JPS6124462B2 - - Google Patents
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- JPS6124462B2 JPS6124462B2 JP54110555A JP11055579A JPS6124462B2 JP S6124462 B2 JPS6124462 B2 JP S6124462B2 JP 54110555 A JP54110555 A JP 54110555A JP 11055579 A JP11055579 A JP 11055579A JP S6124462 B2 JPS6124462 B2 JP S6124462B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属あるいは非金属物質を蒸発、気化
させ被処理体または型に凝着させる蒸着装置の改
良に係る。
させ被処理体または型に凝着させる蒸着装置の改
良に係る。
従来の蒸着装置は真空排気した容器中において
蒸着物質を加熱し蒸発させ、その蒸気圧により被
処理体の表面に蒸着させるものであるが、蒸気圧
を高めることが容易でなく、発生した蒸気を効率
良く被処理体に凝着できないので、単位時間当り
の蒸着量を大きく向上さることができなかつた。
蒸着物質を加熱し蒸発させ、その蒸気圧により被
処理体の表面に蒸着させるものであるが、蒸気圧
を高めることが容易でなく、発生した蒸気を効率
良く被処理体に凝着できないので、単位時間当り
の蒸着量を大きく向上さることができなかつた。
本発明は効率の良い蒸着により蒸着速度を高め
るために提案されたもので、蒸着物質の、電極間
の放電，粉粒体の衝撃放電，可溶断線の放電爆発
等の手段により蒸着物質の蒸気を発生し、これに
被処理体の方向に磁界を作用させて衝突溶着させ
ることを特徴とする。
るために提案されたもので、蒸着物質の、電極間
の放電，粉粒体の衝撃放電，可溶断線の放電爆発
等の手段により蒸着物質の蒸気を発生し、これに
被処理体の方向に磁界を作用させて衝突溶着させ
ることを特徴とする。
以下図面の一実施例により本発明を説明する。
第１図において、１は処理容器で、排気ポンプ２
が設けられ、内部を約10-3〜10-5Torr程度に排気
することができ、またポンプ３からの気体（不活
性ガス，空気等）の供給により大気圧、または大
気圧以上に加圧雰囲気とすることができる。４は
容器中に挿入された穿孔電極，５が対向電極で、
両電極が容器壁に絶縁して固定され、所要の間隔
をもつて対向する。６は蒸着材の可溶断ワイヤ
で、穿孔電極４を通して送給され、先端が対向電
極５に近接もしくは接触するまで供給され、衝撃
電流により放電爆発せしめられる。７は蒸着しよ
うとする被処理体または型で、電極間のワイヤ６
に対向するよう容器１内壁面に固定される。８は
衝撃コンデンサで、高電圧電源１０により所要の
エネルギが蓄えられ、スイツチ９による放電起動
により電極４，５間のワイヤ６に放電する。１１
はワイヤ６を挾んで被処理体７と反対側に配置し
た磁界発生コイルで、電極４，５と並列に接続さ
れ、コンデンサ８による衝撃電流によつて励磁さ
れ、ワイヤ６の溶断放電に同期して励磁され磁界
を発生するよう設けられる。たヾ１２は位相制御
用のコンデンサで、この位相差制御によりコイル
１１の励磁をワイヤ６の放電より遅らせ、丁度ワ
イヤ放電によつて金属蒸気が発生したときに磁界
が発生作用するよう位相差制御が行なわれる。
第１図において、１は処理容器で、排気ポンプ２
が設けられ、内部を約10-3〜10-5Torr程度に排気
することができ、またポンプ３からの気体（不活
性ガス，空気等）の供給により大気圧、または大
気圧以上に加圧雰囲気とすることができる。４は
容器中に挿入された穿孔電極，５が対向電極で、
両電極が容器壁に絶縁して固定され、所要の間隔
をもつて対向する。６は蒸着材の可溶断ワイヤ
で、穿孔電極４を通して送給され、先端が対向電
極５に近接もしくは接触するまで供給され、衝撃
電流により放電爆発せしめられる。７は蒸着しよ
うとする被処理体または型で、電極間のワイヤ６
に対向するよう容器１内壁面に固定される。８は
衝撃コンデンサで、高電圧電源１０により所要の
エネルギが蓄えられ、スイツチ９による放電起動
により電極４，５間のワイヤ６に放電する。１１
はワイヤ６を挾んで被処理体７と反対側に配置し
た磁界発生コイルで、電極４，５と並列に接続さ
れ、コンデンサ８による衝撃電流によつて励磁さ
れ、ワイヤ６の溶断放電に同期して励磁され磁界
を発生するよう設けられる。たヾ１２は位相制御
用のコンデンサで、この位相差制御によりコイル
１１の励磁をワイヤ６の放電より遅らせ、丁度ワ
イヤ放電によつて金属蒸気が発生したときに磁界
が発生作用するよう位相差制御が行なわれる。
以上の装置において、蒸着を行なうに際して先
づ真空ポンプ５によつて容器１内を排気し、所定
の真空状態に保つか真空排気後にポンプ３からア
ルゴン，窒素，炭酸ガス，空気等のガスを供給し
て所定のガス雰囲気とし、または真空排気しても
しくは排気なしにポンプ３から加圧気体供給によ
り加圧雰囲気とする。ワイヤ６は電極４の穿孔を
挿通して先端が対向電極５に近接もしくは接触す
る状態として、そこに所要の充電されたコンデン
サ８をスイツチ９の導通によつて放電させる。放
電衝撃電流は電極４，５間のワイヤ６を流れ、ワ
イヤ６は衝撃的に溶断爆発し、ブラズマを発生
し、多量の金属蒸気を発生する。金属蒸気はワイ
ヤ６を中心にして周囲に飛散するが、このときコ
ンデンサ１２の位相制御によつてコイル１１が励
磁され磁界を形成作用し、前記ワイヤ６の爆発に
より発生した金属蒸気に作用し、周囲に飛散しよ
うとする蒸気を被処理体７方向に移動作用させ
る。この磁界作用により金属蒸気の被処理体７に
向けての移動が起り、移動加速させて被処理体７
を飛着せしめる。
づ真空ポンプ５によつて容器１内を排気し、所定
の真空状態に保つか真空排気後にポンプ３からア
ルゴン，窒素，炭酸ガス，空気等のガスを供給し
て所定のガス雰囲気とし、または真空排気しても
しくは排気なしにポンプ３から加圧気体供給によ
り加圧雰囲気とする。ワイヤ６は電極４の穿孔を
挿通して先端が対向電極５に近接もしくは接触す
る状態として、そこに所要の充電されたコンデン
サ８をスイツチ９の導通によつて放電させる。放
電衝撃電流は電極４，５間のワイヤ６を流れ、ワ
イヤ６は衝撃的に溶断爆発し、ブラズマを発生
し、多量の金属蒸気を発生する。金属蒸気はワイ
ヤ６を中心にして周囲に飛散するが、このときコ
ンデンサ１２の位相制御によつてコイル１１が励
磁され磁界を形成作用し、前記ワイヤ６の爆発に
より発生した金属蒸気に作用し、周囲に飛散しよ
うとする蒸気を被処理体７方向に移動作用させ
る。この磁界作用により金属蒸気の被処理体７に
向けての移動が起り、移動加速させて被処理体７
を飛着せしめる。
雰囲気の気体の種類，気圧等は蒸着目的によつ
て異なり、任意の金属蒸着ができ、雰囲気ガスと
の化合物蒸着ができる。従来処理雰囲気は真空蒸
着しか処理できなかつたものが、蒸気発生手段が
異なるため任意の雰囲気で蒸着できることが大き
な特徴である。金属蒸気の発生が前記のように蒸
着材ワイヤの衝撃放電爆発によつて行なわれるた
め瞬間的に多量の蒸気が発生でき、ワイヤ６の電
極４，５間への供給とコンデンサ８の充放電の繰
返し制御によつて多量の蒸気発生を繰返し発生で
き蒸着速度を従来の加熱蒸着に比較して飛躍的に
向上させることができる。そして発生したプラズ
マ，金属蒸気に対して被処理体７に向う磁界を形
成作用し、発生プラズマの飛散を防止し効率的に
被処理体７に向けて移動させ加速衝突させて溶着
させるから蒸着処理が有効にでき蒸着速度を高め
高能率の蒸着処理効果を期待できる。
て異なり、任意の金属蒸着ができ、雰囲気ガスと
の化合物蒸着ができる。従来処理雰囲気は真空蒸
着しか処理できなかつたものが、蒸気発生手段が
異なるため任意の雰囲気で蒸着できることが大き
な特徴である。金属蒸気の発生が前記のように蒸
着材ワイヤの衝撃放電爆発によつて行なわれるた
め瞬間的に多量の蒸気が発生でき、ワイヤ６の電
極４，５間への供給とコンデンサ８の充放電の繰
返し制御によつて多量の蒸気発生を繰返し発生で
き蒸着速度を従来の加熱蒸着に比較して飛躍的に
向上させることができる。そして発生したプラズ
マ，金属蒸気に対して被処理体７に向う磁界を形
成作用し、発生プラズマの飛散を防止し効率的に
被処理体７に向けて移動させ加速衝突させて溶着
させるから蒸着処理が有効にでき蒸着速度を高め
高能率の蒸着処理効果を期待できる。
なお第１図におけるワイヤの放電爆発を、スイ
ツチ９を予じめ閉じてワイヤ６に送りを与えるこ
とにより、ワイヤ６先端を対向電極５に近接送り
して放電さるように制御してもよい。
ツチ９を予じめ閉じてワイヤ６に送りを与えるこ
とにより、ワイヤ６先端を対向電極５に近接送り
して放電さるように制御してもよい。
第２図は金属プラズマ，蒸気発生の他の実施例
で、穿孔電極１３，１４を対向して設け、これに
蒸着材のワイヤ（線，帯等）１５，１６を送給し
てワイヤ先端で放電させるようにしたもので、こ
れによつても前記と同様の高速蒸着処理をするこ
とができる。ワイヤ１５，１６間の放電を制御す
るのに、放電雰囲気圧の制御を行なうことによつ
て任意に行なうことができる。また電極間放電は
ワイヤに限らず、棒状，板状，ブロツク状の任意
の電極を用いることができる。
で、穿孔電極１３，１４を対向して設け、これに
蒸着材のワイヤ（線，帯等）１５，１６を送給し
てワイヤ先端で放電させるようにしたもので、こ
れによつても前記と同様の高速蒸着処理をするこ
とができる。ワイヤ１５，１６間の放電を制御す
るのに、放電雰囲気圧の制御を行なうことによつ
て任意に行なうことができる。また電極間放電は
ワイヤに限らず、棒状，板状，ブロツク状の任意
の電極を用いることができる。
第３図は蒸着材の粉末，粒子を原料とするもの
で、１７がその粉粒体で、フオイルまたは皿１８
の上に載積され、これに対向電極１９を近接対向
して放電爆発させる。コンデンサによる衝撃放電
により粉粒体１７は爆発飛散し、分割して微粉子
化し、プラズマ及び金属蒸気を多量に発生させる
ことができる。この方式によるときは粉粒体１７
に異種金属，非金属を混合して蒸着することが容
易にできる。
で、１７がその粉粒体で、フオイルまたは皿１８
の上に載積され、これに対向電極１９を近接対向
して放電爆発させる。コンデンサによる衝撃放電
により粉粒体１７は爆発飛散し、分割して微粉子
化し、プラズマ及び金属蒸気を多量に発生させる
ことができる。この方式によるときは粉粒体１７
に異種金属，非金属を混合して蒸着することが容
易にできる。
以上は一実施例により説明したが、蒸着処理の
雰囲気は任意の気体の任意の気圧の雰囲気で処理
することができ、材質，目的により任に選択制御
することができる。磁界形成装置は金属蒸気の発
生用放電に位相差をもつて、放電により所要の金
属蒸気群が形成されたときに衝撃磁場を発生して
前記金属蒸気群に作用させ被処理体に向けて加速
衝突させるようにしたから、磁場が金属蒸気発生
時の放電に作用して悪影響を与えるようなことが
なく、多量の微細な金属蒸気の安定な発生が可能
である。また磁場の強さは放電により発生する金
属蒸気の被処理体への蒸着が良好に行なわれるよ
うに制御し、発生蒸気の移動，速度を制御して蒸
着処理することが有効である。
雰囲気は任意の気体の任意の気圧の雰囲気で処理
することができ、材質，目的により任に選択制御
することができる。磁界形成装置は金属蒸気の発
生用放電に位相差をもつて、放電により所要の金
属蒸気群が形成されたときに衝撃磁場を発生して
前記金属蒸気群に作用させ被処理体に向けて加速
衝突させるようにしたから、磁場が金属蒸気発生
時の放電に作用して悪影響を与えるようなことが
なく、多量の微細な金属蒸気の安定な発生が可能
である。また磁場の強さは放電により発生する金
属蒸気の被処理体への蒸着が良好に行なわれるよ
うに制御し、発生蒸気の移動，速度を制御して蒸
着処理することが有効である。
本発明は以上のように、電極間放電，粉粒体の
放電爆発，ワイヤの放電爆発等によつて蒸着材の
蒸気を発生するから多量の蒸気が瞬間的に得ら
れ、放電の繰返しにより繰返して多量の蒸気を発
生でき、発生する蒸気に被処理体に向う磁界を形
成作用したから蒸気の飛着凝着効果を高めること
ができ、蒸気速度を向上して高能率の蒸着加工を
行なうことができる。また処理雰囲気は任意に制
御することが可能で蒸着目的に応じて最良の雰囲
気で蒸着処理することができ、多目的蒸着を可能
ならしめる。
放電爆発，ワイヤの放電爆発等によつて蒸着材の
蒸気を発生するから多量の蒸気が瞬間的に得ら
れ、放電の繰返しにより繰返して多量の蒸気を発
生でき、発生する蒸気に被処理体に向う磁界を形
成作用したから蒸気の飛着凝着効果を高めること
ができ、蒸気速度を向上して高能率の蒸着加工を
行なうことができる。また処理雰囲気は任意に制
御することが可能で蒸着目的に応じて最良の雰囲
気で蒸着処理することができ、多目的蒸着を可能
ならしめる。
第１図は本発明の一実施例構成図、第２図は他
の実施例の一部構成図、第３図もまた他の実施例
の一部構成図である。 １は処理容器、２は真空ポンプ、３は気体供給
ポンプ、４，５は電極、６はワイヤ、７は被処理
体、８は衝撃コンデンサ、１１は磁界形成コイ
ル、１２は位相制御コンデンサである。
の実施例の一部構成図、第３図もまた他の実施例
の一部構成図である。 １は処理容器、２は真空ポンプ、３は気体供給
ポンプ、４，５は電極、６はワイヤ、７は被処理
体、８は衝撃コンデンサ、１１は磁界形成コイ
ル、１２は位相制御コンデンサである。
Claims (1)
- １ 所要雰囲気を形成する処理容器と、該処理容
器内に送給される放電電極、放電粉粒体、または
放電ワイヤの蒸着材と、該蒸着材に衝撃放電を作
用して多量の蒸気を発生する衝撃電源と、前記蒸
着材の発生蒸気に対して被処理体または型に向か
う磁界を形成作用する磁界形成装置と、該磁界形
成装置が励磁コイルと該コイルに前記衝撃電源に
よる衝撃放電に対して所定の位相差をもつて励磁
電流を通電する回路とから成ることを特徴とする
蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11055579A JPS5635768A (en) | 1979-08-30 | 1979-08-30 | Vapor depositing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11055579A JPS5635768A (en) | 1979-08-30 | 1979-08-30 | Vapor depositing apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5635768A JPS5635768A (en) | 1981-04-08 |
| JPS6124462B2 true JPS6124462B2 (ja) | 1986-06-11 |
Family
ID=14538790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11055579A Granted JPS5635768A (en) | 1979-08-30 | 1979-08-30 | Vapor depositing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5635768A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990015888A1 (fr) * | 1989-06-16 | 1990-12-27 | Litovskaya Selskokhozyaistvennaya Akademia | Installation d'application de revetements sur des articles par explosion d'un conducteur |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58136775A (ja) * | 1982-02-08 | 1983-08-13 | Hitachi Ltd | 蒸着方法及び装置 |
| JPS59146623U (ja) * | 1983-03-22 | 1984-10-01 | 東海ゴム工業株式会社 | 弾性継手 |
| IL74360A (en) * | 1984-05-25 | 1989-01-31 | Wedtech Corp | Method of coating ceramics and quartz crucibles with material electrically transformed into a vapor phase |
| JPS62250168A (ja) * | 1986-04-23 | 1987-10-31 | Hitachi Ltd | マイクロ波プラズマ成膜装置 |
| AUPM365594A0 (en) * | 1994-02-02 | 1994-02-24 | Australian National University, The | Method and apparatus for coating a substrate |
| US7608151B2 (en) * | 2005-03-07 | 2009-10-27 | Sub-One Technology, Inc. | Method and system for coating sections of internal surfaces |
-
1979
- 1979-08-30 JP JP11055579A patent/JPS5635768A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990015888A1 (fr) * | 1989-06-16 | 1990-12-27 | Litovskaya Selskokhozyaistvennaya Akademia | Installation d'application de revetements sur des articles par explosion d'un conducteur |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5635768A (en) | 1981-04-08 |
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