JPS6122098A - 硫酸化チロシンを含有するペプチドの固相合成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 産業上の利用分野 本発明は総括的には硫酸化チワシンを含有するペプチド
及びペプチドアミドの製造法に関し、より詳細には本明
細書中ＣＣＫ−８と呼ぶ以下の構造： Ｌ−Ａｓｐ−Ｌ−Ｔｙｒ（ＳＯ，Ｈ）−Ｌ−Ｍｅｔ−Ｇ
ｌｙ−Ｌ−Ｔｒｐ−Ｌ−Ｍｅｔ−Ｌ−Ａｓｐ−Ｌ−Ｐｈ
ｅ−ＮＨ２＠ を有する一ｘ　Ｖ　Ｖ　スト＊　ニア　（ｃｈｏｌｅｃ
ｙｓｔｏｋｉｎｉｎ　）（ｚ６−ｓ３）の固相合成に関
する。

オンプツチ（０ｎｄｅｔｔｉ　）及びプルセック（Ｐｌ
ｕｓｃｅｃ　）　（ジャーナルオプアメリカンケミカル
ソサイアテイ（Ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、）、
９２巻、１９５頁（１９７０）；ジャーナルオプメディ
カルケミストリー（ＪｏＭｅｄ、Ｃｈｅｍ、）、１３巻
、５４９頁（１９７０）；更に、米国特許５，７２５，
４０６号；同＆７７　＆４２９号；同４８３５，３１５
号；同＆８９２，７２６号を参照）は、溶液相ペプチド
化学の方法によってＣＣＫ−８及び一連の類似体を合成
し、かつＣＣＫ−８並びにいくつかの類似体が量分子の
ＣＣＫ−ｓ　５よりも相当に高い効力を有することを見
出した。ＣＣＫ−ａは約１０ｍｙ／ｋｇの量で投与すれ
ば胆嚢の収縮及び膵臓分泌の検査に有用な診断剤となる
（米国特許３，８９２．７２Ｓ号を参照）。更に、研究
の結果、ＣＣＫ−８はオツジ括約筋に対し強い解放作用
を及ぼし、これより胆嚢を手術した後に起る痙縮を軽減
させるのに用いて良い結果があることも示した〔オンプ
ツチ。

ルーピン（Ｒｕｂｉｎ　）　、　工ｙゲＡ／　（Ｅｎｇ
ｅｌ　）　、ジャーナルオブアメリカンダイジエステイ
ブデイジージズ（Ｊ、Ａｍ　Ｄｉｇｅｓｔｉｖｅ　Ｄｉ
ｓｅａｓｅｓ　）、１５巻、１４９頁、１９７０）。よ
り最近の研究では、ＣＣＫ−８は強い食欲減退効果を及
ぼすことを示した〔クローリ−（Ｃｒｏｗ’ｌｅｙ　）
　、　ロジャスーラミレツツ（Ｒｏｊａｓ−Ｒａｍｉｒ
ｅｚ　）、メンデルソン（Ｍｅｎｄｅｌｓｏｎ　）　、
ペプチズ（Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　）、６巻、５３５頁（１
９８２）及びその中の参考文献〕。

オンプツチ及びプルセック（上記参考文献を参照）は１
．溶液相ペプチド化学の公知の方法によって作った中間
化合物から得る保護（ｐｒｏｔｅｃｔｅａ　）オクタペ
プチドアミドからのＣＣＫ−８の製造法ニツイテ述べた
。ＣＣＫ−８についてこれらの著者が報告した総括収率
は出発フェニルアラニンアミドを基準にして１−２Ｘの
範囲であった。幾分改良した手順により、ペンダ（Ｐｅ
ｎｋｅ　）等（米国特許４，１０２，８７８号）は、Ｃ
ＣＫ−８をツエニルアラニンアミドから溶液相ペプチド
化学の公知の方法により改良した硫酸化手順を通じてａ
ＳＸの総括収率で生産するプロセスについて述べた。

シボス（５ｉｐｏｓ　）の米国特許４７１４，１４０号
はペプチドの固相合成について開示し、かつＣＣＫ−８
の合成を例として挙げている。しかし、ＣＣＫ−８はシ
ボス法によって合成することができないと考えられる。

例えば、使用する開裂剤（例ＩＢ。

トリフルオロ酢酸／ジクロロメタン中のＨＢｒ）はＣ−
末端ペプチド酸を生じ、ＣＣＫ−８であるＣ−末端ペプ
チドアミドを生じない。加えて、ペプチドをいかに或は
いつ硫酸化するかについて言及していなかった。ＣＣＫ
−８のＣ−末端断片Ａｓｐ−Ｐｈｅ−ＮＨ２及びＴｒｐ
−Ｍｅｔ−Ａｓｐ−Ｐｈｅ−ＮＨ２の固相合成法が出現
した〔イリノイ、ロックフォード、ピアス（Ｐｉｅｒｃ
ｅ’）　　ケミカル社、１ヤ８１年、「ペプチド：合成
−構造−機能」（リッチ及びクロス、編集者）中−１１
９’３−１９５頁、ゴードロア（Ｇａｕｄｒｅａｕ　）
等〕。　ゴードロー、等の方法はＣＣＫ−８の合成につ
いて述べていないが、固相法によるＣＣＫ−８の合成に
伴う固有の問題のいくつかを指摘している“。例えば、
Ｂｏｃ−Ｔｒｐ（Ｆｏｒ）−Ｍｅｔ−Ａｓｐ（ＯＰａ）
−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−レジン（ここで、Ｂｏｃはｔ−プ
チルオキシカルボニルであり、　Ｆｏｒはホルミルテア
リ、ＯＰ’ａはフェナシルエステルである）を、樹脂か
らＢｏＣ除去のためギ酸中のＣＬＡＭ塩酸により、ＯＰ
ａ除去のためＤＭＦ中の１Ｍナトリウムチオフェノキシ
ドにより、Ｆｏｒ除去及びペプチドのアンモノリシスの
ためメタノール中の３０％アンモニアにより続けて処理
した場合に、単離した主生成物（６０Ｘ　）は所望の生
成物でなく、Ｔｒｐ−Ｍｅ　ｔ　−Ａｓ　ｐ　（Ｐｈ　
ｅ−ｒｌｌｌＮ（２）　−１’１）（２（ここで、Ｐｈ
ｅ−ＮＨ２がＡｓｐのベーターカルボキシルに移され、
Ａｓｐのアルファーカルボキシルがアミド化された）で
あった。

本発明者は、初めに未硫酸化ＣＣＫ−８の同相合成を開
発しようと試みてペプチド樹脂Ｂｏ　ｃ　−Ａｓ　ｐ（
０！Ｂｕ）　−Ｔｙｒ　−Ｍｅ　ｔ　−Ｇｌ　ｙ−Ｔｒ
ｐ　（Ｆｏ　ｒ）　−Ｍｅ　ｔ　−Ａｓｐ　（ＯＣＨ２
−ＰＡＭ−レジｙ）−Ｐｈｅ−ＮＨ２（ここで、Ｏ！Ｂ
ｕはｔ−ブチルオキシであり、　ＯＣＨ２−ＰＡＭは４
−（オキシメチル）フェニルアセトアミドメチルである
）を合成した。ペプチドを樹脂）ｃＡｓｐのベーターカ
ルボキシルより結合させた。ペプチド樹脂を、樹脂から
Ｂｏｃ及びＯ！Ｂｕ　　除去のためジクロロメタン中５
０Ｘのトリフルオ算酢酸により、次いでＦｏｒ除去とペ
プチドの開裂のため７０．％’のインプロパノニル中の
１０当量の水酸化ナトリウムにより処理してＡｓｐ−Ｔ
ｙｒ−Ｍｅ　ｔ　−Ｇｌ　ｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅ　ｔ　−Ａ
ｓｐ　（Ｐｈｅ−ＮＨ２）　−ＯＨを生成し、所望の生
成物であるＡｓｐ−Ｔｙｒ−Ｍｅｔ−Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−
Ｍｅｔ−Ａｓｐ−Ｐｈｅ−ＮＨ２は検出されなかった。

従って、完成したＣＣＫ−８の固相ペプチド合成は今迄
述べられていない。

単一のクロマトグラフィ一工程で分析純度Ｋまで精製し
た後に高い総括状、例えば２９ＸのＣＣＫ−８を与える
ペプチド及びペプチドアミドの合成法を見出した。

発明の要約 本発明によれば、以下の工程を含む硫酸化チロシンを含
有するペプチドの同相合成法が提供される。すなわち、 （ａ）　　４−　（Ｘ　−ＣＨ２）　７　”−’−ルア
　シ／’　７　ミ）”　メチル−ポリスチレンとＮ　、
　４−（Ｘ　−ＣＨ２）フェニルアシルアミドアルキレ
ン−ポリアクリルアミド（ここで、Ｘはハロゲン又はヒ
ドロキシルである）とから成る群より選ぶ樹脂、のペプ
チジル誘導体を、チロシンを含む保護アミノ酸の活性エ
ステルを該樹脂のアミノ酸誘導体に逐次付加することに
よって作り、 （ｂ）　　チロシンのヒドロキシル基と硫酸化剤とを反
応させてスルフェートエステルとし、（Ｃ）ヘブチジル
誘導体をアルカリ、アンモニア、アミン、ヒドラジン、
アルコキシドから成る群ヨり選ぶ求核゛試薬（ｎｕｃｌ
ｅｏｐｈｉｌｅ　）で処理して樹脂からペプチドを分離
する。

ペプチドはイオン交換クロマトグラフィーによって精製
することができる。

詳細な説明 本発明は硫酸化チロシンを含有するペプチド及びペプチ
ドアミドを同相合成しかつ精製する全般的方法を提供す
るもので、ＣＣＫ−ａはこれらの内の一例である。その
他の例はガス）　ＩＪン（Ｇ−１４−■、Ｇ−Ｌ７−ｎ
、Ｇ−３４−、ＩＩ）、セルレイｙ　（ｃａｅｒｕｌｅ
ｉｎ　）、フィロセルレイン（ｐｈｙｌｌｏｃａｅｒｕ
ｌｅｉｎ　）、コレシストキ＝　７　（ＣＣＫ−７、Ｃ
ＣＫ−１ｏ、ＣＣＫ−１２、ＣＣＫ−３３）を包含する
。

硫酸化チロシン含有ペプチドの固相合成において有用な
一時保護基の選択は合成する間に一時保護基を取り去る
のに必要な種々の試薬に対するスルフェート基の安全性
によって指図される。この点に関し、硫酸化チロシンを
含有するペプチドはｐＨ〉４において安定であり、かつ
予期されるように液体ＨＦにおいて示す安定性は劣る。

しかし、ＣＣＫ−ｓがトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）によ
る短時間の処理に対して安定であることは知られている
。

以下の構造はＣＣＫ−８の合成において使用されるべき
保護基Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅを表わす：保護基Ｅの性質は
、それを取り去る際に末端アミド基を生じるようなもの
でなければならない。

加えて、また、Ｅ基は固体支持体として働き、かつ開裂
されて生成物ペプチドアミドを解放する最後の保護基に
なるので、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ基を取り除くのに必要な条件
並びにスルフェートエステル成分を導入する条件に対し
ても安定でなければならない。

ペプチドアミド、ＣＣＫ−８はその内の一例であるが、
は通常ジアリールメチルアミン（ベンズヒドリルアミン
）支持体上に合成される。しかし、これらの支持体は、
ペプチドアミドを支持体から開裂するのに液体ＨＦ又は
類似の強酸処理を必要とするので、ジアリールメチルア
ミシ支ｉ体は硫酸化ペプチドが液体ＨＦに対し不安定な
ことから・　　合成に適していない。ペプチド／固体支
持体のアンカー結合を求核的に開裂させるある種の固体
支持体を使用、し得ることを見出した。このタイプの内
、　Ｘ　−ＣＨ２−ポリスチレン又はＮ−Ｘ−アルキレ
ン−ポリアクリル−アミド（ここで、Ｘはハロ又はヒド
ロキシである）が好適である。ポリアクリルアミド支持
体は値段が高くかつ入手可能性が制約されていることか
ら望ましいものではない。

Ｐｈｅ　−０ＣＨ２−ポリスチレｙ　（ＣｌＣＨ２−又
はＨＯＣＨ２−ポリスチレン）は立体及び電子因子によ
りアンモノリシス開裂を受けるのがただ遅いだけであり
かつＰｈｅ　−ＮＨ２の生産収率が低いことが知られて
いるから、　Ｘ　−ＣＨ２−ポリスチレン（Ｘはハロ又
はヒドロキシである）支持体は有効なそれ以上の変更を
必要とする。

いわゆるハンドル戦略は、ハンドル（又はスペーサー結
合）を結合させることによってＸ−ＣＨ２−ポリスチレ
ンを変更して新しい固体支持体を製造し、該支持体をア
ンモニア等の求−核試薬により選択的に開裂することが
ＣＣＫ−８について有用なかつ高い収率の合成法を提供
するのに特に有用である。数多くのハンドルが当分野に
おいて知られているが、４−（オキシメチル）フェニル
アシルハンドル、一層特別には４−（オキシメチル）フ
ェニルアセチルハンドルがＣＣＫ−８の固相合成に最も
良く適してい、ることかわかった。「フェニルアシル」
なる用語は、また、−Ｃ６Ｈ４−１（ＣＨ２）２ＣＯ−
１−Ｃ６Ｈ４−Ｃ０−等の基も包含する。フェニル基は
更にニトロ基で置換することができる。

４−（オキシメチル）フェニルアセチルノ１ンドルをＹ
　−ＣＨ２−ポリスチレン（Ｙ＝ＮＨ２）　　に結合さ
せると４−（オキシメチル）フェニルナセトアミドメチ
ルーボリスチレン（本明細書においてＣＣＫ２−ＰＡＭ
−レジンと呼ぶ）となる。「ポリスチレン」なる用語は
ジビニルベンゼン等のその他の不飽和単量体の少量との
共重合体を包含する。ＣＣＫ２−ＰＡＭ−レジンのペプ
チジル誘導体、ペプチジル−ｏｃＨ，ｐＡｍ−レジンは
、アルカリ、アンモニア又はその他のアミン、ヒドラジ
ン又はアルコキシドにより開裂してそれぞれペプチド酸
、アミド、ヒドラジド又はエステルを生じ得る。加えて
、ペプチジル−ＣＣＫ２−ＰＡＭ−レジンは１−ブチル
オキシカルボニル（Ｂｏｃ　）及び１−ブチルオキシ（
０！Ｂｕ）保護基の除去に好適な試薬であるトリフルオ
ロ酢酸（ＴＦＡ）及び９−フルオレニルメチルオキシカ
ルボニル（Ｆｍｏｃ）　　保護基の除去に好適な試薬で
あるピペリジン（ＰＩＦ）に対して安定である。

コレより、ＣＣＫ２−ＰＡＭ−レジン基は、チロシンな
硫酸化するのに必要な試薬に対しても安定なことから、
ＣＣＫ−８の全固相合成において有効である適当な選択
性を有する。

ＣＣＫ−８はアミノ酸アスパラギン（Ａｓｐ　）、チロ
シン（Ｔｙｒ　）　、メチオニン（Ｍｅｔ　）、トリプ
トファン（Ｔｒｐ　）’を含有することから、これらの
アぐノ酸と起きることが知られている潜在的副反応を最
小にし、かつ硫酸化チロシン及びペプチジル−ＯＣＨ−
ＰＡＭ−レジンが安定である条件下で除去し得る一時保
護基を選択しなければならない。よって、構造■におけ
るＡｓｐ側鎖カルボキシル保護基Ｂ及びＤは、Ｏ！Ｂｕ
が好ましくはＴＦ’Ａにより副反応無しで除去し得るこ
とから、このエステルにすることかで伴る。

■における保護基Ｃの選択は一時アミン保護基Ａについ
ての選択に依存する。Ｆｍｏｃ保護基は、好ましくはピ
ペリジン又はその他の塩基により、０！Ｂｕ及びＣＣＫ
２−ＰＡＭ−レジン基が安定な条件下で開裂し得るので
Ａ基に最も適している。加えて、Ａ基についてＦｍｏｃ
　ｆ選択することはＴｒｐがＦｋｎｏｃ除去条件下で安
定なことから、Ｔｒｐ側鎖保護基（Ｃ基）を使用するこ
とを必要と駿ない。ある条件下では、一時アミノ保護は
Ｂｏｃ基で達成することができる。しかし、直交保護（
ｏｒｔｈｏｇｏｎａｌｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ　）　　の
要件により、Ｂｏｃ基は０ｔＢｕ基の存在において選択
除去し得ないので、ＣＣＫ−８の末端位で使用し得るの
みである。さもなくば、アミノ保護のためにＦｍｏｃ基
を必要とする。

チロシンをペプチド鎖に加入した後にチロシンのフェノ
ール性ＯＨを硫酸化し得ることから、チロ、シンの側鎖
の一時保護を必要としない。しかし、ペプチド合成にお
いて無保護の（ｕｎｐｒｏｔｅｃｔｅｄ　）フェノール
性ＯＨを有するＴｙｒを使用することは、用いることが
できるカップリング法に特別の要件を定める。ＣＣＫ−
８の合成に選ぶカップリング法は２−ニトロフェノール
、４−ニトロフェノール、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミ
ド（ＨＯ８ｕ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（
ＨＯＢｔ　）或は当分野で公知のその他の物から誘導さ
れる活性エステルを使用する活性エステル法である。代
り　　２に、Ｎ−末端アミノ基のＦｍｏｃ保瞳及びアス
パラギン酸の側鎖のＯ！Ｂｕ保護と共にチロシンのフェ
ノール性ＯＨを一時的に！Ｂｕ基によって保護すること
ができ今。

出発物質の中で、すなわち、Ｂｏｃ　−Ｐｈｅ　−４−
（オキシメチル）−フェニル酢酸、アミノメチル−レジ
ン、Ｆｍｏｃ−Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−０Ｈ、Ｆｍｏｃ−
Ｍｅｔ−ＯＨ。

Ｆｒｎｏｃ−Ｔｒｐ−ＯＨ，Ｆｎｎｏｃ−Ｔｙｒ（！Ｂ
ｕ）−０Ｈ，Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−ＯＨ。

Ｂｏｃ−Ａｓｐ（ＯｐＢｔｔ）−０Ｈが当分野において
よく知られている。出発物質Ｆｍｏｃ−Ｔｙｒ−ＯＨは
、９−フルオレニルメチルスクシンイミジルカーボネー
ト（Ｐｍｏｃ−Ｏ８ｕ）をチロシンと反応させて作るこ
とができる。

本発明のペプチドは適当なアミノ酸をＢｏｃ−Ｐｈｅ−
０ＣＨ２〜ＰＡＭ−レージンに一度に−続けて付加した
後にＢｏｃ除去して作ることができる。かかる付加は、
−えば当該アミノ酸中のアミン基欠、例えばそのＦｍｏ
ｃ又はＢｏｃ誘導体に転化することによって保護した後
に付加されるべきアミノ酸中のカルボン酸基を活性化し
、この誘導体を例えばＨＯＢ　ｔエステル（現位置で作
った）に転化し、次いでこの活性エステルをＰｈｅ−Ｏ
ＣＨ２−Ｐ　Ａ　Ｍ−レジン又はベプチジ／Ｉ／−０Ｃ
Ｈ２−Ｐ　ＡＭ−レジンと反応させることによって朽う
。

ペプチドから保護基Ｂｏｃ　、　Ｆｍｏｃ　、　Ｏ！Ｂ
ｕ、　ＯＧ（２−ＰＡＭ−レジンを取り除く種々の方法
が当分野において知られている。Ｂｏｃ基はＴＦＡによ
る等の酸処理によって取り除くことができる。Ｆｍｏｃ
基はピペリジンによる等の塩基処理によって除くことが
でする。しかし、Ｆｍｏｃ基を除くのに選ぶ塩基はζＯ
ＣＨ２−ＰＡＭ−レジン基の早期開裂を引き起こさない
ように十分に温和でなければならない。Ｏ！Ｂｕ基はＴ
ＦＡ　Ｋよる等の酸処理で除くことができるが、酸処理
は、また、チロシンのヒドロキシル基を硫酸化する間に
存在しなければならないＮ−末端Ｂｏｃ基をも除くので
硫酸化工程よりも前ではない。

好ましくは、八−末端アミノ基を硫酸化する前に０！Ｂ
ｕ基を除去させるＦｍｏｃ基により保護して硫酸化した
後の酸処理工程を必要としないプロセスにすることがで
きる。該酸部理工！は保護基を除くのに使用する酸にお
けるスルフェートエステルの不安定性の故に収率を低下
させ得る。

本発明の保護ペグチジルーＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンに
おけるチロシンの硫酸化は、保護ペプチジル−０ＣＨ２
−Ｐ　ＡＭ−レジンと三酸化イオウ−ピリジン複合体、
その他の三酸化イオウ−第三アミン複合体或はピリジニ
ウムアセチルスルフェート等の類似の硫酸化剤とを室温
において４〜２１時間反応させ、過剰の試薬なろ別する
ことによって行うことができる。

最後に、Ｆｍｏｃ又はＢｏｃ及びＯ！Ｂｕ基を除いた後
に、ペプチジル−レジンをメタノール中のアンモニアに
よる等のアンモニア性溶液で処理してＣ−末端保護基Ｏ
ＣＨ，ＰＡＭ−レジンを除いてペプチドアミドを製造す
ることができる。本発明のペプチドは、ＤＥＡＥ−）リ
サクリ＃　（Ｔｒｉｓａｃｒｙｌ）′ＩＭＭ（ＬＫＢイ
ンストルーメンツ社）等のイオン交換樹脂又は類似のイ
オン交換樹脂を収容するカラムに１回通過させて分析純
度にまで精製することができる。ＤＥＡＥ−）リサクリ
ルイオン交換ゲルは、Ｎ−（）リス−（ヒドロキシメチ
ル）メチル〕−アクリルアミドとＮ−２−（ジエチルア
ミノ）エチルアクリルアミドとのアクリルアミド共重合
体である。その他のイオン交換樹脂の例は、ジエチルア
ミノエチルセルロース及び°ジエチルアミノエチルデキ
ストラン等の多糖共重合体である。

発明を更に以下の例で例示する。全ての温度は特記しな
い限り℃である。

！１ Ｆｍｏｃ−Ｔｙｒ−ＯＨ Ｌ−チロシフ（９，０６９、ｓｏｍモｙ）を１ＮＮａＯ
Ｈ５０ａｔを有する水１ｏｏｍｊ及びテトラヒドロフラ
ン（ＴＨＦ）１５ｏゴ中に溶解した。この溶液ＶｃＦｍ
ｏｃ−Ｏ８ｕ　（１６，８７、ｌｉｔ、ｓｏｍモル）を
急速に攪拌しながら加えた。懸濁液をＩ　Ｎ　　Ｎａ０
ＨｋよりＰＨ７に調整し、次いで夜通し攪拌した後に、
少量の固体チロシンがまだ残留していた。固体クエン酸
（１５ｇ）を攪拌しながら加えた後に酢酸エチル（Ｅｔ
ＯＡｃ）　３００　ｍｌを加えた。ＥｔＯＡｃ層を集め
、１０Ｘクエン酸３Ｘ５０ｍＪ、飽和ＮａＮａＣ１４Ｘ
５Ｏで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。ＥｔＯＡｃ溶
液を蒸発して淡褐色のシロップとなり、これをジクロロ
メタン（ＤＣＭ）２００＃Ｌ／から結晶化させて生成物
（融点１２５−１３０’）　１８．０４ｇ（８９，４Ｘ
の収率）を与えた。

例２ Ｂｏｃ−Ｐｈｅ　−４−（オキシメチル）フェニル酢酸
（αｓ３ｇ、２ｍ−ｖ−ル）（ここでＰｈｅはフェニル
アラニンである）、ジシクロへキシルカルボジイミド（
ＤＣＣ）（α４１　Ｊｉｌ、　２　ｍモル）及び１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ　）　（ｏ、　
４６Ｎ、３ｍモル）を、容量で４：１のジクロロメタン
／ジメチルホルムアミド（ＤＣＭ／ＤＭＦ）５０ｍＪ中
に００　で１時間攪拌しながら溶解した。

アミノメチル−レジン（ここで、レジンは重量で９９：
１のスチレンジビニルベンゼン共重合体であった）　（
１３ａ、Ｌ　　Ｏ，７４６ｍｅｑＮ／、１７）をろ過反
応混合物（沈降Ｎ　、　Ｎｌ−ジシクロへキシルユリア
（ＤＣＵ）を除去した）中に懸濁させ、かつ室温で２〜
１５時間振盪した。生成物Ｂｏｃ−Ｐｈｅ　ＯＣ）Ｉ２
−ＰＡＭ−レジンをろ過により単離しかつＤｃＭで洗浄
した。

上記のＢｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＮ−レジンをＴ
ＦＡ／７　ｗ　ソー　ル／　Ｄ　ＣＭ　（容量で４９：
１：５０，３Ｘ５Ｄｍｌ）中に室温で各１０分懸濁させ
かつ振盪してＢｏｃ基を除いた。生成物をろ過により単
離し、かつＤＣＭ、ＤＣＭ中５％のＮ、Ｎ−ジイソプロ
ピルエチルアミン（ＤＩＥＡ）及びＩ）’ＣＭにより洗
浄して（各ｈ　３　Ｘ　５０　ｙｔｌ　）　Ｐｈｅ−Ｏ
ＣＨ２−ＰＡＭ−レジンの遊離塩基を与えた。

Ｆｍｏｃ−Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−０Ｈ（Ｉ２３　’、ｌ
ｉｔ　、　５　ｍモル）と、Ｄｅｃ、ＣＤ、６２ｇ、３
ｍモル）と、ＨＯＢｔ　（Ｑ、６９９　、４５　ｍ　モ
Ａ／　）とを容量で４＝１のＤＣＭ／ＤＭＦ中に０℃で
１時間攪拌しながら溶解した。

Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジ７　（１、ｍｅｑ仮定
）をろ過反応混合物（沈降ＤＣＵを除去）中に懸濁させ
、かつ室温で２〜１５時間振盪した。生成物Ｆｍｏｃ−
Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＣＨ−ＰＡＭ−レジン
をろ過により集めかつＤＣＭで洗浄した。

２Ｂ２−Ｍｅｔのカップリング 上記のＦ＋ｍｏｃ−Ａｓｐ（Ｏｔｆ３ｕ）−Ｐｈｅ−Ｏ
ＣＨ２−ＰＡＭ−レジンをＰ　Ｉ　Ｐ／ＤＭＦ　（容量
で１：４．５ｏａｋ）中に室温で３分間、次いでも５一
度７分間懸濁させかつ振盪してＰｍｏｃ基を除いた。生
成物をろ過により単離しかつＤＭＦ及びＤＣＭで洗浄し
て（各々ｓ　ｘ　ｓ　ｏ　ｍｌ　）　Ａｓｐ（０！Ｂｕ
）−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンの遊離塩基を与
えた。

Ｆｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨ（ｔ　１２１１．３”ｍモル）
と、ＤＤＣ（α６２７７、３　ｍモル）と、ＨＯＢｔ（
０，６９ｇ、４５ｒｎ−Ｅ−ル）とを容量で４：１のＤ
ＣＭ／ＤＭＦｓｏｉｎ／中に０℃で１時間攪拌しながら
溶解した。

Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｐｈｅ−α上、−ＰＡＭ−レジｙ
　（１ｍｅｑ仮定）をろ過反応混合物（沈降ＤＣｔＪを
除去）中に懸濁させ、かつ室温で２〜１５時間振盪した
。生成物Ｆｍｏｃ−Ｍｅ　ｔ　−Ａｓｐ　（０！Ｂｕ　
）−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−Ｐ　Ａ　Ｍ−レジンをろ過によ
り集め、ＤＣＭ及びＤＭＦで洗浄した。

２Ｂ五　Ｔｒｐのカップリング Ｐｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨに代えてＦｍｏｃ−Ｔｒｐ−Ｏ
Ｈ（ｔ　２８　ｇ　。

３ｍモル）を使用した他は前述したＭｅｔをカップリン
グさせる手順（例２Ｂ２．）を繰り返してＦｍｏ　ｃ−
Ｔｒｐ−Ｍｅ　ｔ−Ａｓｐ　（ＯｐＢｕ　）−Ｐｈｅ−
αＪ、−ＰＡＭ−レジンを与えた。

２Ｂ４．Ｇｌｙのカップリング Ｆｍｏｃ　−Ｍｅ　ｔ−ＯＨに代えてＰｍｏｃ−Ｇｌｙ
−ＯＨ（０，８９ｉ　。

３ｍモル）を使用した他は前述したＭｅｔをカップリン
グさせる手順（例２　Ｂ　２．　）を繰り返してＦｍｏ
ｃ−Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ（ＯｊＢｕ）−Ｐ
ｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンを与えた。

２Ｂｓ、Ｍｅｔのカップリング 前述したＭｅｔ　（ｔ　１２９、ｓｍモル）をカップリ
ングさせる手Ｊ［（例２Ｂ２．）を繰り返してＦｍｏ　
ｃ　−Ｍｅ　ｔ　−Ｇｌ　ｙ−Ｔｒ　ｐ−Ｍｅ　ｔ　−
Ａｓｐ　（０！Ｂｕ　）−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−
レジンを与えた。

２Ｂ６．Ｔｙｒのカップリング Ｆｍｏ　ｃ　−Ｍｅ　ｔ−ＯＨに代えてＦｍｏｃ’−Ｔ
ｙｒ−ＯＨ（ｔ　２１１７　。

３ｍモル）を使用した他は前述したＭｅｔをカップリン
グさせる手順（例２　Ｂ　２．　）を繰り返してＦｍｏ
ｃ−Ｔｙｒ−Ｍｅｔ−Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ
（ＯｔＢｕ）−Ｐｈｅ−αＭ２−ＰＡＭ−レジンを与え
た。

２　Ｂ　７．　　Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）のカップリングＦ
ｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨに代えてＢｏｃ−Ａｓｐ（ＯｔＢ
ｕ）−０Ｈ（そめジシクロヘキシルアミン塩から誘導さ
れた、ｔ４１１ｉ、３ｍ％ル）を使用した他は前述した
Ｎｅｔをカップリングさせる手順（例２Ｂｌ）を繰り返
してＢｏｃ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｔｙｒ−Ｍｅｔ−Ｇ
ｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−Ｐｈｅ−
ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンを与えた。

２　Ｃ，硫酸化工程 上記のＢｏｃ−Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−Ｔｙｒ−Ｍｅｔ−
Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａａ　ｐ　（ＯｊＢｕ）−Ｐ
ｈｅ−ＯＣＨ２−Ｐ　ＡＭ−レジンをＤ　Ｍ　Ｆ　／ピ
リジン（容量で２：１．３　Ｘ　５０　ｄ　）で洗浄し
、三酸化イオウピリジン複合体（６，２５１７，４０ｍ
モル）を含有する同じ溶剤６（３ｙｌ中に懸濁させ、か
つ２１時間振盪した。硫酸化Ｂｏｃ−ペプチジル−ＰＡ
Ｍ−レジンをろ過により集め、かつＤＭＦ及びＤｅＭ（
各々３ｘｓｏｉ／）で洗浄した。

２　Ｄ、保護解除（Ｄｅｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ　）工程
上゛記ノＢｏｃ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）＝Ｔｙｒ　（Ｓｏ
、Ｈ）−Ｍｅ、ｔ−Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ（
ＯｐＢｕ）−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンをＤＣ
Ｍで洗浄しく　３Ｘ　５０　ｍｌ　）、ＴＦＡ／アニソ
ール／ＤＣＭ（容量で４ｑ：１：ｓｏ、ｓｘｓｏｍＪ各
々１０分）中に懸濁させかつ振盪してＢｏｃ及び０！Ｂ
ｕ基を除いた。硫酸化ペプチジル−ＰＡＭ−レジンをろ
過により単離し、ＤＣＭ、ＤＣＭ中の５ＸＤ　Ｉ　ＥＡ
及びＤＣＭで洗浄しく各＃３Ｘ５０Ｍ）、真空中で乾燥
させ、た。

２　Ｅ、開裂工程 上記のＡｓｐ−Ｔｙｒ（ＳＯ３Ｈ）−Ｍｅｔ−Ｇｌｙ−
Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ−Ｐｈ　ｅ−ＯＱ（２−Ｐ　Ａ
　Ｍ−レジンを耐圧ビンの中に入れ、ＭｅＯＨ２００ｍ
ｌ中に懸濁させ、−２０’　においてＮＨ，を飽和させ
、シールした。懸濁液を室温で２−５日間攪拌した。過
剰のＮＨ，をベントさせた後に、ＰＡＭ−レジンをろ別
しかつＭｅＯＨで洗浄した。総合のる液を乾燥状態にま
で蒸発させて粗製ＣＣＫ−８を１２２，９（総括理論収
率〕１０５Ｘ）与えた。

２Ｆ、精製 上記の粗製生成物を０．１　Ｍ＋７）　（ＮＨ４）２Ｃ
ｏ３２０ｄ中に溶解してＤＥＡＥ−）す′サクリルＴＭ
　Ｍカラム（１５Ｘ　９３．４ｍ、ＬＫＢインストルー
メンツ社）ＶＣカけた。Ｑ、１Ｍ及びｔ　ＯＭ　（ＮＨ
４）２ＣＯ３ノ各々２０００−から作りかつ２０〜７０
　ｐｓｉ　（ｔ４＝　４．９　ｋｇ／　ｃｒｒｔ２）　
ｉｃおいて３１ｄ／分テ吐出−１直線勾配の（ＮＨ４）
２ＣＯ，によりカラムを溶離して純ＣＣＫ−８の画分１
０２−１１４（各々２１ｄ）を与えた。両分をプールし
、乾燥状態にまで濃縮し、水で希釈し、凍結真空乾燥し
てＣＣＫ−ｓのアンモニウム塩［１，２７ｇ（総括理論
収率の２３Ｘ）、Ｒｆ　　（イー、メルク（ＥｌＭｅｒ
ｃｋ）シリカゲル６ｏｉ；”−２ａｓ上のＣＭＡＷ中〕
＝α２６を与えた。ＣＭＡＷは容量で９部のクロロホル
ムと、３部のメタノールと、１部の酢酸と、１部の水と
である５゜ 例６ Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−４−（オキシメチル）フェニル酢酸（
０，８３，！９．２　ｍ　モｋ　；ここでＰｈｅはフェ
ニルアラニンである）と、ジシクロへキシルカルボジイ
ミド（ＤＣＣ，ａ４１　ｇ、２　ｍ　モ／ｌ／　）と、
１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ、　　０
．４６ｊｐ。

３ｍモル）とを、容量で４＝１のジクロロメタン／ジメ
チルホＡ／　ム７ミド（Ｄ　ＣＭ　／　Ｄ　Ｍ　Ｆ　）
　５０ｍｌ中に０℃で１時間攪拌しながら溶解した。ア
ミノメチル−レジン（１，３４ｆｌ、０−７４６ｍモル
Ｎ／ｇ、ここで、レジンは重量で９９＝１のスチレン−
ジビニルベンゼン共重合体であった）をろ遅反応混合物
（沈降Ｎ　、　Ｎ’−ジシクロへキシルユリア（ＤＣＵ
−）を除去）中に懸濁させ、かつ室温で２〜１５時間振
盪した。生成物Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レ
ジンをろ過により単離しかっＤＣＭで洗浄した。

１椰のＢｏｃ’−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＦｖｌ−レジ
ンをＴＦＡ／７＝　７−　＃　／　Ｄ　ＣＭ　（容量で
４９：１：５０，３Ｘ”；　Ｏｔｎｌ　）中に室温で各
１０分懸濁させかつ振盪してＢｏｃ基を除いた。生成物
をろ過によって単離しかつＤＣＭ％ＤＣＭ中５ＸのＮ、
Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｄ　Ｉ　ＥＡ）及び
ＤＣＭで洗浄して（・各＊　ｓ・ｘ　ｓ　ｏ　ｔｔｔｌ
　）　、Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンの遊離塩基
を与えた。

Ｆｍｏｃ−Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−０Ｈ（１，２３＆、３
ｍモル）と、ＤＤＣ（０−６２、ｊｉｌ、　Ａｍモル）
と、ＨＯＢｔ　（０，６Ｐ、ｉｉｌ、４．５ｍモ＃）と
を容量で４．１のＤＣＭ／ＤＭＦｓｏＴｎｌ中に００で
１時間攪拌しながら溶解した。

Ｐｈ　ｅ　＝ＯＣＨ＊−ＰＡＮＩ−レジｙ　（１ｍｅｑ
仮定）をろ遅反応混合物（沈降ＤＣＵを除去）中に懸濁
させ、かつ室温で２〜１５時間振盪した。Ｐｍｏｃ−Ａ
ｓｐ（０！Ｂｕ）　−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジ
ン生成物をろ過によって集めかつＤＣＭで洗浄した。

３　Ｃ，Ｐｍｏｃ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｐｈ
ｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＲ←レジン上記のＦｍｏｃ−Ａｓｐ
（ＯｔＢｕ）−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ　−レジンを
Ｐ　Ｉ　Ｐ／ＤＭＦ　（容量で１：４．５０ｄ）中に室
温で３分間及び次いでもう一度７分間懸濁させかつ振盪
してＦｍｏｃ　基を除いた。生成物をろ過により単離し
かつＤＭＦ及びＤＣＭで洗浄して（各々３Ｘ　５　Ｄ　
ｍｌ　）　Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−Ｐ
ＡＭ−レジンの遊離塩基を与えた。

Ｆｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨ（ｔ　１２　ｇ　、　　３　ｍ
モ／Ｉ／）と、ＤＣＣ（（Ｌ　６２７７、　５　ｍモ／
Ｉ／）と、ＨＯＢｔ　　（（１６９９゜４、５　ｍ　−
Ｅ−／ｌ／　）とを容量で４：１のＤＣＭ／ＤＭＦ５０
ｄ中に０°　で１時間攪拌しながら溶解した。

Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−Ｐｈｅ−α上、−ＰＡＭ−レジｙ
　（１ｍｅｑ仮定）をろ遅反応混合物（沈降ＤＣＵ蝙除
去）中に懸濁させかつ室温で２〜１５時間振盪した。Ｆ
ｍｏ　ｃ　−Ｍｅ　ｔ−Ａｓｐ−（ＯｔＢｕ）−Ｐｈｅ
−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジン生成物をろ過により集めか
つＤＣＭ及びＤ　Ｍ、Ｆで洗浄した。

上記のＦｍｏｃ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ（−０ｐＢｕ）−Ｐｈ
ｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンを保護解除し、かつ例２
Ｃに例示したようにＦｍｏｃ−Ｔｒｐ−ＯＨ（ｔ　２　
Ｂ　、９．　′５ｍモル）、Ｐｍｏ　ｃ　−Ｇｌｙ−Ｏ
Ｈ（ａ８９．９’、　３ｍモル）、Ｆｍｏ　ｃ−Ｍｅ　
ｔ　−０Ｈ（１，１２１１Ｓ５　ｍモル）、Ｆ’１ｎｏ
ｃ−Ｔｙｒ（！Ｂｕ）−０Ｈ（１，３７ｇ、３ｍモル）
及びＦｍｏｃ−Ａｓｐ（０！−Ｂｕ）−０Ｈ（ｔ２５ｆ
ｊ、５ｍモル）を連続してカップリングさせてＦｍｏｃ
−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｔｙｒ（！Ｂｕ）−Ｍｅ、ｔ−
Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｐｈｅ
−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンを与えた。

３Ｅ、０ｔＢｕ及びｔＢｕの除去 上記のＦｍｏｃ−Ａｓｐ（０！Ｂｕ）−Ｔｙｒ（！Ｂｕ
）−Ｍｅｔ−Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅ　ｔ　−Ａｓｐ　（
０！Ｂｕ）−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンをＤＣ
Ｍで洗浄しく３×５０Ｗｌｌ）、ＴＦＡ／アニソール／
ＤＣＭ（容量で４９：１：５０．３ｘ５Ｑｍ／、各々１
０分）中に懸濁させかつ振盪してＰｍｏ　ｃ　−ＡＳ　
ｐ　−Ｔｙｒ−Ｍｅｔ−Ｇｌ　ｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａ
ｓｐ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンを与え、これ
をろ過により単離し、ＤＣＭ、ＤＣＭ中の５ＸＤＩＥＡ
及びＤＣＭで洗浄した（各々３ｘ５ｏｍ／）。

ｓ　Ｆ、硫酸化 上記のＦｍｏｃ−Ａｓｐ−Ｔｙｒ−Ｍｅ　ｔ　−Ｇｌ　
ｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅ　ｔ−Ａｓｐ−ＰｈｅＯＣＨ２−ＰＡ
Ｍ−ｖ　シｙ　ｉｋ　Ｄ　Ｍ　Ｆ　／ピ’）　’）　７
　（容１にテ２＝１．３　Ｘ　５　ａｌｎｌ）で洗浄し
、三酸化イオウ−ピリジン複合体（’１ｈ３６７９，４
０ｍモル）を含有する同じ溶剤６０１１１中に懸濁させ
、かつ２１時間振盪してＦｍｏｃ−Ａｓｐ−Ｔｙｒ（８
０，Ｈ）−Ｍｅｔ−Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ−
Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ−レジンを与え、これをろ過
により集めかつＤＭＦ及びＤＣＭで洗浄した（各々３×
５０プ）。

ｓ　Ｇ、Ｆｍｏｃ　ノ除去 上記のＦｍｏｃ−Ａｓｐ：Ｔｙｒ−８Ｏ，Ｈ）−Ｍｅｔ
−Ｇｌｙ−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２
−ＰＡＭ−レジンをＤＭＦで洗浄しく３Ｘ　５０　ｍｌ
　）、Ｐ　Ｉ　Ｐ／ＤＭＦ　（容量で１：４．５０ｍ１
）中に３分間、次いでもう一度７分間懸濁させかつ振盪
してＡｓ　ｐ　−Ｔｙ　ｒ　（８０５Ｈ）−Ｍｅ　ｔ　
−Ｇｌ　ｙ−Ｔｒ　ｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ−Ｐｈｅ−ＯＣ
Ｈ２−ＰＡＭ−レジンを与え、これをＤＭＦ、ＤＣＭ、
ＤＣＭ中の５％ＤＩＥＡ、ＤＣＭで洗浄しく各々３×５
０１１Ｌｌ）、真空中で乾燥させた。

５　Ｈ，樹脂の開裂 上記のＡｓｐ−Ｔｙｒ（ＳＯ，Ｉ（）−Ｍｅｔ−Ｇｌｙ
−Ｔｒｐ−Ｍｅｔ−Ａｓｐ−Ｐｈｅ−ＯＣＨ２−ＰＡＭ
−レジンを耐圧ビンの中に入れ、ＭｅＯＨ２００ＴＩＬ
ｌ中に懸濁させ、−２０’においてＮＨ３を飽和させ、
シールした。懸濁液を室温で２−５日間攪拌した。過剰
のＮＨ３をペントさせた後に％ＰＡＭ−レジンをろ別し
かつＭｅＯＨで洗浄した。ろ液を乾燥状態にまで蒸発さ
せて粗製ＣＣＫ−８をｔ５８ｇ（理論収率の１１９％）
与えた。

Ｓ　１．精製 上記の粗製生成物をｏ、＊５ＭのＮＨ４ＨＣ０，２０ｍ
ｍノド溶解してＤＥＡＥ−）リプクリル１ＭＭカラＡ（
５，ｎ　８Ｘ２５．５ｃｒｎ、　ＬＫＢインストルーメ
ンツ社）にかけた。（１１５Ｍ及びｔ　５　Ｍ　０Ｈ４
ＨＣＯ３（ｐＨ８）の各々２０００ｍＡ’から作りかつ
２０〜７０ｐｓｉ（１，４〜ｔ　９　ｋｙ　／ａｒｔ？
　）において３麻／分で吐出する直線勾配のＮＨ４ＨＣ
Ｏ３によりカラムを溶離して純ＣＣＫ−８の画分１１７
−１３７（各々２１　ｙｔｌ　）を与えた。両分をプー
ルし、乾燥状態にまで濃縮し、［１１Ｍ　ＮＨ，で希釈
し、凍結真空乾燥してＣＣＫ−ｓのアンモニウ゛ム塩ｎ
、５３Ｊｉｌ（総括理論収率の２９Ｘ）、Ｒｆ　［イー
、メルク（Ｅ。

Ｍ＝ｒｃｋ　）　Ｖリカゲに６０Ｆ−２４５上のＣＭＡ
Ｗ中〕＝０．２６を与えた。ＣＭＡＷは容量で６部のク
ロロホルムと、３部のメタノールと、１部の酢酸と、１
部の水とである。

前述した発明は、硫酸化チロシンを含有する分析上純粋
なペプチドを従来公知のプロセスにより達成される総括
収率の３〜４倍の総括収率で固相合成する方法を提供す
るものである。

手続補正書（方式） ％式％ 事件の表示　昭和６０年特　願第　９５９６１、発明の
名称　　硫酸化チロシンを含有するペプチドの固相合成
法 補正をする者

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、以下の工程： ａ）アミノメチル−ポリスチレン及びＮ−アミノアルキ
   レン−ポリアクリルアミドから成る群より選ぶ樹脂のペ
   プチジル誘導体を、４−（オキシメチル）フェニルアシ
   ルハンドルをその保護アミン酸エステル誘導体の形で結
   合させ、続いてチロシンを含む保護アミノ酸の活性エス
   テルを該樹脂に逐次に付加することによつて作り、 ｂ）チロシン含有ペプチジル樹脂のヒドロキシル基と三
   酸化イオウ−第三アミン複合体及びピリジニウムアセチ
   ルスルフェートから成る群より選ぶ硫酸化剤とを反応さ
   せてスルフェートエステルとし、 ｃ）ペプチジル誘導体をアルカリ、アンモニア、アミン
   、ヒドラジン、アルコキシドから成る群より選ぶ求核試
   薬で処理して樹脂からペプチドを分離する を含む硫酸化チロシンを含有するペプチドの固相合成方
   法。 ２、前記ペプチドの溶液をイオン交換カラムに通してペ
   プチドを精製する工程を包含する特許請求の範囲第１項
   記載の方法。 ３、樹脂がアミノメチル−ポリスチレンである特許請求
   の範囲第１項記載の方法。 ４、ハンドルが４−（オキシメチル）フェニルアセチル
   である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５、特許請求の範囲第１項記載のハンドルの保護フェニ
   ルアラニンエステル誘導体をその活性エステルとして樹
   脂に付加する特許請求の範囲第１項記載の方法。 ６、樹脂のＣＣＫ−８ペプチジル誘導体が製造されるよ
   うに保護アミノ酸、アスパラギン酸、メチオニン、トリ
   プトファン、グリシン、チロシンの活性エステルを続け
   て加える特許請求の範囲第４項記載の方法。 ７、複合体がピリジン三酸化イオウである特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 ８、硫酸化剤がピリジニウムアセチルスルフェートであ
   る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ９、ペプチジル誘導体をアンモニアで処理してペプチド
   を樹脂から分離する特許請求の範囲第１項記載の方法。 １０、保護アミノ酸の活性エステルを２−ニトロフェノ
   ール、４−ニトロフェノール、Ｎ−ヒドロキシスクシン
   イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールから成る群
   より選ぶ化合物から誘導する特許請求の範囲第１項記載
   の方法。 １１、アミノ酸のアミノ基をＢｏｃ及びＦｍｏｃから選
   ぶ基により保護し、Ａｓｐの側鎖カルボキシル基をＯ￥
   ｔ￥Ｂｕにより保護し、Ｔｙｒの側鎖を未保護にする特
   許請求の範囲第６項記載の方法。 １２、アミノ酸のアミノ基をＢｏｃ及びＦｍｏｃから選
   ぶ基により保護し、Ａｓｐの側鎖カルボキシル基をＯ￥
   ｔ￥Ｂｕにより保護し、Ｔｙｒの側鎖ヒドロキシルを￥
   ｔ￥Ｂｕにより保護する特許請求の範囲第６項記載の方
   法。 １３、アミノメチルポリスチレン及びＮ−アミノアルキ
   レン−ポリアクリルアミドから成る群より選ぶ樹脂のＣ
   ＣＫ−８ペプチジル誘導体であつて、ＣＣＫ−８ペプチ
   ドと樹脂との間に４−（オキシメチル）フェニルアセチ
   ルハンドルを含有する前記誘導体。 １４、ペプチジル誘導体が次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ レジン （式中、ＡはＢｏｃ及びＦｍｏｃから成る群より選ぶア
   ミノ保護基である） を有する特許請求の範囲第１項記載の方法。 １５、ＡがＢｏｃであり、かつスルフェートエステルを
   製造した後にＢｏｃ及びＯ￥ｔ￥Ｂｕ保護基を除く特許
   請求の範囲第１４項記載の方法。 １６、ＡがＦｍｏｃであり、スルフェートエステルを製
   造する前にＯ￥ｔ￥Ｂｕ保護基を除き、スルフェートエ
   ステルを製造した後にＦｍｏｃ保護基を除く特許請求の
   範囲第１４項記載の方法。 １７、ペプチジル誘導体が次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ レジン を有しかつスルフェートエステルを製造する前にＯ￥ｔ
   ￥Ｂｕ及び￥ｔ￥Ｂｕ基を除き、スルフェートエステル
   を製造した後にＦｍｏｃ基を除く特許請求の範囲第１項
   記載の方法。