JPS6124292A - レ−ザ温調装置 - Google Patents

レ−ザ温調装置

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JPS6124292A
JPS6124292A JP14554284A JP14554284A JPS6124292A JP S6124292 A JPS6124292 A JP S6124292A JP 14554284 A JP14554284 A JP 14554284A JP 14554284 A JP14554284 A JP 14554284A JP S6124292 A JPS6124292 A JP S6124292A
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JP
Japan
Prior art keywords
temperature
laser
laser tube
mount
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP14554284A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeki Sato
成樹 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP14554284A priority Critical patent/JPS6124292A/ja
Publication of JPS6124292A publication Critical patent/JPS6124292A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/04—Arrangements for thermal management
    • H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はレーザ管を有するレーザ装置、特に外部鐘形レ
ーザ装置に関するものである。
(従来技術) 今日、レーザ管を有するレーザ装置は計測器、分析器、
通信機、画像記録装置、画像読取装置、ホログラフィ−
1溶接装置、レーザメス等の医療装置、核融合等の様々
な分野で使用されていることは周知の通りである。
レーザ装置の一つとして気体レーザ装置があり、この気
体レーザ装置のうちでも、レーザ管とは独立した、レー
ザ光を発振せしめるための一対の外部鏡が柱状のレーザ
管の軸方向に設番ノられた外部鐘形レーザ装置が知られ
ている。
この外部鐘形レーザ装置においては、レーザ光を発する
レーザ管を保持するマウントと外部鏡とは同一の基板上
に設置されている。このように構成されているレーザ装
置において、レーザ光を発するためにレーザ管に電圧が
印加されると、レ−ず管の中央部付近からは多大な熱が
発せられる。
このレーザ管から発せられた熱はレーザ管のマウン]・
を介して基板に伝達することにより、あるいは熱対流、
熱輻射により、レーザ管の周辺部の基板に伝達されるが
、レーザ管の中央部が最も多く熱を発するので、基板の
中央部即ちレーザ管の中央部が位置1−る部分と、基板
の周辺部即ち外部鏡が設置される部分においては温度差
が生じる。この場合、レーザ管の中央部を保持するマウ
ントが最も高温で、外部鏡を保持するブラケットが最も
低温となり、基板の上記中央部を保持するマウントに接
する部分が高温で上記外部鏡を保持するブラケットに接
層る部分が低温となる。温度勾配が基板に生じる。この
ように基板に温度勾配が生じると、基板の熱膨張の違い
から外部鏡がレーザ管の軸方向から位置ずれし、レーザ
装置から発生されるレーザ光の強度が低下したり、最悪
の場合にはレーザ発振が行なわれなくなるという問題が
発生づる。従って、このような問題を解消するために、
従来から例えば月に一回定期的に外部鏡の位置を調整す
ること等が行なわれている。しかしながら、このような
外部鏡の位置補正は極めて面倒であるとともに、このよ
うな位置補正を行なっても、レーザ装置使用時に基板の
温度勾配による外部鏡の位置ずれを防止しうるちのでな
いことは明らかである。
(発明の目的) 従って、本発明の目的は、外部鐘形レーザ装置において
、環境温度条件の変化などによる基板温度勾配の変化に
よって発生する外部鏡の位置ずれとそれに伴うレーザパ
ワーの低下や光軸の変化などを防止しうるレーザ温調装
置を提供することにある。
(発明の構成) 本発明のレーザ温調装置は、ケース内にレーザ管および
一対の外部鏡を収容し、このケース内の基板上に複数の
マウントにより保持してレーザ管を設置するとともに、
外部鏡をレーザ光軸上でレーザ管の両端近傍に位置する
ようにそれぞれブラケットを介して基板上に設置し、 各外部鏡、各ブラケットもしくは各ブラケット近傍の基
板上に温度センサを設けるとともに、レーザ管のほぼ中
央部、レーザ管のほぼ中央を保持するマウン1〜もしく
はこのマウント近傍の基板上に温度センサを設け、これ
らの温度センサの出力に応じて上記ケースに設けられた
複数の通風手段を作動させ、これらの温度センサに温度
を検出される各部分またはその近傍を通る空気流を作り
出し、これら各部分またはその近傍の温度を各々所望の
値に保持ジるようにしたことを特徴とするものである。
(発明の効果) 本発明によれば、レーザ装置使用時におけるレーザ管及
び発振安定化抵抗の大きな発熱により生じるレーザ管中
央部のマウント設置部から外部鏡のブラケット−設置部
に至る基板の温度勾配を一定にすることができる。すな
わち、マウント、プラク゛ット等に取り付けられた温度
センサにより各部の温度を検出し、各部において予め定
めた設定温度との間に温度差が生じた時は高温となった
部分に対応する通風手段を作動ξせて、この部分を通る
空気流を作ったり、この空気流を増大させたりして各部
分の温度を所定値に保持することができる。従って、レ
ーザ装置使用時には、常に基板上の温度勾配を一定に保
つことができるため、レーザ管および外部鏡の位置関係
を予め前記の温度勾配に応じて調整しておけば、レーザ
装置使用時にはレーザ管と外部鏡の間の位置が一定にな
り、パワー低下や光軸のずれを防止することができる。
(実 施 例) 以下、本発明のレーザ温調装置を好ましい1実施例に基
づいて詳細に説明する。
第1図は、本発明のレーザ温調装置の好ましい1実施例
を示す斜視図、第2図はこのレーザ温調装置の平面図で
あり、両図を併用して説明する。
レーザ管1は3個のマウント2a、2b、2cにより保
持されて基板3上に設置されている。レーザ管1の軸方
向でレーザ管1の両端より少し離れて1対のレーザ発振
を行未うための外部1i4a 。
4bも基板3上に設置されている。レーザ管1と ゛外
部111/1.a、4bは、これらが設置される基板3
とともにケース5内に収容されている。このケース5の
側壁にはケース5内に空気を流入するための空気流入[
二16が、この空気流入口6より流入した空気がレーザ
管1の中央部にあたる位置に設けられる。他方、ケース
5の空気流入口6が設けられたのと反対側の側壁には空
気流入口6から流入した空気がレーザ管1の中・央部マ
ウント2bおよび外部鏡の支持ブラケット4a 、4b
を通過して空気が流出4るように、すなわち第2図にお
いて矢印A、+3.Cで示すように空気が流れるように
3箇所に空気流出ロアa、7b、7cが設けられている
とともに、この3つの空気流出ロアa、7b、7cには
空気流を作り出すためのファンf3a。
8b、8cが設けられている。また、レーザ管1を保持
する中火部マウント2bおよび外部鏡支持ブラケット/
Ia、4bにはそれぞれマウントの温度を検出する湿度
センサとしてサーミスタ10a。
10b 、 10cが取り付けられていて、このサーミ
スタ10a 、 10b 、 10cの出力が一ケース
5の外方装置かれた制御回路13に入力ライン12a 
、 12b 、 12cを介して入力されるようになっ
ている。一方、制御回路13は上記ファン8a 、 8
b 、 8cと出力ライン11a 、 11b 、 1
1cを介して接続していて、ファン8a、8b、8c駆
動用の信号が出力されるようになっている。
このように構成されたレーザ装置において、レーザ光を
発するためにレーザ管1に電圧を印加せしめ、レーザ光
9を生ぜしめると、レーザ管1の中央部が最も高温にな
り、レーザ管1の両端部は中央部に比して低い温度でレ
ーザ管1の温度が上昇し始める。このため、レーザ管1
のほぼ中央部を保持するマウント2bが最も高温になり
、外部鏡を保持するブラケット4a、4bはマウント2
bより低温になる。さらに、マウント2a、2b。
2Cを介してレーザ管1から発生した熱が伝導して、基
板3も中央のマウント2b近傍が最も高温となる。この
まま、レーザ管1の発振を続けるとレーザ管1の中央部
マウント2bと外部鏡支持ブラケット4a、4bの温度
差を生じたまま全体に温度が上昇し、基板3も中央部と
両端部で温度差が生じたまま温度上昇し、このため熱膨
張の差によって基板3が変形し、外部鏡4a、4bに位
置ずれが発生する恐れがある。
しかしながら、本実施例においてはサーミスタ10a、
 、 10b 、 10cによりマウント2bおよびブ
ラケツ1−48,4bの温度を検出し、これらの温度が
所定値を超えた時には、それに対応するファンを回転さ
せてこの温度が高くなったマウント一部らしくはブラケ
ット部を冷却し、所定値まで戻す。
このことにより、基板3上の温度勾配も所定の勾配を保
つことになる。具体的には、中央部のマウント2bが最
も高温になり易いのであるが、このマウント2bの温度
が上昇して所定値以上になった時、)Iン8bを回転さ
せて、空気流入口6からマウンl−2bのまわりを通り
空気流出ロアbに至る第2図にJ3いて矢印Bで示す空
気流を作り出し、マウント2bが過熱するのを防ぐとと
もに、ブラケッ1〜4a 、4bが所定温度以上になっ
た時には、これらブラケット4a、4bを通る空気流を
作り出しブラケット4a、4bの過熱を防ぐ。
この4ようにして、各部分の温度が所定の勾配を保つよ
うにするのであるが、サーミスタ10a。
10b 、 10cの検出温度が所定値を超えた時にフ
ァン8a 、 F3b 、 F1aを駆動させるための
回路図の1例を第3図に示し、これについて説明する。
この回路図は1個のサーミスタとこのサーミスタに対応
する1個のファンの駆動の系(例えば、サーミスタ10
aとファン8a)を示し、第1図に示した例の場合には
、このような系が3個必要となる。
3個の固定抵抗20b 、 20c 、 20dと1個
のサーミスタ20aからなるブリッジ回路20の向かい
合う2つの端子に電源21の定電圧が加えられ、他の向
かい合う2つの端子はライン22a 、 22bを介し
て差動アンプ22に接続している。ここで、サーミスタ
20aが検出する温度が所定値(例えば42℃)の時に
、ライン22aの電位とライン22bの電位とが等しく
なるように固定抵抗20b 、 20c 、 20dの
抵抗値が設定されている。このため、サーミスタ20a
の検出温度が所定値より低い時はサーミスタ20aの抵
抗値は増大してe側に入力されるライン・22aの電位
は高くなり差動アンプ22の出力は負の値となり、一方
、サーミスタ20aの検出温度が所定値より高い時はす
′−ミスタ20aの抵抗値は減少し、ライン22aの電
位は低くなるので差動アンプ22の出力は正の値となる
。この場合、サーミスタ20aの抵抗値は温度の上昇と
ともに減少するため、差動アンプ22の出力はサーミス
タ20aの温度が所定値以下で負、所定値の時に零、所
定値を超せば正となり、しかも温度が高くなるとともに
出力も大きくなる。この差動アンプ22の出力は、2つ
に分けられ、一方は微分積分アンプ23を介して加算チ
゛ンプ24に人力し、他方はそのまま加算アンプ24に
入力づる。加算アンプで加算された上記入力は比例出力
回路25にあくられ、この比例出力回路25から加算ア
ンプ24からの出力に比例してファンの回転数を変化さ
せる信号をファンドライバ26に送出する。ファンドラ
イバ26は上記信号を受けて加算アンプ24の出力に比
例してファン27を回転させる。なお、微分積分アンプ
23はPID制御をなすだめのもので、比例動作に積分
動作を加えて比例動作におけるオフセットを除くととも
に、比例動作に微分動作を加えてファン回転数を変化さ
せる時の応答性を改善している。このようにして、サー
ミスタ20aが所定温度以下ではファン27を作動させ
ず(作動アンプ22の出力が零または負の時はファンを
作動させない)、サーミスタ20aが所定温度を超えた
時、その超えた大きさ及び速度に応じてファン27を回
転させることができサーミスタ20aを空冷できるので
、サーミスタ20aが検出する温度をほぼ一定の温度に
保つことができる。よって、第1図の例ではサーミスタ
10a 、 10b 、 10Gに対応してファン7a
、7b、7cを作動させて、サーミスタ10a 、 1
0b 、 10cに検出される温度を夫々一定に保つこ
とができる。
このようにして、基板3上の温度分布を常に一定の温度
勾配に保つことができ、外部鏡4a、4bとレーザ管1
どの位置ずれが防止される。
なお、ファン8a 、8b 、8cはサーミスタ10a
 、 10b 、 10cと連動して、回転、停止を繰
り返すようにしてもよいし、あるいは第3図のようにサ
ーミスタ10a 、 10b 、 10cの出力レベル
に応じてファン(3a 、 8b 、 8cの回転速度
をコントロールするようにしてもよい。さらに、温度セ
ンサはサーミスタに限られるものではないし、温度セン
サを取りイリ【)る位置も、レーザ管1の中央部マウン
h 2 bの代わりにこのマウント2b近傍のレーザ管
1もしくは基板3上でもよく、さらにブラケット4a、
4bの代わりに、これらブラケット4a、4bが支持す
る外部鏡上もしくはこれらブラケット4a、4b近傍の
基板上でもよい。ただし温度はンリによって検知された
部分を冷却する空気流を作り出せるように、各ファンの
位置が温度センサに対応していなければならない。また
、空気流入口が複数であってもよいことは熱論である。
なお、各ファンと温度センサはその対応が明確であれば
前述の実施例のように1:1の対応でなくともよい。例
えば、温度センサ2個に対してファンが3個でもよく、
この場合の制御例を第4図のブロック図を用いて説明す
る。ここで、便宜上、2個の温度センサ31.33に対
して3個のファン39゜40、41によるJill(冷
却効果)の影響度を、ファン39はセンサ31に対して
のみ影響し、ファン40はセンサ31とセンサ33に等
しく影響しく各々に50%ずつの影響度)、ファン41
はセンサ33にのみ影響すると考える。センサ31によ
り検出された温度に応じ、第3図で説明したようなアン
プ系32によって、温度に比例する信号がファンドライ
バ36および加算アンプ35に出力される。このためフ
ァンドライバ36によってファン39はセンサ31の検
出温度に比例して回転が制御される。一方、センサ33
により検出された温度に応じてアンプ系34により検出
温度に比例する信号が加算アンプ35およびファンドラ
イバ38に送られる。このため、ファン41はファンド
ライバ38によってセンサ33の検出温度に応じて回転
が制御される。また、加算アンプ35に送られるアンプ
系32とアンプ系34の出力はここで平均値が算出され
、この平均値に応じた信号をファンドライバ31に出力
する。このため、ファン40はセン+131とセンサ3
3の両方の検出温度に応じてその回転が制御される。な
お、ここでは便宜上ファン40はセンサ31とセンサ3
3に対する冷却効果の影響を等しいとしたが、これが異
なる時は、加算アンプ35への人力に重みづけをして加
算すればよい。以上のにうにして温度センサが2個でフ
ァンが3個の時で6温度制御ができる。すなわち、複数
の温度レンtすと複数のファンがあれば本発明のレーザ
温調装置を得ることができる。
さらに、レーザ装置の使用上、レーザ装置の発振の立ら
1がり時間は早い方が良いのであるが、この立Iう上が
り時間を早めるには、レーザ管1およびマウンt−2a
 、2b 、2cを予めある温度以」二にしく”おくこ
とが望ましく、このためにケース5の内部あるいはレー
ザ管1のマウント2a、211.2Cもしくはブラケッ
ト4a 、4bにヒータを設()ることや、ケース5に
断熱材を使用することが有効ひある。この場合レーザ管
1の端部はど温度上昇が近いのでレーザ管1の端部もし
くはブラケット部に特に容量の大きいヒータを設けるこ
とがさらに有効である。
なお、このような温調手段を有する本発明のレーザ装置
においてもレーザ管1を発振するためにレーザ管1に電
圧印加を行なうと、電圧印加直後のレーザ管雰囲気温度
でのレーザパワーが最大となる外部鏡4a、4bの位置
と、定常の温調状態でのレーザパワーが最大となる外部
&i4a、4bの位置との間では、湿度差があるためわ
ずかな位置ずれが発生するが、外部鏡4a 、4bの設
定位置を両者の中間位置にすれば、レーザ装置の立上り
時のレーザパワーの出力特性を改善するとともに、定常
状態においても安定した高出力を得ることができる。
以上、詳細に説明したように、本発明のレーザ温調装置
を使用すれば、使用時におけるレーリ“管の発熱によっ
て外部鏡の位置ずれが発生することを防止することがで
き、半永久的に外部鏡の位置調整を行なうことなくレー
ザ装置を使用することができ、レーザ発振光のパワー位
置、方向安定性が向上し、実用上の利用価値は極めて高
い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のレーザ温調装置の一実施例を示ず概略
斜視図、 第2図はこのレーザ温調装置の平面図、第3図は本発明
の装置のファンを駆動させるための回路図、 第4図は2個のセンサで3個のファンを制御するための
ブ[1ツク図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 複数のマウントにより保持されて基板上に設置されるレ
    ーザ管と、このレーザ管の両端近傍でレーザ光軸上に配
    され、ブラケットにより支持されて基板上に設置される
    レーザ光発振用の一対の外部鏡と、前記レーザ管および
    前記外部鏡を収容するケースと、このケースに設けられ
    る複数の通風手段とからなるレーザ装置において、 前記一対の外部鏡、これらの外部鏡を支持するブラケッ
    トもしくは、これらのブラケット近傍の基板上に温度セ
    ンサを設けるとともに、前記レーザ管のほぼ中央部、前
    記レーザ管のほぼ中央を保持するマウント、もしくはこ
    のマウント近傍の基板上に温度センサを設け、前記通風
    手段を前記温度センサに温度を検出される各部分または
    その近傍を通る空気流を作り出すように設置し、前記温
    度センサの出力に応じて前記通風手段を作動させ、前記
    各部分の温度を各々所望の値に維持するようにしたこと
    を特徴とするレーザ温調装置。
JP14554284A 1984-07-13 1984-07-13 レ−ザ温調装置 Pending JPS6124292A (ja)

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JP14554284A JPS6124292A (ja) 1984-07-13 1984-07-13 レ−ザ温調装置

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