置されている。
本実施例においては、電極３２．３２’に２０ｋＨｚの
交流を印加してモノマー化合物であるプロパンの流量１
０ｍ Ｑ （ＳＴＰ）／分、器内圧力５０ｍＴｏｒｒ、
パルス放電条件：パルス周期１秒でオン（ＯＮ）時間０
．２秒。
交流を印加してモノマー化合物であるプロパンの流量１
０ｍ Ｑ （ＳＴＰ）／分、器内圧力５０ｍＴｏｒｒ、
パルス放電条件：パルス周期１秒でオン（ＯＮ）時間０
．２秒。
オン時の放電電流１００ｍＡの条件で３分間のプラズマ
重合を行った。この時、オン時のプラズマの電子温度は
ｏ、ｓ ｘ ｉｏ’〜８ Ｘ １０’ Ｋであった。こ
の結果、銅製円板の表面に厚さ２００人のプラズマ重合
膜が形成された。
重合を行った。この時、オン時のプラズマの電子温度は
ｏ、ｓ ｘ ｉｏ’〜８ Ｘ １０’ Ｋであった。こ
の結果、銅製円板の表面に厚さ２００人のプラズマ重合
膜が形成された。
このようにプラズマ重合膜を表面に形成した銅製円板表
面の動摩擦係数を次のようにして測定した。すなわち、
先端に直径２＋＋＋ｍの銅製の半球が取付けられた棒の
先端を荷重１００ｇでプラズマ重合膜を形成した銅製円
板の中心から２０ｍｍの位置に垂直に当て、銅製円板を
１１００ｒｐで回転させ、棒に横方向に加わる力を測定
することにより、プラズマ重合膜を形成した銅製円板の
動摩擦係数を求めた。
面の動摩擦係数を次のようにして測定した。すなわち、
先端に直径２＋＋＋ｍの銅製の半球が取付けられた棒の
先端を荷重１００ｇでプラズマ重合膜を形成した銅製円
板の中心から２０ｍｍの位置に垂直に当て、銅製円板を
１１００ｒｐで回転させ、棒に横方向に加わる力を測定
することにより、プラズマ重合膜を形成した銅製円板の
動摩擦係数を求めた。
なお、この動摩擦係数の測定は、銅製円板およびこれと
接触させる銅半銅の温度を２０℃〜２００℃の範囲で変
化させて実施し、動摩擦係数と温度の関係を調べた。以
上の測定結果を第５図にグラフで示す。
接触させる銅半銅の温度を２０℃〜２００℃の範囲で変
化させて実施し、動摩擦係数と温度の関係を調べた。以
上の測定結果を第５図にグラフで示す。
実施例７〜９
パルス放電の条件を第４表に示すように変えた以外は実
施例６と同様に銅製円板表面にプラズマ重合膜を形成し
た。各実施例で形成されたプラズマ重合膜の厚さを第４
表に合わせ示す。
施例６と同様に銅製円板表面にプラズマ重合膜を形成し
た。各実施例で形成されたプラズマ重合膜の厚さを第４
表に合わせ示す。
このようにして表面にプラズマ重合膜を形成した銅製円
板の表面の動摩擦係数を実施例６と同様の方法で種々の
温度において測定した。結果を第５図に示す。
板の表面の動摩擦係数を実施例６と同様の方法で種々の
温度において測定した。結果を第５図に示す。
第 ４ 表
実施例７８１ ３ １２０／／８
０．５ ０．２ １．８ ２４０ＩＩ ９０．０５ ０
．０２ １．５ ２１０〔発明の効果〕 本発明の製法により得られる均一なプラズマ重合膜は、
通常摩擦係数が０．０３〜０．３と小さく、しかも非常
に薄い膜厚でも優れた耐久性を有するため、例えば磁気
テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体表面の固体の潤
滑膜として極めて有用である。
０．５ ０．２ １．８ ２４０ＩＩ ９０．０５ ０
．０２ １．５ ２１０〔発明の効果〕 本発明の製法により得られる均一なプラズマ重合膜は、
通常摩擦係数が０．０３〜０．３と小さく、しかも非常
に薄い膜厚でも優れた耐久性を有するため、例えば磁気
テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体表面の固体の潤
滑膜として極めて有用である。
しかも、このプラズマ重合膜は、高い耐熱性を有すると
ともに高温でも摩擦係数が小さいため内燃機関のシリン
ダー、ピストン等のように高温にさらさせる摺動面の固
体潤滑膜としても有用である。
ともに高温でも摩擦係数が小さいため内燃機関のシリン
ダー、ピストン等のように高温にさらさせる摺動面の固
体潤滑膜としても有用である。
さらにこの優れた潤滑性は、基体の材質に影響されない
ので、広範な物品１機械部材、機構要素等の固体の潤滑
膜として利用することができる。
ので、広範な物品１機械部材、機構要素等の固体の潤滑
膜として利用することができる。
また、固体潤滑膜として利用する場合、従来の液体状ま
たは粉末状の潤滑剤と異なり、液体もしくは粉末の付着
がきられれる雰囲気においても適用でき、また真空中に
おいてもその性能を発揮することができる。
たは粉末状の潤滑剤と異なり、液体もしくは粉末の付着
がきられれる雰囲気においても適用でき、また真空中に
おいてもその性能を発揮することができる。
また上記プラズマ重合膜は、耐酸性、耐アルカリ性、耐
溶痢性等の点でも優れているので、潤滑性と合わせてこ
れらの特性が求められる場合、あるいは、潤滑性以外の
これらの特性が求められる場合も表面保護膜等として有
用である。
溶痢性等の点でも優れているので、潤滑性と合わせてこ
れらの特性が求められる場合、あるいは、潤滑性以外の
これらの特性が求められる場合も表面保護膜等として有
用である。
特許出願人 日本合成ゴム株式会社
代 理 人 弁理士 岩見谷 周 志ａｒｓ
第２図
第４図
第５図
３１・１足五度（”Ｃ）
Claims (1)
- アルカンおよびハロゲン化アルカンから選ばれる１種は
たは２種以上のモノマー化合物を含有するガスをパルス
放電によるプラズマ重合に供することからなるプラズマ
重合膜の製法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60055549A JPS61213221A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | プラズマ重合膜の製法 |
| US06/841,183 US4693799A (en) | 1985-03-19 | 1986-03-19 | Process for producing plasma polymerized film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60055549A JPS61213221A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | プラズマ重合膜の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61213221A true JPS61213221A (ja) | 1986-09-22 |
Family
ID=13001782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60055549A Pending JPS61213221A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | プラズマ重合膜の製法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4693799A (ja) |
| JP (1) | JPS61213221A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62216637A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-24 | Anelva Corp | プラズマ処理装置 |
| JP2001524602A (ja) * | 1997-11-21 | 2001-12-04 | コリア インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 材料の表面上でのプラズマ重合 |
| JP2001525493A (ja) * | 1997-12-04 | 2001-12-11 | コリア インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 冷却およびエアコンディショニングにおける使用のための金属表面のプラズマ重合による改良 |
| KR20030078454A (ko) * | 2002-03-29 | 2003-10-08 | 주식회사 엘지이아이 | 표면처리장치와 그 방법 및 표면처리된 제품 |
| JP2006152301A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Samsung Electronics Co Ltd | 四面体炭素化合物からなるハードマスク用のポリマー膜及びその製造方法、並びにそれを利用した微細パターンの形成方法 |
| JP2008201982A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-09-04 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 多環脂環式化合物を前駆体物質とする薄膜、及びその製造方法 |
| JP2010042410A (ja) * | 1998-07-24 | 2010-02-25 | Uk Government | 表面コーティング |
Families Citing this family (49)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4828871A (en) * | 1986-02-13 | 1989-05-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of providing shaped polymeric articles with improved receptivity to organic coatings |
| US4769281A (en) * | 1986-04-15 | 1988-09-06 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| US4900622A (en) * | 1986-09-18 | 1990-02-13 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| JPS63215578A (ja) * | 1987-02-28 | 1988-09-08 | 株式会社豊田中央研究所 | セラミツク材料表面への固体潤滑被膜の形成方法 |
| US5000831A (en) * | 1987-03-09 | 1991-03-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Method of production of amorphous hydrogenated carbon layer |
| JP2590200B2 (ja) * | 1988-05-27 | 1997-03-12 | 株式会社日立製作所 | 真空連続処理装置 |
| US5186974A (en) * | 1988-08-16 | 1993-02-16 | Hoechst Aktiengesellschaft | Self-supporting sheet-like structure comprising a substrate and a coating, and a process for its production |
| US5302452A (en) * | 1990-01-04 | 1994-04-12 | Toray Industries, Inc. | Drawn plastic product and a method for drawing a plastic product |
| US6355113B1 (en) | 1991-12-02 | 2002-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Multiple solvent cleaning system |
| US5250208A (en) * | 1992-04-02 | 1993-10-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ternary azeotropic compositions |
| US5194170A (en) * | 1992-04-02 | 1993-03-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Binary azeotropic compositions of 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutane and either tran-1,2-dichloroethylene, cis 1,2-dichloroethylene, or 1-1 dichloroethane |
| US5328576A (en) * | 1992-04-06 | 1994-07-12 | Plasma Plus | Gas plasma treatment for water and oil proofing of fabrics and paper |
| US5677051A (en) * | 1993-11-30 | 1997-10-14 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium having a specified plasma polymerized hydrogen containing carbon film and lubricant |
| US5688431A (en) * | 1994-09-29 | 1997-11-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Octafluorobutane compositions |
| WO1996013337A1 (en) * | 1994-11-01 | 1996-05-09 | Polar Materials Incorporated | Closure coating |
| US5723219A (en) * | 1995-12-19 | 1998-03-03 | Talison Research | Plasma deposited film networks |
| US5925494A (en) * | 1996-02-16 | 1999-07-20 | Massachusetts Institute Of Technology | Vapor deposition of polymer films for photolithography |
| WO1997032672A1 (en) * | 1996-03-04 | 1997-09-12 | Polar Materials, Inc. | Method for bulk coating using a plasma process |
| US6482531B1 (en) | 1996-04-16 | 2002-11-19 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Non-fouling, wettable coated devices |
| US6329024B1 (en) | 1996-04-16 | 2001-12-11 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Method for depositing a coating comprising pulsed plasma polymerization of a macrocycle |
| AR009439A1 (es) * | 1996-12-23 | 2000-04-12 | Novartis Ag | Un articulo que comprende un sustrato con un recubrimiento polimerico primario que porta grupos reactivos predominantemente en su superficie, unmetodo para preparar dicho articulo, un articulo que posee un recubrimiento de tipo hibrido y una lente de contacto |
| AU744202B2 (en) * | 1997-08-08 | 2002-02-21 | Board Of Regents | Non-fouling, wettable coated devices |
| US20010045351A1 (en) * | 1997-11-21 | 2001-11-29 | Korea Institute Of Science And Technology | Plasma polymerization on surface of material |
| US20020189931A1 (en) * | 1997-12-04 | 2002-12-19 | Korea Institute Of Science And Technology | Plasma polymerization enhancement of surface of metal for use in refrigerating and air conditioning |
| US6007588A (en) * | 1998-02-17 | 1999-12-28 | Valence Technology, Inc. | Methods for coating current collector with polymeric adhesives |
| GB9814717D0 (en) * | 1998-02-23 | 1998-09-02 | Bespak Plc | Improvements in drug delivery devices |
| GB9805938D0 (en) * | 1998-03-19 | 1998-05-13 | Glaxo Group Ltd | Valve for aerosol container |
| WO2000058956A1 (en) * | 1999-03-26 | 2000-10-05 | Pennzoil-Quaker State Company | Lubricant for magnetic recording medium and use thereof |
| US7195828B2 (en) | 1999-03-26 | 2007-03-27 | Shell Oil Company | Lubricant for magnetic recording medium and use thereof |
| US20030042129A1 (en) * | 2000-04-06 | 2003-03-06 | Korea Institute Of Science And Technology | Plasma polymerization enhancement of surface of metal for use in refrigerating and air conditioning |
| US6764757B1 (en) | 2000-07-10 | 2004-07-20 | Seagate Technology Llc | Recording medium with a lubricating layer having increased thermal stability |
| US6911036B2 (en) | 2001-04-03 | 2005-06-28 | Medtronic Vascular, Inc. | Guidewire apparatus for temporary distal embolic protection |
| US7396582B2 (en) * | 2001-04-06 | 2008-07-08 | Advanced Cardiovascular Systems, Inc. | Medical device chemically modified by plasma polymerization |
| RU2190484C1 (ru) * | 2001-06-04 | 2002-10-10 | Бугров Глеб Эльмирович | Способ плазменного осаждения полимерных покрытий и способ генерации плазмы |
| GB0211354D0 (en) * | 2002-05-17 | 2002-06-26 | Surface Innovations Ltd | Atomisation of a precursor into an excitation medium for coating a remote substrate |
| GB0212848D0 (en) * | 2002-06-01 | 2002-07-17 | Surface Innovations Ltd | Introduction of liquid/solid slurry into an exciting medium |
| DE10330394A1 (de) * | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Sustech Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung oberflächenbeschichteter nanoskaliger Teilchen durch Polymerbeschichtung in der Gasphase |
| US20050123451A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-06-09 | Hiroshi Nomura | System and apparatus for body fluid analysis using surface-textured optical materials |
| ES2409063T3 (es) * | 2003-11-18 | 2013-06-24 | Habasit Ag | Cinta transportadora recubierta por plasma |
| EP1595913A1 (en) * | 2004-05-14 | 2005-11-16 | Inergy Automotive Systems Research (SA) | Method for preparing a hollow element of a fuel system |
| US7244292B2 (en) * | 2005-05-02 | 2007-07-17 | 3M Innovative Properties Company | Electret article having heteroatoms and low fluorosaturation ratio |
| JP5645821B2 (ja) * | 2008-08-18 | 2014-12-24 | センブラント リミテッド | ハロ炭化水素ポリマーコーティング |
| RU2382119C1 (ru) * | 2008-10-31 | 2010-02-20 | Константин Викторович Вавилин | Способ плазменного осаждения полимерных покрытий и установка для его осуществления |
| WO2011090397A1 (en) | 2010-01-20 | 2011-07-28 | Inano Limited | Method for plasma deposition of polymer coatings and apparatus |
| GB2485419B (en) * | 2010-11-15 | 2015-02-25 | Semblant Ltd | Method for reducing creep corrosion |
| US8852693B2 (en) | 2011-05-19 | 2014-10-07 | Liquipel Ip Llc | Coated electronic devices and associated methods |
| NO2988847T3 (ja) * | 2013-04-24 | 2018-08-04 | ||
| SG11201702534VA (en) * | 2014-09-30 | 2017-05-30 | Luxembourg Inst Of Science And Technology | Plasma deposition method for catechol/quinone functionalised layers |
| TWI766488B (zh) * | 2020-12-19 | 2022-06-01 | 逢甲大學 | 有機高分子薄膜及其製作方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3471316A (en) * | 1965-06-14 | 1969-10-07 | Continental Can Co | Method of forming a flexible organic layer on metal by a pulsed electrical abnormal glow discharge |
-
1985
- 1985-03-19 JP JP60055549A patent/JPS61213221A/ja active Pending
-
1986
- 1986-03-19 US US06/841,183 patent/US4693799A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62216637A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-24 | Anelva Corp | プラズマ処理装置 |
| JP2001524602A (ja) * | 1997-11-21 | 2001-12-04 | コリア インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 材料の表面上でのプラズマ重合 |
| JP2001525493A (ja) * | 1997-12-04 | 2001-12-11 | コリア インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 冷却およびエアコンディショニングにおける使用のための金属表面のプラズマ重合による改良 |
| JP2010042410A (ja) * | 1998-07-24 | 2010-02-25 | Uk Government | 表面コーティング |
| KR20030078454A (ko) * | 2002-03-29 | 2003-10-08 | 주식회사 엘지이아이 | 표면처리장치와 그 방법 및 표면처리된 제품 |
| JP2006152301A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Samsung Electronics Co Ltd | 四面体炭素化合物からなるハードマスク用のポリマー膜及びその製造方法、並びにそれを利用した微細パターンの形成方法 |
| JP2008201982A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-09-04 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 多環脂環式化合物を前駆体物質とする薄膜、及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4693799A (en) | 1987-09-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61213221A (ja) | プラズマ重合膜の製法 | |
| US4636435A (en) | Polymeric thin film, process for producing the same and products containing said thin film | |
| Miyake et al. | Microtribological properties and potential applications of hard, lubricating coatings | |
| Liu et al. | The tribological characteristics of diamond-like carbon films at elevated temperatures | |
| O'kane et al. | Preparation and characterization of glow discharge fluorocarbon-type polymers | |
| Zhao et al. | A novel strategy to enhance micro/nano-tribological properties of DLC film by combining micro-pattern and thin ionic liquids film | |
| Huang et al. | Effect of deposition temperature on the microstructure and tribological properties of Si-DLC coatings prepared by PECVD | |
| Ersoy et al. | Tribological properties of carbon coatings produced by high temperature chlorination of silicon carbide | |
| Chen et al. | Experimental and model studies about the lubrication of physisorbed isobutane molecules on hydrogenated diamond-like carbon films | |
| Leezenberg et al. | Chemical modification of sputtered amorphous-carbon surfaces | |
| Harris et al. | A diamond-like carbon film for wear protection of steel | |
| JPS6375002A (ja) | プラズマ重合膜の製法 | |
| Jongwannasiri et al. | Tribological behavior of O2 and CF4 plasma post-treated diamond-like carbon films under dry air and in a high relative humidity environment | |
| Xie et al. | Tribological characterization of several silicon-based materials under ionic-liquids lubrication | |
| Park et al. | Tribological properties of amorphous carbon thin films grown by magnetron sputtering method | |
| Blanpain et al. | Hard coatings under vibrational contact conditions | |
| JPS61126627A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| Wang et al. | Comparing the growth of PVD silver nanoparticles on ultra thin fluorocarbon plasma polymer films and self-assembled fluoroalkyl silane monolayers | |
| Zhu et al. | Micro/macrotribological properties of several nano‐scale ionic liquid films on modified silicon wafers | |
| JPS61190525A (ja) | プラズマ重合膜で被覆された金属製品 | |
| JPS6183232A (ja) | プラズマ重合膜被覆機械部品の製法 | |
| Zhao et al. | Micro/nano-texture design for improving tribological properties of DLC-IL composite films | |
| Mc Lauglin et al. | Ultra-thin film deposition and characterisation of 10nm amorphous carbon layers for applications in magnetic storage devices | |
| JPH01257198A (ja) | ダイヤモンド状炭素膜のコーディング方法 | |
| JPS61216124A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |