JPS61230137A - ポリエステル及びリソグラフイー用要素 - Google Patents
ポリエステル及びリソグラフイー用要素Info
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- JPS61230137A JPS61230137A JP61071419A JP7141986A JPS61230137A JP S61230137 A JPS61230137 A JP S61230137A JP 61071419 A JP61071419 A JP 61071419A JP 7141986 A JP7141986 A JP 7141986A JP S61230137 A JPS61230137 A JP S61230137A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0384—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the main chain of the photopolymer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/68—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G63/685—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen
- C08G63/6854—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/6858—Polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds in which at least one of the two components contains aliphatic unsaturation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/07—Polymeric photoconductive materials
- G03G5/075—Polymeric photoconductive materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、リソグラフィー用要素のような感輻射線要素
に使用するのに有用なポリエステル、そしてこのような
ポリエステルを含むリソグラフィー用要素に関する。
に使用するのに有用なポリエステル、そしてこのような
ポリエステルを含むリソグラフィー用要素に関する。
リソグラフィー用要素及びこのような要素を製造する方
法は公知である。リス乾板を製作するための一般的なリ
ソグラフィープロセスの場合、複製されるべきオリジナ
ル(5版)を作製することが必要である。次いで、この
オリジナルのネガもしくは4ジのハロダン化銀グラフィ
ックアーットランスペアレンシイを、拡大/縮小カメラ
を使用シテ、ハロダン化銀グラフィックアーツフィルム
をオリジナルに露光することによって作製する。
法は公知である。リス乾板を製作するための一般的なリ
ソグラフィープロセスの場合、複製されるべきオリジナ
ル(5版)を作製することが必要である。次いで、この
オリジナルのネガもしくは4ジのハロダン化銀グラフィ
ックアーットランスペアレンシイを、拡大/縮小カメラ
を使用シテ、ハロダン化銀グラフィックアーツフィルム
をオリジナルに露光することによって作製する。
このフィルムを次いで現像する。所望とする輪郭跡を配
列するため、トランスペアレンシイをストリッピングテ
ーブル上でマスキングする。追加のトランスペアレンシ
イを重ね合わせて画像域に修正を加えたりすることがで
きる。
列するため、トランスペアレンシイをストリッピングテ
ーブル上でマスキングする。追加のトランスペアレンシ
イを重ね合わせて画像域に修正を加えたりすることがで
きる。
米国特許第3,929,489号のリソグラフィー用要
素が一般的である。この米国特許によれば、感輻射線の
光架橋型成分をもったポリエステルが感光性層に含まれ
るリソグラフィー用要素が開示されている。しかし、こ
の米国特許第3,929,489号により具体的に示さ
れるような従来のリソグラフィー用要素の場合、リス乾
板の製作のために独立のハロダン化銀グラフイックアー
ットランスペアレンシイを作製しなければならないとい
うことが問題点としである。
素が一般的である。この米国特許によれば、感輻射線の
光架橋型成分をもったポリエステルが感光性層に含まれ
るリソグラフィー用要素が開示されている。しかし、こ
の米国特許第3,929,489号により具体的に示さ
れるような従来のリソグラフィー用要素の場合、リス乾
板の製作のために独立のハロダン化銀グラフイックアー
ットランスペアレンシイを作製しなければならないとい
うことが問題点としである。
上述の従来の技術の説明から理解されるように、リス乾
板の製作プロセスから前記トランスベアレンシイの必要
性をなくすること、これが本発明が解決しようとする問
題点である。
板の製作プロセスから前記トランスベアレンシイの必要
性をなくすること、これが本発明が解決しようとする問
題点である。
本発明によれば、アリールアミン光導電性成分を含有す
る繰シ返し単位最低12モモル及び光重合性成分を含有
する繰シ返し単位最低15モモルを含み、かつ前記成分
のそれぞれが異なる波長の光に対して感応性を有してい
る、光導電性−光架架性ポリエステルが提供される。
る繰シ返し単位最低12モモル及び光重合性成分を含有
する繰シ返し単位最低15モモルを含み、かつ前記成分
のそれぞれが異なる波長の光に対して感応性を有してい
る、光導電性−光架架性ポリエステルが提供される。
さらに、本発明によれば、このようなポリエステルを有
しているリソグラフィー用要素が提供される。
しているリソグラフィー用要素が提供される。
上記したポリエステルは、路幅射線要素、特に導電性支
持体と感光性層とが電気的に接触せしめられておプ、か
つ感光性層中に本発明のポリエステルが含まれるような
ラジオグラフィー用要素を製造するのに有用である。
持体と感光性層とが電気的に接触せしめられておプ、か
つ感光性層中に本発明のポリエステルが含まれるような
ラジオグラフィー用要素を製造するのに有用である。
本発明の要素は、下記の工程:
本発明のポリエステルを内部に有する感光性層を含む路
幅射線要素をコロナ帯電させること、前記ポリエステル
の光導電性成分が感度を有している輻射線を用いて前記
要素を複製用オリジナルに露光し、よって、オリジナル
の静電潜像を形成させること、 前記潜像を静電トナー組成物で現像すること、静電像を
保持した要素を前記ポリエステルの光架橋性成分が感度
を有している輻射線に露光し、よって、露光域のポリエ
ステルを架橋させること、及び 架橋重合体域を保持した要素を現像剤で処理して現儂済
み静電像と未架橋(未露光)の重合体を除去し、よって
、架橋したポリエステルからなる画儂域を形成させるこ
と、 を含むリス乾板製作方法において使用することができる
。
幅射線要素をコロナ帯電させること、前記ポリエステル
の光導電性成分が感度を有している輻射線を用いて前記
要素を複製用オリジナルに露光し、よって、オリジナル
の静電潜像を形成させること、 前記潜像を静電トナー組成物で現像すること、静電像を
保持した要素を前記ポリエステルの光架橋性成分が感度
を有している輻射線に露光し、よって、露光域のポリエ
ステルを架橋させること、及び 架橋重合体域を保持した要素を現像剤で処理して現儂済
み静電像と未架橋(未露光)の重合体を除去し、よって
、架橋したポリエステルからなる画儂域を形成させるこ
と、 を含むリス乾板製作方法において使用することができる
。
この方法では、リス乾板の製作のために独立したハロダ
ン化銀トランスペアレンシイを使用しない。
ン化銀トランスペアレンシイを使用しない。
本発明の1つの有用な面に例えば、アリールアミン光導
電性成分を含有する重合繰り返し単位は、a)ポリエス
テルの12〜50モルチをモル、そしてb)次の構造式
によって表わされる:曹 J\・ 上式において、 nは1〜6の整数であシ、 Aはニトリロ、アルカントリイル又はアルケントリイル
を表わし、 R1はアリーレンを表わし、そして R2及びRはそれぞれ独立にジアルキルアミノアリール
、ジアリールアミノアリール、アリールアルキルアミノ
を表わし、また、前記入がニトリロである場合、R及び
Rはそれぞれ独立にアルキル又はアリールを表わす。
電性成分を含有する重合繰り返し単位は、a)ポリエス
テルの12〜50モルチをモル、そしてb)次の構造式
によって表わされる:曹 J\・ 上式において、 nは1〜6の整数であシ、 Aはニトリロ、アルカントリイル又はアルケントリイル
を表わし、 R1はアリーレンを表わし、そして R2及びRはそれぞれ独立にジアルキルアミノアリール
、ジアリールアミノアリール、アリールアルキルアミノ
を表わし、また、前記入がニトリロである場合、R及び
Rはそれぞれ独立にアルキル又はアリールを表わす。
アルキルは、例えばメチル基、エチル基、グロビル基、
イソプロピル基などの基を指している。
イソプロピル基などの基を指している。
アリールは、フェニル基又はす7チル基、メチルフェニ
ル基、そしてジメチルフェニル基を指している。
ル基、そしてジメチルフェニル基を指している。
本発明のポリエステルにおいて、アリールアミン光導電
性成分及び光架橋性成分がそれぞれ異なる波長の光に対
して感度を有していることが必須の要件である。したが
りて、両方の成分が同一波長の光に対して感度を有して
いるような場合には、光導電性成分あるいは光架橋性成
分のいずれか一方を異なる波長に対してまで増感するこ
とができる。このような増感を行なうための方法及び物
質は、光架橋の分野、そして光導電性の分野において公
知である。
性成分及び光架橋性成分がそれぞれ異なる波長の光に対
して感度を有していることが必須の要件である。したが
りて、両方の成分が同一波長の光に対して感度を有して
いるような場合には、光導電性成分あるいは光架橋性成
分のいずれか一方を異なる波長に対してまで増感するこ
とができる。このような増感を行なうための方法及び物
質は、光架橋の分野、そして光導電性の分野において公
知である。
繰り返しのアリールアミン光導電性成分は、本発明のポ
リエステルの二数成分の縮合残基に結合せしめられてい
るか、あるいはかかるポリエステルのジオール、ジアミ
ン又はヒドロキシ置換アミン成分の縮合残基に結合せし
められている。
リエステルの二数成分の縮合残基に結合せしめられてい
るか、あるいはかかるポリエステルのジオール、ジアミ
ン又はヒドロキシ置換アミン成分の縮合残基に結合せし
められている。
このような繰シ返しのアリールアミン光導電性成分は、
例えば、アルデヒド置換基を有するアリールアミン光導
電体と二数ラジカルの活性メチレンとの塩基縮合を介し
てポリエステルの二数残基に結合せしめられておシ、よ
って、光導電体をポリエステルの二数部分に結合してな
る不飽和結合を形成している。この不飽和結合は、その
後、/4ラジウム/木炭触媒上の水素化によって還元せ
しめられる。図式的に示すと、アリールアミン含有基の
調製は次のようにして行なうことができる:?“2 C)f CH。
例えば、アルデヒド置換基を有するアリールアミン光導
電体と二数ラジカルの活性メチレンとの塩基縮合を介し
てポリエステルの二数残基に結合せしめられておシ、よ
って、光導電体をポリエステルの二数部分に結合してな
る不飽和結合を形成している。この不飽和結合は、その
後、/4ラジウム/木炭触媒上の水素化によって還元せ
しめられる。図式的に示すと、アリールアミン含有基の
調製は次のようにして行なうことができる:?“2 C)f CH。
必須のアルデヒド基を有する有用なアリールアミン光導
電体の例には、次のような物質がある:4.4’−(4
−ホルミルベンジリデン)ビス(N。
電体の例には、次のような物質がある:4.4’−(4
−ホルミルベンジリデン)ビス(N。
N−ジエチル−m−トルイジン)、4−アニリノベンズ
アルデヒド、4.4’−(4−ホルミルベンジリデン)
ビス(N、N−ジベンジル−m−トルイジン)、4.4
’−(4−ホルミルベンジリデン)ビス(N、N−ジシ
クロへ中シル−m−)ルイジン)、4.4’−(4−ホ
ルミルベンジリデン)ビス(N−ベンジル−N−エチル
−m−)ルイジン)、4−ジエチルアミノ−4′−ホル
ミルテトラフェニルメタン、1−(4−(N、N−ジメ
チルアミノ)フェニル]−1−(4−ホルミルフェニル
)−1−フェニルエタン、4−(2−t7チルアミ/)
ベンズアルデヒド、4−[3,3−ビス(4−ジエチル
アミノ−o−トリル) −1−fユニルー1−プロベン
−1−イル]ベンズアルデヒド、4−(ジ−p−トリル
アミノ)ベンズアルデヒド、及びp−ジメチルアミノベ
ンズアルデヒド。
アルデヒド、4.4’−(4−ホルミルベンジリデン)
ビス(N、N−ジベンジル−m−トルイジン)、4.4
’−(4−ホルミルベンジリデン)ビス(N、N−ジシ
クロへ中シル−m−)ルイジン)、4.4’−(4−ホ
ルミルベンジリデン)ビス(N−ベンジル−N−エチル
−m−)ルイジン)、4−ジエチルアミノ−4′−ホル
ミルテトラフェニルメタン、1−(4−(N、N−ジメ
チルアミノ)フェニル]−1−(4−ホルミルフェニル
)−1−フェニルエタン、4−(2−t7チルアミ/)
ベンズアルデヒド、4−[3,3−ビス(4−ジエチル
アミノ−o−トリル) −1−fユニルー1−プロベン
−1−イル]ベンズアルデヒド、4−(ジ−p−トリル
アミノ)ベンズアルデヒド、及びp−ジメチルアミノベ
ンズアルデヒド。
繰シ返しの7リ一ルアミン光導電体基は、また、ポリエ
ステルの二数プレカーサに結合せしめられていてもよく
、この場合、二数成分とその他の適当な縮合重合体成分
との重縮合を後から行なうことができる。別法によれば
、予め形成された重合体の二数成分にアリールアミンが
結合せしめられる。この別法は、高分子量の重合体が望
ましい場合においてとりわけ有用である。
ステルの二数プレカーサに結合せしめられていてもよく
、この場合、二数成分とその他の適当な縮合重合体成分
との重縮合を後から行なうことができる。別法によれば
、予め形成された重合体の二数成分にアリールアミンが
結合せしめられる。この別法は、高分子量の重合体が望
ましい場合においてとりわけ有用である。
ぼりエステルの二数残基に結合せしめることのできる特
に有用なアリールアミン光導電体にはトリフェニルアミ
ン−タイプの光導電体(置換されたトリフェニルアミン
を包含)が含まれる。このようなタイプの、とりわけ有
用な有機光導電体は。
に有用なアリールアミン光導電体にはトリフェニルアミ
ン−タイプの光導電体(置換されたトリフェニルアミン
を包含)が含まれる。このようなタイプの、とりわけ有
用な有機光導電体は。
例えば、トリフェニルアミン、4−ジフェニルアミ、/
カルコン、4−ヒドロキシメチルトリフェニルアミン、
4−カル♂キシトリフェニルアミン、ソシて4−(α−
ヒドロキシエチル)トリフェニルアミンである。その他
の有用なトリフェニルアミン光導電体は、例えば米国特
許第3,180,730号に開示されている。
カルコン、4−ヒドロキシメチルトリフェニルアミン、
4−カル♂キシトリフェニルアミン、ソシて4−(α−
ヒドロキシエチル)トリフェニルアミンである。その他
の有用なトリフェニルアミン光導電体は、例えば米国特
許第3,180,730号に開示されている。
アリールアミンをポリエステルのジオール、ジアミン又
はヒドロキシ置換アミン成分の縮合残基に結合させるこ
とが望ましい場合には、結合アリールアミンを含有して
いるジカルゲン酸を化学的に還元して対応のジオールを
得ることができる。アリールアミ、ン光導電性成分を含
有していて、容易にジオールに還元せしめられるジカル
Iン酸は、例えば、2−[4−(ビス(4−ジエチルア
ミノ−o−)’Jル)メチル]ベンジル)マロン酸、2
− (4−7ニリノペンジル)マロン酸、2−(4−〔
ビス(4−ジベンジルアミノ−o −) +フル)メチ
ル〕ベンジル)マロンI1、2−[4−(ビス(4−ジ
シクロへキシルアミノ−・−トリル)メチル]ベンジル
)マロン酸、2−(4−(ビス(”4−(N−エチル−
N−ベンジル)アミノ−0−)IJル〕メチルベンジル
)マロンil、2−(4−((4−ジエチルアミノフェ
ニルジフェニル)メチル〕ベンジル)マロン酸、2−(
4−(1−(4−ジメチルアミノフェニル)−1−フェ
ニルエチル〕ベンジル)マロン酸、2−(4−(2−ナ
フチルアミノ)ベンジルコマロンll、2−(4−〔3
,3−ビス(4−ジエチルアミノ−〇−トリル)−1−
(2−チェニル)−1−7’ロペンー1−イル〕ベンジ
ル)マロン酸、2−(4−(N(p−トリル)アミノコ
ベンジル)マロン酸、モして2−(p−ジメチルアミノ
ベンジル)マロン酸である。
はヒドロキシ置換アミン成分の縮合残基に結合させるこ
とが望ましい場合には、結合アリールアミンを含有して
いるジカルゲン酸を化学的に還元して対応のジオールを
得ることができる。アリールアミ、ン光導電性成分を含
有していて、容易にジオールに還元せしめられるジカル
Iン酸は、例えば、2−[4−(ビス(4−ジエチルア
ミノ−o−)’Jル)メチル]ベンジル)マロン酸、2
− (4−7ニリノペンジル)マロン酸、2−(4−〔
ビス(4−ジベンジルアミノ−o −) +フル)メチ
ル〕ベンジル)マロンI1、2−[4−(ビス(4−ジ
シクロへキシルアミノ−・−トリル)メチル]ベンジル
)マロン酸、2−(4−(ビス(”4−(N−エチル−
N−ベンジル)アミノ−0−)IJル〕メチルベンジル
)マロンil、2−(4−((4−ジエチルアミノフェ
ニルジフェニル)メチル〕ベンジル)マロン酸、2−(
4−(1−(4−ジメチルアミノフェニル)−1−フェ
ニルエチル〕ベンジル)マロン酸、2−(4−(2−ナ
フチルアミノ)ベンジルコマロンll、2−(4−〔3
,3−ビス(4−ジエチルアミノ−〇−トリル)−1−
(2−チェニル)−1−7’ロペンー1−イル〕ベンジ
ル)マロン酸、2−(4−(N(p−トリル)アミノコ
ベンジル)マロン酸、モして2−(p−ジメチルアミノ
ベンジル)マロン酸である。
アリールアミンの有機ジアミンあるいはヒドロキシアミ
ンに対する結合は、会知な技法を用いることによって1
例えば、ジアミンあるいはヒドロキシアミン官能基をす
でに有している有機の化合物に対してアリールアミンを
結合させることによって、実施することができる。別法
によれば、アリールアミンを処理してジアミンあるいは
ヒドロキシアミン官能基を形成させることができる。
ンに対する結合は、会知な技法を用いることによって1
例えば、ジアミンあるいはヒドロキシアミン官能基をす
でに有している有機の化合物に対してアリールアミンを
結合させることによって、実施することができる。別法
によれば、アリールアミンを処理してジアミンあるいは
ヒドロキシアミン官能基を形成させることができる。
本発明のIリエステルにおいて、それらの光架橋性成分
は二数の縮合残基に結合せしめられている。これらの成
分は、次のようなジカルゲン酸あるいはそれらの官能性
等価物から誘導することが上式において、 R4は、アルキリデン、アラルキリデン又は複素環式基
、あるいはその誘導体を表わし、そしてR5は、ハロダ
ン(好ましくは塩素)、ヒドロキシ又はアルコキシを表
わす 上記一般式(4)に対応し、かつ本発明の実施において
とシわけ有用である二数は、例えば、シンナミリデンマ
ロン酸、2−プテニリデンマロン酸、3−ペンテニリテ
ンマロン酸、o−ニトロシンナオリデンマロン酸、ナフ
チルアリリデンマロン酸、2−フルフリリデンエチリデ
ンマロン酸、N−/チルピリジリチン−2−エチリデン
マロン酸、N−メチルキノリデン−2−エチリデンマロ
ン酸、N−メチルベ/ゾチアゾリリrンー2−エチリデ
ンマロン酸などならびにこれらの酸の誘導体を包含する
。このような酸は、米国特許第3,674,745号の
なかで詳細に開示されている。
は二数の縮合残基に結合せしめられている。これらの成
分は、次のようなジカルゲン酸あるいはそれらの官能性
等価物から誘導することが上式において、 R4は、アルキリデン、アラルキリデン又は複素環式基
、あるいはその誘導体を表わし、そしてR5は、ハロダ
ン(好ましくは塩素)、ヒドロキシ又はアルコキシを表
わす 上記一般式(4)に対応し、かつ本発明の実施において
とシわけ有用である二数は、例えば、シンナミリデンマ
ロン酸、2−プテニリデンマロン酸、3−ペンテニリテ
ンマロン酸、o−ニトロシンナオリデンマロン酸、ナフ
チルアリリデンマロン酸、2−フルフリリデンエチリデ
ンマロン酸、N−/チルピリジリチン−2−エチリデン
マロン酸、N−メチルキノリデン−2−エチリデンマロ
ン酸、N−メチルベ/ゾチアゾリリrンー2−エチリデ
ンマロン酸などならびにこれらの酸の誘導体を包含する
。このような酸は、米国特許第3,674,745号の
なかで詳細に開示されている。
上式において、
R5は先に定義した通シであシ、そしてR6は、水素原
子であるかもしくはメチル基である。
子であるかもしくはメチル基である。
代表的ナムコン酸は、トランス、トランス−ムコン酸、
シス、トランス−ムコン酸、シス、シス−ムコン酸、α
、α′−シス、トランス−ジメチルムコン酸、そしてα
、α′−シス、シス−ジメチルムコン酸である。繰シ返
し単位の形成に有用であるその他の化合物は、例えば、
米国特許第3.615,434号において詳細に開示さ
れている。
シス、トランス−ムコン酸、シス、シス−ムコン酸、α
、α′−シス、トランス−ジメチルムコン酸、そしてα
、α′−シス、シス−ジメチルムコン酸である。繰シ返
し単位の形成に有用であるその他の化合物は、例えば、
米国特許第3.615,434号において詳細に開示さ
れている。
上式において、
R5は先に定義した通りであり、そして2は、一般に6
〜7個の炭素原子を有する不飽和、架橋あるいは非架橋
のカルIン酸核を完成するのに必要な原子を表わす。
〜7個の炭素原子を有する不飽和、架橋あるいは非架橋
のカルIン酸核を完成するのに必要な原子を表わす。
上記したようなカルIン酸核は、置換されていても置換
されていなくてもよい。とシわけ適当な酸単位は、4−
シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、5−ノル?ル
ネンー2.3−ジカルがン酸、ヘキサクロロ−5−(2
:2:1)ビシクロへブテン−2,3−ジカル?ン酸、
その他である。
されていなくてもよい。とシわけ適当な酸単位は、4−
シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、5−ノル?ル
ネンー2.3−ジカルがン酸、ヘキサクロロ−5−(2
:2:1)ビシクロへブテン−2,3−ジカル?ン酸、
その他である。
この工うな酸は、例えば、カナダ特許第824,096
号において詳細に開示されている。
号において詳細に開示されている。
上式において。
R5は先に定義した違りであり、そしてR′はそれぞれ
、水素原子、分岐鎖あるいは直鎖であるかもしくは環状
構造である炭素原子数1〜12個のアルキル基(例えば
、メチル、エチル、プロピル、イソプロビル、エチル、
t−ブチル、7 ミル、ネオペンチル、シクロヘキシル
など)あるいはアリール基(単核もしくは多核のアリー
ル基、例えばフェニル、ナフチル等を包含)である。
、水素原子、分岐鎖あるいは直鎖であるかもしくは環状
構造である炭素原子数1〜12個のアルキル基(例えば
、メチル、エチル、プロピル、イソプロビル、エチル、
t−ブチル、7 ミル、ネオペンチル、シクロヘキシル
など)あるいはアリール基(単核もしくは多核のアリー
ル基、例えばフェニル、ナフチル等を包含)である。
式中のアルキル基及びアリール基は、縮合反応に対して
影響を及ぼさないような置換基、例えばハ四、ニドp、
アリール、アルコキシ、アリールオキシ、その他によっ
て置換されていてもよい。
影響を及ぼさないような置換基、例えばハ四、ニドp、
アリール、アルコキシ、アリールオキシ、その他によっ
て置換されていてもよい。
と、シわけ適当なシクロヘキサジエンジカルがン酸単位
には次のようなものがある:l、3−シクロヘキサジエ
ンー1.4−ジカルIン酸、1.3−シクロヘキサジエ
ン−1,3−ジカルーン酸% L3−シクロヘキサジエ
ン−1,2−ジカルIン酸。
には次のようなものがある:l、3−シクロヘキサジエ
ンー1.4−ジカルIン酸、1.3−シクロヘキサジエ
ン−1,3−ジカルーン酸% L3−シクロヘキサジエ
ン−1,2−ジカルIン酸。
1.5−シクロへ中ナノエン−1,4−ジカルぎン酸%
1 j 5−シクロヘキサジエン−1、3−’/カル
がン酸、そしてこのようなジカルがン酸のアルキル化及
びアシル化誘導体。このような酸ならびにその官能性訝
導体は、例えば、ベルギー巷許第754,892号にお
いて詳細に開示されている。
1 j 5−シクロヘキサジエン−1、3−’/カル
がン酸、そしてこのようなジカルがン酸のアルキル化及
びアシル化誘導体。このような酸ならびにその官能性訝
導体は、例えば、ベルギー巷許第754,892号にお
いて詳細に開示されている。
アルキル基及びアリール基は先に定義した通シである。
アルカントリイル基は、例えばメチリジン基、メチリジ
ン基、プロピリジン基、ベンジリジン基、プロピレン基
1.3.3−)リイル基、その他のような基を指してい
る。アルキリデン基は5例えばエテンー1.2.2−)
リイル基、プロイン−1,3,3−)リイル基、1−(
2−チェニル)−1−プロペン−1,3,3−)リイル
基、その他のような類縁の不飽和アルカントリイル基を
指している。
ン基、プロピリジン基、ベンジリジン基、プロピレン基
1.3.3−)リイル基、その他のような基を指してい
る。アルキリデン基は5例えばエテンー1.2.2−)
リイル基、プロイン−1,3,3−)リイル基、1−(
2−チェニル)−1−プロペン−1,3,3−)リイル
基、その他のような類縁の不飽和アルカントリイル基を
指している。
アルキリデン基は、メチレン基、プロピレン基、その他
を指している。アラル中すデン基は、フェニルメチレン
基、フェニルメチレン基、ソの他を指している。
を指している。アラル中すデン基は、フェニルメチレン
基、フェニルメチレン基、ソの他を指している。
本発明のIリエステルは、必要時、任意の所望とする目
的のため、例えば溶解度を変え、電荷を制御し、その他
の成分との相溶性や付着力、靭性を調節するため、追加
の繰シ返し単位を有することができる。したがって、本
発明の重合体は、非置換及び置換のアルキレン基、アリ
ーレン基、アリーレンアルキレン基、シクロアルキレン
基、複素環式基、そしてエチレン系不飽和基を有する任
意の繰シ返し単位を包含することができる。
的のため、例えば溶解度を変え、電荷を制御し、その他
の成分との相溶性や付着力、靭性を調節するため、追加
の繰シ返し単位を有することができる。したがって、本
発明の重合体は、非置換及び置換のアルキレン基、アリ
ーレン基、アリーレンアルキレン基、シクロアルキレン
基、複素環式基、そしてエチレン系不飽和基を有する任
意の繰シ返し単位を包含することができる。
Iリエステルの水溶性を左右するのに好ましい成分とし
て、例えば、20モモルまでの7ニオン系イミノジスル
ホニル成分及びアニオン系スルホ成分をあげることがで
きる。このような成分をいくつか列挙すると、次の通り
である: 3 、3’−((ソノオイミノ)ジスルホニル〕二安息
香酸、3 、3’−((ボタジオイミノ)ジスルホニル
〕二安息香酸、3 、3’−((リチオイミノ)ジスル
ホニル〕二安息香酸、4 、4’−((リチオイミノ)
ジスルホニル〕二安息香酸、4 、4’−((ソジオイ
ミノ)ジスルホニル〕二安息香酸、4.4’−((/タ
シオイミノ)ジスルホニル〕二安息香酸、3 、4’−
C(リチオイミノ)ジスルホニル〕二安息香酸、3 、
4” ((ンジオイミノ)ジスルホニル〕二安息香酸、
4.4’−((ポタシオイミ/)ゾスルホニル〕ノナ7
トエ酸、5−〔N−ボタジオ−N−(4−)リルスルホ
ニル)スルファモイル〕イソフタル酸。
て、例えば、20モモルまでの7ニオン系イミノジスル
ホニル成分及びアニオン系スルホ成分をあげることがで
きる。このような成分をいくつか列挙すると、次の通り
である: 3 、3’−((ソノオイミノ)ジスルホニル〕二安息
香酸、3 、3’−((ボタジオイミノ)ジスルホニル
〕二安息香酸、3 、3’−((リチオイミノ)ジスル
ホニル〕二安息香酸、4 、4’−((リチオイミノ)
ジスルホニル〕二安息香酸、4 、4’−((ソジオイ
ミノ)ジスルホニル〕二安息香酸、4.4’−((/タ
シオイミノ)ジスルホニル〕二安息香酸、3 、4’−
C(リチオイミノ)ジスルホニル〕二安息香酸、3 、
4” ((ンジオイミノ)ジスルホニル〕二安息香酸、
4.4’−((ポタシオイミ/)ゾスルホニル〕ノナ7
トエ酸、5−〔N−ボタジオ−N−(4−)リルスルホ
ニル)スルファモイル〕イソフタル酸。
5−ノノオスルホイソ7タル酸。
5−(4−ソジオスルホフェノキシ)イソフタル酸、5
−(3−ソジオスルホグロポキン)イソフタル酸、5−
ラジオスルホ−1,3−シクロヘキサンジカルがン酸、
5−(4−ノジオスルホシクロへキシルオキシ)−1,
3−シクロヘキサンジカル?ン酸、 そしてこれらの化合物の官能性誘導体。
−(3−ソジオスルホグロポキン)イソフタル酸、5−
ラジオスルホ−1,3−シクロヘキサンジカルがン酸、
5−(4−ノジオスルホシクロへキシルオキシ)−1,
3−シクロヘキサンジカル?ン酸、 そしてこれらの化合物の官能性誘導体。
以下余白
〔実施例〕
本発明のポリエステルはすべて、標準的な高温度、溶融
−縮合法を用いることによって調製した。
−縮合法を用いることによって調製した。
この後者の方法の場合、重合フラスコに適当なグリコー
ル及びジエステル又はそれらのそれぞれの誘導体を装填
した。このフラスコに、窒素装入管を装備したVlgv
eau:c m冷却器で栓をした。窒素ガスを40 i
11/n 1 n で系にフラッジ、した。フラスコ
を235℃の塩浴に、ストン・ダー付きのサイドアーム
のすぐ下方の位置まで浸漬した。化学混合物が均質な溶
融物となった時、1滴のテトライソグロビルオルソチタ
ネートを触媒として添加した。
ル及びジエステル又はそれらのそれぞれの誘導体を装填
した。このフラスコに、窒素装入管を装備したVlgv
eau:c m冷却器で栓をした。窒素ガスを40 i
11/n 1 n で系にフラッジ、した。フラスコ
を235℃の塩浴に、ストン・ダー付きのサイドアーム
のすぐ下方の位置まで浸漬した。化学混合物が均質な溶
融物となった時、1滴のテトライソグロビルオルソチタ
ネートを触媒として添加した。
揮発物を235℃及び常圧で4時間にわたって蒸留した
。冷却器と装入管の代シにステンレス鋼製の攪拌機を取
シ付け、気密となした。圧力を約0.05−Hgまで下
げ、そして重合体を200rpnで攪拌した。攪拌機に
よフ溶融物に対して加えられるトルクを測定した。加え
られたトルクが十分な重合を指示するのに足るほど高か
った場合。
。冷却器と装入管の代シにステンレス鋼製の攪拌機を取
シ付け、気密となした。圧力を約0.05−Hgまで下
げ、そして重合体を200rpnで攪拌した。攪拌機に
よフ溶融物に対して加えられるトルクを測定した。加え
られたトルクが十分な重合を指示するのに足るほど高か
った場合。
攪拌と真空を停止し、そして重合フラスコを浴からでき
るかぎフ速やかに取シ出した。重合フラスコを液体窒素
中に浸漬し、そしてフラスコをこわして凝固した冷たい
ガラス状重合体を回収した。
るかぎフ速やかに取シ出した。重合フラスコを液体窒素
中に浸漬し、そしてフラスコをこわして凝固した冷たい
ガラス状重合体を回収した。
調製した重合体のそれぞれは下記の第1表に記載の通シ
である。
である。
例1
第1の調製では、光導電性成分及び光架橋性成分の両者
を、以下に構造式で示すような、酸から誘導されたポリ
エステルの部分中に混入した。
を、以下に構造式で示すような、酸から誘導されたポリ
エステルの部分中に混入した。
以下余白
?
ぜ
膠
このガラス状で無定形の重合体はアンバー−オレンジ色
であシ、Tg=49℃であった。この重合体は、下記の
第1表においてポリエステル1として記載しである。
であシ、Tg=49℃であった。この重合体は、下記の
第1表においてポリエステル1として記載しである。
例2
第2のallil製ではトリアリールアミン光導電性成
分をジオールから誘導されたポリエステルの部分中に混
入し、そして光架橋性成分を酸から誘導されたプリエス
テルの部分中に混入した。ポリニス0=ロ 閤 山 このポリエステルは明るいオレンジ色のガラス状無定形
重合体であり、比較的に高いTg=75℃を保有した。
分をジオールから誘導されたポリエステルの部分中に混
入し、そして光架橋性成分を酸から誘導されたプリエス
テルの部分中に混入した。ポリニス0=ロ 閤 山 このポリエステルは明るいオレンジ色のガラス状無定形
重合体であり、比較的に高いTg=75℃を保有した。
例3
第3の調製では、光架橋性成分を酸から誘導されたポリ
エステルの部分中に混入し、そしてトリアリールアミン
光導電性成分を重合体の酸−誘導部分及びジオール−誘
導部分の両方中に混入した。
エステルの部分中に混入し、そしてトリアリールアミン
光導電性成分を重合体の酸−誘導部分及びジオール−誘
導部分の両方中に混入した。
ポリエステル6を参照。
以下余白
このぼりエステル(ポリエステル6)はアンz4−オレ
ンジ色のガラス状重合体であCTg冨67℃を保有した
。
ンジ色のガラス状重合体であCTg冨67℃を保有した
。
下記の第1表は、前記例1〜例3のポリエステル、そし
てその他の光架橋性−光導電性ポリエステルの組成変更
例を、出発物質としての種々の酸及びジオール単量体の
モルチも含めて1列挙した’)オー#”l (A)
1.4−ビス(ヒドロキシエトキシ)シクロヘキサン ジオール”2 (B) 2−(4−(N、N−ジ−p
−トリル)ベンジル) −1,3−グロ ー臂ンジオール 二数” 3 (Qジメチルテレフタレート二数**
4 (Qジエチル3.3’−(p−フェニレン)ジア
クリレート 二数** 5 (ト)ジエチル2− (4−(N、N−
ジ−p−トリル)ベンジルコマロ ネート 二数**6 (F5ジメチル5−(4−ソゾオスルホ
フェノキシ) −1,3−ベンゼ ンジカルゼキシレート 本発明のポリエステルを含有する塗布組成物は。
てその他の光架橋性−光導電性ポリエステルの組成変更
例を、出発物質としての種々の酸及びジオール単量体の
モルチも含めて1列挙した’)オー#”l (A)
1.4−ビス(ヒドロキシエトキシ)シクロヘキサン ジオール”2 (B) 2−(4−(N、N−ジ−p
−トリル)ベンジル) −1,3−グロ ー臂ンジオール 二数” 3 (Qジメチルテレフタレート二数**
4 (Qジエチル3.3’−(p−フェニレン)ジア
クリレート 二数** 5 (ト)ジエチル2− (4−(N、N−
ジ−p−トリル)ベンジルコマロ ネート 二数**6 (F5ジメチル5−(4−ソゾオスルホ
フェノキシ) −1,3−ベンゼ ンジカルゼキシレート 本発明のポリエステルを含有する塗布組成物は。
/ IJマードー!の調製のためKこの技術分野におい
て用いられている任意の適当な溶剤あるいは溶剤混合物
中にポリエステルを分散もしくは溶解することによって
、調製することができる。溶剤は。
て用いられている任意の適当な溶剤あるいは溶剤混合物
中にポリエステルを分散もしくは溶解することによって
、調製することができる。溶剤は。
a)溶剤と重合体とを混合した状態で保持することが考
えられる期間にわたってポリエステルに対して実賞的に
不反応性であるもの、そしてb)塗布に用いられる基材
との相溶性を有しているもの、が選ばれる。かかる溶剤
の最良の選択は、重合体の詳細、そして考えられる使途
とともに変化するであろう。好ましい溶剤の例として、
ペンノルアルコール、水、シクロヘキサノン、ジオキサ
ン、2−メトキシエチルアセテート、N、N−4/メチ
ルホルムアミド、クロロホルム、トリクロロエチレン。
えられる期間にわたってポリエステルに対して実賞的に
不反応性であるもの、そしてb)塗布に用いられる基材
との相溶性を有しているもの、が選ばれる。かかる溶剤
の最良の選択は、重合体の詳細、そして考えられる使途
とともに変化するであろう。好ましい溶剤の例として、
ペンノルアルコール、水、シクロヘキサノン、ジオキサ
ン、2−メトキシエチルアセテート、N、N−4/メチ
ルホルムアミド、クロロホルム、トリクロロエチレン。
1.2−ジクロロエタン、l、1−ジクロロエタン。
1.1.2− ) IJ Iロロエタン、テトラクロロ
エタン、クロロベンゼン、そしてその混合物をあげるこ
とができる。
エタン、クロロベンゼン、そしてその混合物をあげるこ
とができる。
さらに塗布溶液中のプリエステルの最適な濃度は、重合
体の特質、そして使用される塗布方法に依存しているい
ろに変化するであろう。塗布溶液が約1〜50重量−の
ポリエステル、好ましくは約2〜10重−msのポリエ
ステルを含有している場合に有用な塗膜が得られる。も
ちろん、これよシも高濃度でありても満足な結果が得ら
れる。いずれにしても、得られる層が0.54〜5.4
fi/m2(50〜50011m5し′tt2)の重
合体を有するように塗布組成物を処方する。
体の特質、そして使用される塗布方法に依存しているい
ろに変化するであろう。塗布溶液が約1〜50重量−の
ポリエステル、好ましくは約2〜10重−msのポリエ
ステルを含有している場合に有用な塗膜が得られる。も
ちろん、これよシも高濃度でありても満足な結果が得ら
れる。いずれにしても、得られる層が0.54〜5.4
fi/m2(50〜50011m5し′tt2)の重
合体を有するように塗布組成物を処方する。
支持体と、本発明のポリエステルを含有する感光性層と
を有している要素は、上記したような塗布組成物を使用
して、例えばスグレー塗布、ディップコート、回転塗布
、ローラー塗布等のような常用の塗布技法によって調製
することができる。
を有している要素は、上記したような塗布組成物を使用
して、例えばスグレー塗布、ディップコート、回転塗布
、ローラー塗布等のような常用の塗布技法によって調製
することができる。
要素中の支持体は導電性である。この支持体を、本発明
の組成物から形成された塗膜と電気的に接触させる。こ
のような支持体はエレクトロフォトグラフィー(電子写
真)の分野において公知である。印刷用の版、特にリソ
グラフィー用の印刷の版を製作するのに有用な特定の支
持体材料は、例えば、亜鉛、陽極酸化アルミニウム、列
埋アルミニウム、銅、そして特別に製造した金属及び紙
の支持体である〇 先に述べたように、本発明のポリエステルは、リソグラ
フィー用の要素を形成するのにとりわけ有用である。こ
のようなポリエステルを使用すると、ハロダン化銀グラ
フィックアーットランスペアレンシイを別に作製するこ
との必要性が屏消される。
の組成物から形成された塗膜と電気的に接触させる。こ
のような支持体はエレクトロフォトグラフィー(電子写
真)の分野において公知である。印刷用の版、特にリソ
グラフィー用の印刷の版を製作するのに有用な特定の支
持体材料は、例えば、亜鉛、陽極酸化アルミニウム、列
埋アルミニウム、銅、そして特別に製造した金属及び紙
の支持体である〇 先に述べたように、本発明のポリエステルは、リソグラ
フィー用の要素を形成するのにとりわけ有用である。こ
のようなポリエステルを使用すると、ハロダン化銀グラ
フィックアーットランスペアレンシイを別に作製するこ
との必要性が屏消される。
本発明の/IJエステルを有する塗布組成物を使用して
リス乾板を製作する場合、先ず最初に要素をコロナ帯電
させる。帯電の完了後、塗布層を例えばプログラム制御
レーデによって露光し、よって、露光域の層を放電させ
る。オリジナル(原版)の静電潜像がこのようにして形
成される。次いで、電子写真の分野で公知なタイプのト
ナー組成物を使用して潜像を現像する。このようなトナ
ー組成物は、米国特許第3,973,902号、同第3
.117,884号及び同第2,907,674号、そ
して多くのその他の特許文献に記載されている。トナー
組成物は、塗布層の放電領域においてトナーの沈着が行
なわれ、したがってオリジナルのポジ屋電子写真像が形
成されるようなものを選択する。
リス乾板を製作する場合、先ず最初に要素をコロナ帯電
させる。帯電の完了後、塗布層を例えばプログラム制御
レーデによって露光し、よって、露光域の層を放電させ
る。オリジナル(原版)の静電潜像がこのようにして形
成される。次いで、電子写真の分野で公知なタイプのト
ナー組成物を使用して潜像を現像する。このようなトナ
ー組成物は、米国特許第3,973,902号、同第3
.117,884号及び同第2,907,674号、そ
して多くのその他の特許文献に記載されている。トナー
組成物は、塗布層の放電領域においてトナーの沈着が行
なわれ、したがってオリジナルのポジ屋電子写真像が形
成されるようなものを選択する。
このデジ鳳の電子写真像がマスクとして働き、よって、
ハロダン化銀グラフィックアーットランスペアレンシイ
ーを別Kv4製することが必要でなく1 な
る。
ハロダン化銀グラフィックアーットランスペアレンシイ
ーを別Kv4製することが必要でなく1 な
る。
引き続いて、塗布層をUV光に露光してその層の露光域
におけるポリエステルの架橋をひきおこす。層の非架橋
部分及び調色部分を現像液で洗い流す。架橋結合した親
油性の印刷面をもつたリス乾板が得られる。
におけるポリエステルの架橋をひきおこす。層の非架橋
部分及び調色部分を現像液で洗い流す。架橋結合した親
油性の印刷面をもつたリス乾板が得られる。
現像は、層の未露光域を選択的に可溶化することのでき
る溶液(以下、現像液と呼ぶ)でその層をブラック1.
すすぎ、はけ塗膜あるいは別法で処理することによって
実施する。このような現像液はリングラフイーの分野に
おいて公知である。
る溶液(以下、現像液と呼ぶ)でその層をブラック1.
すすぎ、はけ塗膜あるいは別法で処理することによって
実施する。このような現像液はリングラフイーの分野に
おいて公知である。
イオン性基を含有するポリエステルのための現像液は、
通常、声値が約9〜14の範囲にあるアルカリ性水溶液
である。現像液に対する塩基性の付与は、可溶性の無機
塩基化合物、例えばアルカリ金属水酸化物、燐酸塩、硫
酸塩、珪酸塩、炭酸塩等ならびにその組み合わせを現像
液中〈混入することによって行なうことができる。以下
に記載の実施例では、イーストマン・コダック社から入
手可能なPolymatia”LPとして公知な市販の
水性アルカリ現像液を使用する。別法によシあるいは組
み合わせて、塩基性で可溶性の有機物質、例えばアミン
、トリエタノールアミン、ジエチレンアミン、ジエチル
アミノエタノール、その他を混入することができる。
通常、声値が約9〜14の範囲にあるアルカリ性水溶液
である。現像液に対する塩基性の付与は、可溶性の無機
塩基化合物、例えばアルカリ金属水酸化物、燐酸塩、硫
酸塩、珪酸塩、炭酸塩等ならびにその組み合わせを現像
液中〈混入することによって行なうことができる。以下
に記載の実施例では、イーストマン・コダック社から入
手可能なPolymatia”LPとして公知な市販の
水性アルカリ現像液を使用する。別法によシあるいは組
み合わせて、塩基性で可溶性の有機物質、例えばアミン
、トリエタノールアミン、ジエチレンアミン、ジエチル
アミノエタノール、その他を混入することができる。
実質的に非イオン性である重合体のための現像液は、有
機溶剤現像液、例えばイーストマン・コダック社から入
手可能なPolymat ic” LN−L現像液であ
る。
機溶剤現像液、例えばイーストマン・コダック社から入
手可能なPolymat ic” LN−L現像液であ
る。
次いで、要素を、その使途に一致する任意の公知な手法
で処理することができる。例えば、印刷用の版の場合、
要素を減感エツチングに供するのが一般的である。現像
後の層がレジスト層を形成する場合、要素を酸性もしく
は塩基性のエッチャントにさらし、そしてメッキ浴で処
理するのが通常である。
で処理することができる。例えば、印刷用の版の場合、
要素を減感エツチングに供するのが一般的である。現像
後の層がレジスト層を形成する場合、要素を酸性もしく
は塩基性のエッチャントにさらし、そしてメッキ浴で処
理するのが通常である。
以下の例は1本発明のポリエステルを工業的に使用する
ことについて説明するためのものである。
ことについて説明するためのものである。
例4
光架橋に基因する写真感度の評価
本発明の典型的なポリエステルを、1,2−ジクロロエ
タン中の5重量%の溶剤及び重合体がら調製した。ポリ
エステルの重量を基準にして4.4重量%の下記クマリ
ン増感剤を添加した。
タン中の5重量%の溶剤及び重合体がら調製した。ポリ
エステルの重量を基準にして4.4重量%の下記クマリ
ン増感剤を添加した。
乾燥塗膜は4〜12紬厚であった。前記第1表の重合体
9,9及び10を使用した場合、クマリン増感剤は次の
通ルであった。
9,9及び10を使用した場合、クマリン増感剤は次の
通ルであった。
cH3+
得られた組成物を陽極酸化−列理−下塗)付きのアルミ
ニウム上に回転塗布した。
ニウム上に回転塗布した。
フィルムを高圧水銀蒸気光源を保有の光源を使用して濃
度可変型のスケールを通して像露光した。
度可変型のスケールを通して像露光した。
これらの74 ルムlPolymit1cTMLN @
像した。
像した。
得られた写真感度を列挙したのが下記の第■表である。
表中、14種類の濃度のステップを有するステップタブ
レットを通した露光の結果として現像されたステップの
数によって写真感度が示されている。
レットを通した露光の結果として現像されたステップの
数によって写真感度が示されている。
第H表
1 15秒、8ステッ7’、LN−L現像液2
15秒、6ステツプ、LN−L現像液、 3
15秒、4ステツプ、 LN−L現像液4
15秒、8ステツプ、 LN−L現像液5
30秒、3ステッグ、ひトL現像液9 30秒、
8ステツプ、80℃の水10 30秒、4ステツ
プ、80℃の水これらの結果は、光架橋可能な成分を含
有する重合繰り返し単位のものであって十分な架橋密度
のために必要な最小濃度は約15モルチであるというこ
とを示している。これらの結果は、また、ポリエステル
が17モモルの光架橋性成分を含有する場合には8ステ
ツプまでが架橋されるということを示している。
15秒、6ステツプ、LN−L現像液、 3
15秒、4ステツプ、 LN−L現像液4
15秒、8ステツプ、 LN−L現像液5
30秒、3ステッグ、ひトL現像液9 30秒、
8ステツプ、80℃の水10 30秒、4ステツ
プ、80℃の水これらの結果は、光架橋可能な成分を含
有する重合繰り返し単位のものであって十分な架橋密度
のために必要な最小濃度は約15モルチであるというこ
とを示している。これらの結果は、また、ポリエステル
が17モモルの光架橋性成分を含有する場合には8ステ
ツプまでが架橋されるということを示している。
一例」−
リス乾板
重合体2,4及び6を12重量%で1.2−ジクロロエ
タン中に溶解し、そして、その際、4.6重量−の3−
ベンゾイル−5,7−シグロポキシクマリン増感剤を添
加した。それぞれの溶液を陽極酸化アルミニウム上に2
40Orpmで乾燥まで回転塗布した。乾燥層の膜厚は
約2μ鵠であり、そしてポリエステルの被覆量は4.3
17m (400〜/11 )であった。
タン中に溶解し、そして、その際、4.6重量−の3−
ベンゾイル−5,7−シグロポキシクマリン増感剤を添
加した。それぞれの溶液を陽極酸化アルミニウム上に2
40Orpmで乾燥まで回転塗布した。乾燥層の膜厚は
約2μ鵠であり、そしてポリエステルの被覆量は4.3
17m (400〜/11 )であった。
次いで、得られた層をそれらの最大保持電位VOまでコ
ロナ帯電装置で帯電させた。次いで。
ロナ帯電装置で帯電させた。次いで。
これらの層をコンタクトネガを通して350 nmの光
源で露光した。光放電速度は下記の第1表に記載の通〕
である。静電潜像を高コントラスト像をもたらすゼロ・
9イアスの印加下に液体トナーで調色した。これらの画
像を常用のうIラトリー用ホットプレートを使用して溶
融させた。次いで。
源で露光した。光放電速度は下記の第1表に記載の通〕
である。静電潜像を高コントラスト像をもたらすゼロ・
9イアスの印加下に液体トナーで調色した。これらの画
像を常用のうIラトリー用ホットプレートを使用して溶
融させた。次いで。
これらの層を現像済み電子写真像を通して366〜40
5 nmの輻射線で露光した。これらの塗膜をPoly
matlc”LN現像液で現像した。現像液によって1
子写真像と未架橋の重合体の領域を除去したところ、架
橋結合した重合体の画像がアルξニクム支持体上に得ら
れた。この画像を、引き続いて印刷版として使用するこ
とができた。
5 nmの輻射線で露光した。これらの塗膜をPoly
matlc”LN現像液で現像した。現像液によって1
子写真像と未架橋の重合体の領域を除去したところ、架
橋結合した重合体の画像がアルξニクム支持体上に得ら
れた。この画像を、引き続いて印刷版として使用するこ
とができた。
以下余白
第1表
正に帯電させ、前面露光を施した電子写真式リス乾板の
λ=350nmにおける半減期(S凭)の光導電速度 例6 本例では、本発明のポリエステルの光導電応答を高める
ために増感剤を使用することについて説明する。
λ=350nmにおける半減期(S凭)の光導電速度 例6 本例では、本発明のポリエステルの光導電応答を高める
ために増感剤を使用することについて説明する。
ジクロロメタン及びトルエン(比率3:1)中の96.
4重量%のポリエステル2(前記第1表)を被覆量15
0叩1tt(1,6,F/m )で塗布することによ
って手塗り塗膜を調製した。可視光増感剤、2.6−ジ
フェニル−4−(2,6−ジフェニル−4H−チオビラ
ン−4−イリデン)チオピリリウム・ダークロレー)
及ヒU V増g剤、3.3’ −カルゲニルビス(5,
7−シグロポキシクマリン)ヲソれぞれ0.6重量%及
び3.0重量−存在させた。これらの塗膜をアルミニウ
ム蒸着Iす(エチレンテレフタレート)フィルム支持体
上に形成し、そして米国特許第4,429,030号に
記載のようセして通風した。膜厚は1.8μ溝であった
。
4重量%のポリエステル2(前記第1表)を被覆量15
0叩1tt(1,6,F/m )で塗布することによ
って手塗り塗膜を調製した。可視光増感剤、2.6−ジ
フェニル−4−(2,6−ジフェニル−4H−チオビラ
ン−4−イリデン)チオピリリウム・ダークロレー)
及ヒU V増g剤、3.3’ −カルゲニルビス(5,
7−シグロポキシクマリン)ヲソれぞれ0.6重量%及
び3.0重量−存在させた。これらの塗膜をアルミニウ
ム蒸着Iす(エチレンテレフタレート)フィルム支持体
上に形成し、そして米国特許第4,429,030号に
記載のようセして通風した。膜厚は1.8μ溝であった
。
フィルムをそれらの最大保持電位までコロナ帯電装置で
帯電させた。これらの帯電フィルムをこの電荷レベルで
30秒間にわたって保持し、その後で電荷電位VOを測
定した。次いで、640nmの単色光(タングステン光
源)を照射してフィルムを放゛鑞させた。放電速度を負
及び正のモード(2モード)で測定した。これらの速度
を、640nmにおいて初期電位VOをその半分の値ま
で下げるのに必要な露光量(SH)(エルグ/1M2)
として記録した。結果は、下記の第■表に記載の通りで
ある。
帯電させた。これらの帯電フィルムをこの電荷レベルで
30秒間にわたって保持し、その後で電荷電位VOを測
定した。次いで、640nmの単色光(タングステン光
源)を照射してフィルムを放゛鑞させた。放電速度を負
及び正のモード(2モード)で測定した。これらの速度
を、640nmにおいて初期電位VOをその半分の値ま
で下げるのに必要な露光量(SH)(エルグ/1M2)
として記録した。結果は、下記の第■表に記載の通りで
ある。
以下余白
第y表
260 + 48〔発明の効果〕
本発明のIリエステルを使用すると、リス乾板の製作に
ハロダン化銀トランスベアレンシイヲ別゛個に使用する
必要性を解消することができる。
ハロダン化銀トランスベアレンシイヲ別゛個に使用する
必要性を解消することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、アリールアミン光導電性成分を含有する重合繰り返
し単位最低12モル%及び光重合性成分を含有する重合
繰り返し単位最低15モル%を含み、かつ前記成分のそ
れぞれが異なる波長の光に対して感応性を有している、
ポリエステル。 2、アリールアミン光導電性成分を含有する重合繰り返
し単位最低12モル%及び光重合性成分を含有する重合
繰り返し単位最低15モル%を含み、かつ前記成分のそ
れぞれが異なる波長の光に対して感光性を有しているポ
リエステルを感光性層として有している、リソグラフィ
ー用要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US718315 | 1985-04-01 | ||
| US06/718,315 US4609606A (en) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | Polyesters comprising recurring photoconductive and photocrosslinkable units and elements thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230137A true JPS61230137A (ja) | 1986-10-14 |
Family
ID=24885645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61071419A Pending JPS61230137A (ja) | 1985-04-01 | 1986-03-31 | ポリエステル及びリソグラフイー用要素 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4609606A (ja) |
| EP (1) | EP0199467B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61230137A (ja) |
| CA (1) | CA1251884A (ja) |
| DE (1) | DE3662050D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05241152A (ja) * | 1991-11-26 | 1993-09-21 | Eastman Kodak Co | 液晶ディスプレイ用感光性架橋可能なポリエステル配向層 |
| JP2006131907A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Xerox Corp | トナー組成物 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4950732A (en) * | 1986-12-29 | 1990-08-21 | Eastman Kodak Company | Condensation copolymers containing bis-methine moieties and products therefrom |
| WO1988005929A1 (en) * | 1987-02-03 | 1988-08-11 | Eastman Kodak Company | High speed aqueous developable radiation-sensitive composition and printing plate containing same |
| TW258692B (ja) * | 1993-09-14 | 1995-10-01 | Toyo Boseki | |
| US10593886B2 (en) | 2013-08-25 | 2020-03-17 | Molecular Glasses, Inc. | OLED devices with improved lifetime using non-crystallizable molecular glass mixture hosts |
| US10461269B2 (en) | 2013-12-20 | 2019-10-29 | Molecular Glasses, Inc. | Crosslinkable, /polymerizable and combinations thereof charge-transporting molecular glass mixtures, luminescent molecular glass mixtures, or combinations thereof for organic light emitting diodes and other organic electronics and photonics applications and method of making same |
| EP3039487A4 (en) | 2013-08-25 | 2017-05-31 | Molaire Consulting LLC | Molecular glass mixtures for organic electronics applications |
| WO2017031127A1 (en) * | 2015-08-20 | 2017-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Functionalized polyester polymers and film articles |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US2956878A (en) * | 1956-11-13 | 1960-10-18 | Eastman Kodak Co | Photosensitive polymers and their applications in photography |
| US3459690A (en) * | 1967-01-24 | 1969-08-05 | Ppg Industries Inc | Ungelled,organic solvent-soluble interpolymers containing unsaturated aldehydes and coating compositions made therefrom |
| GB1230772A (ja) * | 1967-03-31 | 1971-05-05 | ||
| US3929489A (en) * | 1973-09-14 | 1975-12-30 | Eastman Kodak Co | Lithographic plates having radiation sensitive elements developable with aqueous alcohol |
| US4187112A (en) * | 1973-11-19 | 1980-02-05 | Toyobo Co., Ltd. | Photosensitive plate containing nitrogen containing condensation type polyesters |
| JPS5340537B2 (ja) * | 1974-12-27 | 1978-10-27 | ||
| US4101326A (en) * | 1976-02-09 | 1978-07-18 | Eastman Kodak Company | Process for making stabilized polyesters used in radiation-sensitive compositions for lithographic plates having improved wear life including hindered phenols and phosphoric acid esters |
| US4139390A (en) * | 1977-02-10 | 1979-02-13 | Eastman Kodak Company | Presensitized printing plate having a print-out image |
| US4190446A (en) * | 1978-09-06 | 1980-02-26 | Eastman Kodak Company | Photocrosslinkable, high-temperature-resistant polymers and their use in color imaging devices |
| US4267961A (en) * | 1978-09-06 | 1981-05-19 | Eastman Kodak Company | Photocrosslinkable, high-temperature-resistant polymers and their use in color imaging devices |
| US4258112A (en) * | 1978-10-23 | 1981-03-24 | Eastman Kodak Company | Sensitizer for electrophoretic migration imaging dispersions |
| US4340454A (en) * | 1979-09-14 | 1982-07-20 | Eastman Kodak Company | Photocrosslinkable, high-temperature-resistant polymers and their use in color imaging devices |
| US4291115A (en) * | 1979-09-18 | 1981-09-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Elements and method which use photopolymerizable compositions based on salt-forming polymers and polyhydroxy polyethers |
| DE2952698A1 (de) * | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
| US4331751A (en) * | 1980-11-17 | 1982-05-25 | Eastman Kodak Company | Electrically photosensitive materials and elements for photoelectrophoretic imaging processes |
| US4395475A (en) * | 1981-07-20 | 1983-07-26 | Eastman Kodak Company | Condensation polymeric photoconductors containing pendant arylamines |
| US4361636A (en) * | 1981-04-22 | 1982-11-30 | Eastman Kodak Company | Ionic polyesters for electrically photosensitive composite particles, materials, elements and photoelectrophotoretic imaging methods |
-
1985
- 1985-04-01 US US06/718,315 patent/US4609606A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-05-24 CA CA000482282A patent/CA1251884A/en not_active Expired
-
1986
- 1986-03-26 DE DE8686302224T patent/DE3662050D1/de not_active Expired
- 1986-03-26 EP EP86302224A patent/EP0199467B1/en not_active Expired
- 1986-03-31 JP JP61071419A patent/JPS61230137A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05241152A (ja) * | 1991-11-26 | 1993-09-21 | Eastman Kodak Co | 液晶ディスプレイ用感光性架橋可能なポリエステル配向層 |
| JP2006131907A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Xerox Corp | トナー組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4609606A (en) | 1986-09-02 |
| DE3662050D1 (en) | 1989-03-16 |
| CA1251884A (en) | 1989-03-28 |
| EP0199467A1 (en) | 1986-10-29 |
| EP0199467B1 (en) | 1989-02-08 |
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