JPS61227210A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPS61227210A JPS61227210A JP6713885A JP6713885A JPS61227210A JP S61227210 A JPS61227210 A JP S61227210A JP 6713885 A JP6713885 A JP 6713885A JP 6713885 A JP6713885 A JP 6713885A JP S61227210 A JPS61227210 A JP S61227210A
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- magnetic head
- film magnetic
- piezoelectric element
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/10—Indicating arrangements; Warning arrangements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/40—Protective measures on heads, e.g. against excessive temperature
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
基板上に下部磁極層、ギャップ層、絶縁層、薄膜コイル
、上部磁極層等よりなる薄膜磁気ヘッドを形成した基板
に、同磁気ヘッドに近接°して下部電極、圧電性部材、
上部電極からなる圧電素子が付設された小型、軽量な薄
膜磁気ヘッド構造。
、上部磁極層等よりなる薄膜磁気ヘッドを形成した基板
に、同磁気ヘッドに近接°して下部電極、圧電性部材、
上部電極からなる圧電素子が付設された小型、軽量な薄
膜磁気ヘッド構造。
本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、特に磁気ディスクとの
間の異常接触を容易に検知できるようにした薄膜磁気ヘ
ッド構造に関する。
間の異常接触を容易に検知できるようにした薄膜磁気ヘ
ッド構造に関する。
最近、磁気ヘッドは益々高記録密度化、小型化、高精度
化が要求され、更に量産性に冨んだ低コス゛トの磁気ヘ
ッドが要求されている。このような条件を充たす磁気ヘ
ッドとして、記録に寄与するヘッドの磁界分布が急峻で
高密度記録ができ、一括生産によって低価格と特性の均
一化が図れる小型な薄膜磁気ヘッドが実用化されている
。
化が要求され、更に量産性に冨んだ低コス゛トの磁気ヘ
ッドが要求されている。このような条件を充たす磁気ヘ
ッドとして、記録に寄与するヘッドの磁界分布が急峻で
高密度記録ができ、一括生産によって低価格と特性の均
一化が図れる小型な薄膜磁気ヘッドが実用化されている
。
ところでこのような薄膜磁気ヘッドは、エアスライダに
搭載され、磁気ディスクの高速回転で生じる空気流によ
り空気力学的に支持されている。
搭載され、磁気ディスクの高速回転で生じる空気流によ
り空気力学的に支持されている。
そしてこの磁気ヘッドのギャップ層と磁気デイスフの磁
性膜との間で漏れ磁界を発生させ、この漏れ磁界によっ
て情報の記録再生を行っている。
性膜との間で漏れ磁界を発生させ、この漏れ磁界によっ
て情報の記録再生を行っている。
今、磁気ディスク上に塵やゴミ等が付着すると、この塵
を介して磁気ディスクと磁気ヘッドが接触する接触回数
が頻繁になり、磁気ディスクと磁気ヘッドの両方が損傷
するといったヘッドクラッシュ現象を発生し、装置の使
用が不可能になる。
を介して磁気ディスクと磁気ヘッドが接触する接触回数
が頻繁になり、磁気ディスクと磁気ヘッドの両方が損傷
するといったヘッドクラッシュ現象を発生し、装置の使
用が不可能になる。
従来のＷｌ膜磁気ヘッドを含むヘッド支持機構の要部平
面図と側面図を第５図、第６図に示す。
面図と側面図を第５図、第６図に示す。
第５図、および第６図に示すように薄膜ヘッドｌを形成
して所定形状に切り出したアルミナ系セラミックスより
なるスライダ２が、弾力性のある薄板状の金属部材より
なるジンバル構造体３に取りつけられ、このジンバル構
造体３がバネ板４を介してアーム５に取りつけられてい
る。
して所定形状に切り出したアルミナ系セラミックスより
なるスライダ２が、弾力性のある薄板状の金属部材より
なるジンバル構造体３に取りつけられ、このジンバル構
造体３がバネ板４を介してアーム５に取りつけられてい
る。
このスライダ２の磁気ディスク６と対向する面の背面側
に圧電素子７を固着し、この圧電素子７を用いて磁気デ
ィスクと磁気ヘッドが接触した時、ディスク或いはヘッ
ドに於ける歪みのエネルギーが弾性波として放出される
のを検知し、ディスクとヘッド間の接触状況を検知する
方法が考えられている。
に圧電素子７を固着し、この圧電素子７を用いて磁気デ
ィスクと磁気ヘッドが接触した時、ディスク或いはヘッ
ドに於ける歪みのエネルギーが弾性波として放出される
のを検知し、ディスクとヘッド間の接触状況を検知する
方法が考えられている。
ところでこのような薄膜磁気ヘッドは益々小型化されよ
うとしており、このように圧電素子７をスライダ２の背
面に固着したのでは、ヘッドの構造が複雑で小型化でき
ない、また固着条件によっては検出感度にバラツキを生
じる。また固着した圧電素子が装置の稼働中に外れる等
の欠点があった。
うとしており、このように圧電素子７をスライダ２の背
面に固着したのでは、ヘッドの構造が複雑で小型化でき
ない、また固着条件によっては検出感度にバラツキを生
じる。また固着した圧電素子が装置の稼働中に外れる等
の欠点があった。
そこで圧電素子を、薄膜磁気ヘッドを形成する工程で一
括して製造して設け、ヘッドと圧電素子とスライダとを
一体化した構造が望まれるようになっている。
括して製造して設け、ヘッドと圧電素子とスライダとを
一体化した構造が望まれるようになっている。
第１図は本発明の薄膜磁気ヘッドの斜視図で、図示する
ように基板１１上には所定形状の下部磁極層１２、ギャ
ップ層１３、下部絶縁層１４、薄膜コイル１５、上部絶
縁層１６、上部磁極層１７等よりなる薄膜磁気ヘッド１
８と下部電極１９、圧電性部材２０．上部電極２１を積
層形成した圧電素子２２とが近接して設けられている。
ように基板１１上には所定形状の下部磁極層１２、ギャ
ップ層１３、下部絶縁層１４、薄膜コイル１５、上部絶
縁層１６、上部磁極層１７等よりなる薄膜磁気ヘッド１
８と下部電極１９、圧電性部材２０．上部電極２１を積
層形成した圧電素子２２とが近接して設けられている。
即ち、本発明の薄膜磁気ヘッドは、薄膜磁気ヘッド１８
を形成する基板１１に、ａｌｌｌｌ磁気ヘッド１８を形
成する工程の一部を利用して圧電素子２２を同時に設け
、薄膜磁気ヘッド１８と圧電素子２２とを一体化して小
型、軽量化を図ったものである。
を形成する基板１１に、ａｌｌｌｌ磁気ヘッド１８を形
成する工程の一部を利用して圧電素子２２を同時に設け
、薄膜磁気ヘッド１８と圧電素子２２とを一体化して小
型、軽量化を図ったものである。
以下、図面を用いながら本発明の一実施例につき詳細に
説明する。
説明する。
第１図は本発明のｆｆ膜磁気ヘッドの斜視図で、第２図
は第１図をｎ−ｎ ’線に沿って切断した薄膜磁気ヘッ
ドの要部断面図を示し、第３図は第１図をｍ−ｍ ’線
に沿って切断した圧電素子の要部断面図を示す。
は第１図をｎ−ｎ ’線に沿って切断した薄膜磁気ヘッ
ドの要部断面図を示し、第３図は第１図をｍ−ｍ ’線
に沿って切断した圧電素子の要部断面図を示す。
第１図、第２図および第３図に示すように本発明の１１
１１１磁気ヘツドは、アルミナ系セラミックス、或いは
フォトセラムよりなる非磁性基板１１上に、メッキ、蒸
着、スバフタ、レジストコーティング等ホトリソグラフ
ィ法を用いて、下部磁極層１２、薄膜コイル１５、上部
磁極層１７及び端子引出し層２３とからなる薄膜磁気ヘ
ッド１日と、下部電極１９、圧電性部材２０および上部
電極２１からなる圧電素子２２とを近接して設けている
。
１１１磁気ヘツドは、アルミナ系セラミックス、或いは
フォトセラムよりなる非磁性基板１１上に、メッキ、蒸
着、スバフタ、レジストコーティング等ホトリソグラフ
ィ法を用いて、下部磁極層１２、薄膜コイル１５、上部
磁極層１７及び端子引出し層２３とからなる薄膜磁気ヘ
ッド１日と、下部電極１９、圧電性部材２０および上部
電極２１からなる圧電素子２２とを近接して設けている
。
このような薄膜磁気ヘッドを形成するには、まずアルミ
ナ系セラミックス、或いはフォトセラムよりなる非磁性
基板１１全面に二酸化シリコン膜より成る絶縁層２４を
形成する。この絶縁層２４上にニッケルー鉄（Ｎｉ−Ｆ
ｅ）合金よりなる被膜を所定のパターンに形成して薄膜
磁気ヘッド１８の下部磁極層１２及び圧電素子２２の下
部電極１９を形成する。
ナ系セラミックス、或いはフォトセラムよりなる非磁性
基板１１全面に二酸化シリコン膜より成る絶縁層２４を
形成する。この絶縁層２４上にニッケルー鉄（Ｎｉ−Ｆ
ｅ）合金よりなる被膜を所定のパターンに形成して薄膜
磁気ヘッド１８の下部磁極層１２及び圧電素子２２の下
部電極１９を形成する。
次いで薄膜磁気ヘッド１８のギャップ層１３となるＳｉ
Ｏ２膜を所定のパターンに形成する。
Ｏ２膜を所定のパターンに形成する。
次いで圧電素子２２の圧電性部材２ｏとなる酸化亜鉛（
ＺｎＯ２）膜を所定のパターンに形成する。
ＺｎＯ２）膜を所定のパターンに形成する。
更にこの基板ｌｌ上にホトレジスト膜を所定のパターン
に形成し、薄膜磁気ヘッド１８の下部絶縁層１４を形成
する。
に形成し、薄膜磁気ヘッド１８の下部絶縁層１４を形成
する。
更に痢（Ｃｕ）よりなる薄膜コイル１５を所定のパター
ンに形成後、この基板ｌｌ上にホトレジスト膜を所定の
パターンに形成しｆｆＪｌｆｆ磁気ヘッド１８の上部絶
縁層１６を形成する。
ンに形成後、この基板ｌｌ上にホトレジスト膜を所定の
パターンに形成しｆｆＪｌｆｆ磁気ヘッド１８の上部絶
縁層１６を形成する。
この時、同時に圧電素子２２の上部電極２１と下部電極
１９間の絶縁層２５も上記ホトレジスト膜にて形成する
。
１９間の絶縁層２５も上記ホトレジスト膜にて形成する
。
更に、この基板上にＮｉ−Ｆｅ ｌｌを所定のパターン
に形成し、薄膜磁気ヘッド１８の上部磁極層１７および
圧電素子２２の上部電極２１を形成する。
に形成し、薄膜磁気ヘッド１８の上部磁極層１７および
圧電素子２２の上部電極２１を形成する。
次いでＣｕよりなる薄膜磁気ヘッド１８の端子引出し層
２３を形成後、該基板１１上にアルミナよりなる保護膜
を被着して、基板１１上を平坦にした後、第４図に示す
ようなスライダ３１の形状に切り出して圧電素子付きの
薄膜磁気ヘッドを形成する。
２３を形成後、該基板１１上にアルミナよりなる保護膜
を被着して、基板１１上を平坦にした後、第４図に示す
ようなスライダ３１の形状に切り出して圧電素子付きの
薄膜磁気ヘッドを形成する。
第４図に示すような本発明の圧電素子付き薄膜磁気ヘッ
ドを支持したスライダ３１の構造によれば、薄膜磁気ヘ
ッド１８と圧電素子２２が同一基板１１に近接して一括
して形成されているので、小型、軽量なものが得られる
。
ドを支持したスライダ３１の構造によれば、薄膜磁気ヘ
ッド１８と圧電素子２２が同一基板１１に近接して一括
して形成されているので、小型、軽量なものが得られる
。
また薄膜磁気ヘッド１８の下部磁極層１２と圧電素子２
２の下部電極１９、並びに薄膜磁気ヘッド１８の上部磁
極層１７と圧電素子２２の上部電極２１とが同一工程で
形成されるので、従来の薄膜磁気ヘッドの形成工程より
工程数が余り増加しない状態で圧電素子付きの薄膜磁気
ヘッドが得られる。
２の下部電極１９、並びに薄膜磁気ヘッド１８の上部磁
極層１７と圧電素子２２の上部電極２１とが同一工程で
形成されるので、従来の薄膜磁気ヘッドの形成工程より
工程数が余り増加しない状態で圧電素子付きの薄膜磁気
ヘッドが得られる。
以上述べたように本発明の圧電素子付きの薄膜磁気ヘッ
ドによれば、磁気ディスクと磁気ヘッドの異常接触を検
知できる小型で軽量の薄膜磁気ヘッドが得られる効果が
ある。
ドによれば、磁気ディスクと磁気ヘッドの異常接触を検
知できる小型で軽量の薄膜磁気ヘッドが得られる効果が
ある。
第１図は本発明の薄膜磁気ヘッドの斜視図、第２図は第
１図の１１゛線に沿って切断した断面図、 第３図は第１図のｍ −ｍ、 ’線に沿って切！シた断
面図、 第４図は本発明の薄膜磁気ヘッドを支持したスライダの
斜視図、 第５図、および第６図は従来の薄膜磁気ヘッドを含むヘ
ッド支持機構のの要部平面図と要部側面図である。 第１図乃至第４図に於いて、 １１は基板、１２は下部磁極層、１３はギャップ層、１
４は下部絶縁層、１５はＷｌｌココイル１６は上部絶縁
層、Ｉ７は上部磁極層、１８は薄膜磁気ヘッド、１９は
下部電極、２０は圧電性部材、２１は上部電極、２２は
圧電素子、２３は端子引出し層、２４は５ｆ０２よりな
る絶縁層、２５はホトレジスト膜よりなる絶縁層、１１
１１ 閃 第 ２Ｑ 第 ３図 本１シ嘴あＡ合気ヤトーのバラ４γ６会七ηＬＩＩＺ第
５１１１
１図の１１゛線に沿って切断した断面図、 第３図は第１図のｍ −ｍ、 ’線に沿って切！シた断
面図、 第４図は本発明の薄膜磁気ヘッドを支持したスライダの
斜視図、 第５図、および第６図は従来の薄膜磁気ヘッドを含むヘ
ッド支持機構のの要部平面図と要部側面図である。 第１図乃至第４図に於いて、 １１は基板、１２は下部磁極層、１３はギャップ層、１
４は下部絶縁層、１５はＷｌｌココイル１６は上部絶縁
層、Ｉ７は上部磁極層、１８は薄膜磁気ヘッド、１９は
下部電極、２０は圧電性部材、２１は上部電極、２２は
圧電素子、２３は端子引出し層、２４は５ｆ０２よりな
る絶縁層、２５はホトレジスト膜よりなる絶縁層、１１
１１ 閃 第 ２Ｑ 第 ３図 本１シ嘴あＡ合気ヤトーのバラ４γ６会七ηＬＩＩＺ第
５１１１
Claims (2)
- （１）基板（１１）上に所定形状の下部磁極層（１２）
、ギャップ層（１３）、絶縁層（１４）、薄膜コイル（
１５）、上部磁極層（１７）よりなる薄膜磁気ヘッド（
１８）が形成された基板（１１）上に、下部電極（１９
）、圧電性部材（２０）、上部電極（２１）を積層形成
した圧電素子（２２）が設けられていることを特徴とす
る薄膜磁気ヘッド。 - （２）前記薄膜磁気ヘッド（１８）の下部磁極層（１２
）と圧電素子（２２）の下部電極（１９）、及び前記薄
膜磁気ヘッド（１８）の上部磁極層（１７）と圧電素子
（２２）の上部電極（２１）とが同一工程で形成された
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
に記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60067138A JP2529183B2 (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60067138A JP2529183B2 (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61227210A true JPS61227210A (ja) | 1986-10-09 |
| JP2529183B2 JP2529183B2 (ja) | 1996-08-28 |
Family
ID=13336238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60067138A Expired - Lifetime JP2529183B2 (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2529183B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7082671B2 (en) * | 1999-06-03 | 2006-08-01 | Tdk Corporation | Magnetic disc apparatus production method |
| EP1884931A1 (en) * | 2006-07-27 | 2008-02-06 | Fujitsu Ltd. | Magnetic head |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58153270A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-12 | Hitachi Ltd | 浮動ヘツド |
-
1985
- 1985-03-29 JP JP60067138A patent/JP2529183B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58153270A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-12 | Hitachi Ltd | 浮動ヘツド |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7082671B2 (en) * | 1999-06-03 | 2006-08-01 | Tdk Corporation | Magnetic disc apparatus production method |
| EP1884931A1 (en) * | 2006-07-27 | 2008-02-06 | Fujitsu Ltd. | Magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2529183B2 (ja) | 1996-08-28 |
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