JPS61246385A - ガスコンデイシヨニングすきま腐蝕抑制剤 - Google Patents

ガスコンデイシヨニングすきま腐蝕抑制剤

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JPS61246385A
JPS61246385A JP60140692A JP14069285A JPS61246385A JP S61246385 A JPS61246385 A JP S61246385A JP 60140692 A JP60140692 A JP 60140692A JP 14069285 A JP14069285 A JP 14069285A JP S61246385 A JPS61246385 A JP S61246385A
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JP
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thiocyanate
nickel
ions
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JP60140692A
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ロスコー エル ピアース
リチヤード エイ ウオルコツト
マイケル エス デユパート
ジエフリー エイ リユーノ
ビリー デイ オークス
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Dow Chemical Co
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C09K15/04—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/16—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing nitrogen
    • C09K15/18—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing nitrogen containing an amine or imine moiety
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/06—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in markedly alkaline liquids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/1493—Selection of liquid materials for use as absorbents

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  • Prevention Of Electric Corrosion (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は酸性ガス除去装置におけるすきま(クレビス)
腐蝕抑制法に関する。
三酸化炭素、硫化水素および硫化カルボニルの様な酸性
ガスが炭酸カリウム、モノエタノールアミン、ジェタノ
ールアミンおよびメチルジェタノールアミンの様なアル
カノールアミンおよび他の弱塩基の種水溶液を用いて天
然ガスや合成ガスの様な供給ガス流から除去できること
は従来から知られている。普通の方法は吸収液を供給流
と逆流的に接触させる接触機を用いる方法と酸性ガス成
分を含むリッチな吸収剤をフリーな吸収剤に再生するり
ボリラーを用いる方法である。溶液は次いで再使用のた
め接触機にポンプで戻される。
上記方法に使われる装置の一般的金属腐蝕問題解決のた
め従来多大の努力がなされている。スティンレス鋼の様
な外来の高価な金属合金使用よ)も投下経費節約のため
軟鋼合金を装置に使用した場合上記問題は特に激しくお
よび(又は)慢性的である。もちろん熱交換装置の様な
敏感な部分にスティンレス鋼又はニッケル合金を使うこ
とは一般に行なわれている。
米国特許第3,808,140号(1974,4,30
)は少量のバナジウムとアンチモン化合物使用によるア
ルカノールアミン溶液の抑制法を提供している。
米国特許第4,071,470号(1978,1,31
>は銅、いおうおよびアルカノールアミンの反応生成物
の少量の使用によるアルカノールアミン溶液の抑制法を
提供している。
米国特許第4.096.085号(1978,6,20
)は銅といおうを使用し又は使わず少量のポリチミンを
使うアルカノールアミン溶液の抑制法を提供している。
米国特許第4,100,099号(1978,7,11
)は少量の第4級ピリジニウム塩とアルキレンポリアミ
ンの使用によるサワーガスコンディショニング流体の抑
制法を提供している。
米国特許第4,100,100号(197g、 7.1
1 >は少量の第4級ピリジニウム塩、チオシアネート
化合物又はチオアミド化合物および2価コバルト化合物
の使用によるサワーガスコンディショニング流体の抑制
性提供している。
米国特許第4,102,804号(1978,7,25
)は少量の第4級ピリジニウム塩およびチオシアネート
化合物、サルファイド化合物又はチオアミド化合物の使
用によるサワーガスコンディショニング溶液の抑制法を
提供している。
米国特許第4,116,629号(1978,9,26
)はニッケル塩使用による炭酸塩溶液と接触の場合のス
ティンレス鋼C410および430型)腐蝕抑制法を提
供している。
米国特許第4,143.119号(1979,3,6)
は少量の銅とその場で発生したポリサルファイドの使用
によるサワーガスコンディショニング溶液の抑制法を提
供している。
ホンタナとグリー:/(Fontana、Greene
)による「フロージョンエンジニアリンク」(Corr
osionE1gieersng” L第2編、39頁
によればすき間腐蝕は腐蝕性装置中の金属表面上のすき
まや他の遮へい領域で起こる強い局部腐蝕として知られ
ている。この種の腐蝕攻撃は金属とガスゲット表面の間
隙、ラップジヨイント、ボルトヘッド下のすきま等の結
果として起こる少量のよどんだ溶液と通常関連している
。
すきま腐蝕をしらべ、測定する装置は米国特許第3.1
16,117号及び第3,599,090号に知られて
いる。
米国特許第4.431,563号はチオ−窒素化合物と
ニッケル塩およびコバルト塩の様な可溶性金属塩の混合
使用によるガスコンディショニング装置における一般腐
蝕抑制法を開示している。
上記組成物および(又は)方法は一般腐蝕に有効である
が、それらはすきま腐蝕の抑制について教示していない
しまたその目的には適さないものである。
ここに驚くべきことに、ガス除去装置中の鉄および鋼の
fきま腐蝕がチオシアネートイオンとニッケルイオンの
組合せ又は混合物の有効量によって抑制されたガスコン
ディショニングアルカノールアミン溶液を用いることに
よって有効に減少できることが発見された。
本発明に使われる抑制剤は有効な不動態をえるだめにガ
スコンディショニング溶液中で一定に補充又は維持され
る。
本発明の方法はすべての第2鉄表面、即ち軟鋼のみなら
ずスティンレス鋼表面のすきま腐蝕も減少する点で独特
である。
本発明に使われるすきま腐蝕抑制剤はガス流から酸性ガ
スを除去するに普通便われるモノエタノールアミン、ジ
ェタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルジェ
タノールアミン、および関連アルカノールアミンの様な
アルカノールアミンの水溶液中で有効である。
アルカノールアミンはそれを10乃至80重8%含む水
溶液で使われる。好ましい範囲は20乃至60重址チで
あり、最も好ましいのは30乃至50重量%である。
2酸化炭素除去のため本発明の抑制されたガスコンディ
ショニング溶液で処理されうる不純ガス供給流は一般に
数ppm(1−sppm)の硫化水素および(又は)硫
化カルボニルを含みうる。
ニッケルイオンを与えるに有用な可溶性ニッケル化合物
の例には第1ニツケルの硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、酒石
酸塩、くえん酸塩、炭酸塩およびチオシアネ、−トがあ
る。ニッケルは普通2価金属として働らくので以後ニッ
ケル塩については第1ニツケル塩を含む意味とする。
チオシアネートイオンを与えるに有用な可溶性チオシア
ネートの例はアンモニウムチオシアネート、カリウムチ
オシアネートとナトリウムチオシアネートの様なアルカ
リ金属チオシアネート、アルカリ土類金属チオシアネー
トおよび遷移金属チオシアネートである。
ニッケルチオシアネートは一つの化合物で両イオンを与
える放置も有用および/又は便利な化合物である。
可溶性化合物又は塩とは本発明の目的のためガスコンデ
ィショニング水溶液、即ち本発明で有用である水性アル
カノールアミンに十分可溶な化合物を意味するのである
。一般にこれは塩又は化合物が25ppm程度又はそれ
以上に可溶でなければならないことを意味する。
炭素鋼装置用のチオシアネート抑制剤はガスコンディシ
ョニング溶液中150ppm又はそれ以上のチオシアネ
ートイオンを与える量で維持される必要のあることが判
った。
この化合物は使用中なくなるので開始時s o o p
pm又はそれ以上の大量を使用し、以後溶液中に必要な
有効量を保つため定期的に添加することが好ましい。チ
オシアネートイオンは150乃至2000ppmの範囲
、特に200乃至400p1)mの範囲が好ましい。2
000ppm以上の量は有効であるが経済的ではない。
ニッケル塩はガスコンディショニング溶液中に25 P
I)m以上のニッケルイオンを与える量で維持する必要
がある。
25乃至2,000pI)m+7)範囲、¥1K100
乃至200ppmの範囲が好ましい。2,0001)I
)m以上の量は有効であるが経済的でない。本発明の抑
制剤をスティンレス鋼装置に使用する場合のニッケルイ
オンのレベルは少くとも25ppmまで低下させうる。
“PPt”は100万分の1を意味する。
実施例1 評価のため伝熱面として炭素鋼(SAE1020)とス
ティンレス鋼(SAE304)からできた金属試験クー
ポンを用いてすきま腐蝕試験を行なった。試験溶液とそ
のガラス容器をさかさにしクーポンに対しエラストーマ
−性〇−リングで封をし、クーポン下の電気加熱したア
ルミニウムブロックで試験クーポンによく調節された温
度149℃(300下)を供給した。温度は試験溶液に
伝えられ液温度を102℃(216下)とした。
7日間(168時間)試験後すきまおよび一般の腐蝕を
測定した。すきま生成速度測定には顕微鏡検査を用いた
。
モノエタノールアミンを脱イオン水に加えてモノエタノ
ールアミン(MEA)30重1*を含む試験液100 
Mをつくった。脱イオン水は使用前CO2を堕和させた
。ニッケルサルフェート (NiS04・6H20)お
よび(又は)アンモニウムチオシアネートを表1に示す
濃度とする罠十分な食でこの試験液に加えた。
表Iにおいて実施例1はSli;1020cs(冷間ロ
ールした鋼)への一般およびすきま腐蝕に対し保護する
に必要なNi  と5CN−両者の濃度を示している。
実施例2−8 実施例1の試験法を5AE1020クーポンのみを使っ
て反復した。すきま腐蝕が肉眼で認められた。ひどい、
非常にわるい、わるい、中位、僅か、微少又はなしと等
級をつけた。結果は表■に示している。これらの実施例
は実際の実施では許容したくない下限を示しおよび(又
は)例証している。
5AE304ステインレス鋼クーポンのみを使って実施
例1の試験方法を反復した。すきま腐蝕の肉眼検査は実
施例2−8と同じであった。結果は表■に示している。
実施例13 2酸化炭素約10%を含む天然ガス350 MM 5c
fd(1日当り100万標準立方フイート) (9,9
MMd7F3 )の工場プラント処理をNi+280 
120pPmおよび5CN−200−250pI)mを
含む30%モノエタノールアミン(MEA)溶液を用い
て6ケ月にわたり行なった。
抑制剤量は通常的な消化と定期的添加により変化した。
一般腐蝕は5 mpyを超えず、すきま腐蝕は本質的に
ゼロであった。腐蝕観察は炭素鋼と304スティンレス
鋼容器成分について行なった。
壷用語の意味 な し−すきま腐蝕−められず 微 少−すきま腐蝕は認められないがさらされた表面が
よごれた。
僅 か−顕循鏡検査でいくつかの小さいくぼみがみられ
た。
中 位−すきま深さ0.005−0.010で、深さ7
幅の比が1 : 2−1 : 3゜ わるい−すきさ深さ0.010−0.020インチで、
深さ7幅の比がl: 2−1 : 3゜ 非常にわるい−すきま深さ0.020−0.025イン
チで、深さ/IIIの比が1:15−1:20゜ひどい
−すきま深さ0.025−0.030インチで、深さ/
@の比が1:2−1:25゜ MPY”=年当りミル 表■ SAE  304クーポンを用いクーポン温度300?
(149℃)においてCO鵞飽和水中25%新MEAK
おけるすきま腐蝕試験結果 対照14   0  250  ひどい 35.7(9
06,8)非常’  24.6(624,8) ″ 15   5  250  ゎるい実施例16  
 25   250   な し  2.0  (50
,8)I  17    50    250    
な  し   3.0  (76,2)−187525
0な  し   1.0  (25,4)’   19
   100    250    な  し   1
.0  (25,4)秦定義は表■と同じ MPY”=年歯シミル

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、アルカノールアミンを10乃至80重量%含有する
    アルカノールアミン水溶液による炭素鋼又はステインレ
    ス鋼酸ガス除去装置におけるすきま腐蝕抑制方法であつ
    て、該溶液中にニッケルイオンの有効量とチオシアネー
    トイオンの有効量の混合物を維持せしめることを特徴と
    するすきま腐蝕抑制方法。 2、炭素鋼が使われている場合において、ニッケルイオ
    ンの有効量が少なくとも100PPMであり、チオシア
    ネートイオンの有効量が少なくとも150PPMである
    特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3、ステインレス鋼が使われている場合において、ニッ
    ケルイオンの有効量が少なくとも25PPMであり、チ
    オシアネートイオンの有効量が少なくとも150PPM
    である特許請求の範囲第1項に記載の方法。 4、ニッケルイオンの有効量が100乃至2000PP
    Mの範囲内であり、チオシアネートイオンの有効量が1
    50乃至2000PPMの範囲内である特許請求の範囲
    第2項に記載の方法。 5、ニッケルイオンの有効量が100乃至200PPM
    の範囲内であり、チオシアネートイオンの有効量が20
    0乃至400PPMの範囲内である特許請求の範囲第2
    項に記載の方法。 6、アルカノールアミンがモノエタノールアミン、ジエ
    タノールアミン、トリエタノールアミンおよびメチルジ
    エタノールアミンからなる群より選ばれる特許請求の範
    囲第1項に記載の方法。 7、ニッケルイオンが硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、酒石酸
    塩、くえん酸塩及び炭酸塩の各陰イオンからなる群より
    選ばれた陰イオンを有する可溶性ニッケル塩によつて与
    えられる特許請求の範囲第1項に記載の方法。 8、チオシアネートイオンがアンモニウム、アルカリ金
    属、アルカリ土類金属および遷移金属の各陽イオンから
    なる群より選ばれた陽イオンを持つ可溶性チオシアネー
    ト塩によつて与えられる特許請求の範囲第1項に記載の
    方法。
JP60140692A 1985-04-22 1985-06-28 ガスコンデイシヨニングすきま腐蝕抑制剤 Pending JPS61246385A (ja)

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EP0205695A2 (en) 1986-12-30
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