JPS61255982A - image forming device - Google Patents

image forming device

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JPS61255982A
JPS61255982A JP9860985A JP9860985A JPS61255982A JP S61255982 A JPS61255982 A JP S61255982A JP 9860985 A JP9860985 A JP 9860985A JP 9860985 A JP9860985 A JP 9860985A JP S61255982 A JPS61255982 A JP S61255982A
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JP
Japan
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image forming
film
substrate
light
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP9860985A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukio Nishimura
征生 西村
Takashi Nakagiri
孝志 中桐
Kunihiro Sakai
酒井 邦裕
Yoshinori Tomita
佳紀 富田
Takeshi Eguchi
健 江口
Kenji Saito
謙治 斉藤
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、′表示装置、記録装置等に利用しうる像形成
装置に関し、とりわけ有機機能性膜によって構成される
像形成素子を用いた像形成装置に関する。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to an image forming device that can be used in display devices, recording devices, etc. The present invention relates to a forming device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

波長λ1の光により色が変化し、暗所、熱又は波長λ2
の光により元に戻る機能性分子のことをフォトクロミッ
ク分子といい古くから知られている(例えば、繊維高分
子材料研究所研究報告No、141 1984−3) 
The color changes depending on the light with wavelength λ1, in the dark, with heat or with wavelength λ2.
Functional molecules that return to their original state when exposed to light are called photochromic molecules and have been known for a long time (for example, Fiber and Polymer Materials Research Institute Research Report No. 141 1984-3)
.

しかしながら、このように可逆的に色が変化する機能性
分子でありながら、従来、ごく一部の限られた範囲を除
いて、表示素子や記録素子や記憶素子等の光学素子に利
用されていないのは固体状態では光応答性が生じないか
又は不十分であるためであった。
However, despite being a functional molecule that reversibly changes color, it has not been used in optical elements such as display elements, recording elements, and memory elements, except in a very limited range. This is because photoresponsiveness does not occur or is insufficient in the solid state.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

そこで、本発明の目的は、かかる技術分野における従来
技術の解決しえなかった課題を解決することである。
Therefore, an object of the present invention is to solve problems that could not be solved by the conventional techniques in this technical field.

つまり1本発明の目的は、コントラストの高い、簡易な
(カラー)表示装置、記録装置、記憶装置等に利用する
像形成装置を提供することである。
In other words, one object of the present invention is to provide an image forming apparatus that has high contrast and is used in a simple (color) display device, a recording device, a storage device, and the like.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の目的は、以下の本発明によって達成される。 The above object is achieved by the present invention as follows.

すなわち本発明は、基本的に相転移性有機化合物分子と
機能性分子からなる像形成素子、該素子に光を照射する
光照射手段、情報に応じた信号を入力する熱信号入力手
段、該信号を走査する熱信号走査手段とを備えたことを
特徴とする像形成装置である。
That is, the present invention provides an image forming element basically consisting of phase-transition organic compound molecules and functional molecules, a light irradiation means for irradiating the element with light, a thermal signal input means for inputting a signal according to information, and An image forming apparatus is characterized in that it is equipped with a thermal signal scanning means for scanning.

(作用〕 本発明の像形成装置に用いる像形成素子は。(effect) The image forming element used in the image forming apparatus of the present invention is as follows.

相転移性有機化合物分子と機能性分子からなる像形成層
を有している。
It has an image forming layer consisting of phase changeable organic compound molecules and functional molecules.

本発明でいう相転移とは、物質が熱によって不動の固体
状態から動的な状態に変わる場合をいう、従って、堅固
な状態から流動的、乃至は柔軟な状態、静的な状態から
動的な状態、結晶相から液晶相、固体から液体、ある種
の液晶相から別種の液晶相等に変化することは全て相転
移である。
Phase transition as used in the present invention refers to when a substance changes from an immobile solid state to a dynamic state due to heat. Therefore, from a solid state to a fluid or flexible state, from a static state to a dynamic state. A change in state, from a crystalline phase to a liquid crystalline phase, from a solid to a liquid, from one kind of liquid crystalline phase to another, etc. are all phase transitions.

機能性分子とは、像形成機能(表示機能、記録機能、記
憶機能)及び像変換以外の情報変換機能(演算機能)を
いい、更に物質又はエネルギーの輸送機能を含む、更に
、光や電気エネルギーの付与によって機能を発現する場
合に限らず、熱、磁気、圧力、物質等の付与による機能
発現を含むものである。
Functional molecules refer to image-forming functions (display functions, recording functions, memory functions) and information conversion functions other than image conversion (arithmetic functions), and also include substance or energy transport functions, as well as light and electrical energy transport functions. It is not limited to cases in which functions are expressed by the application of heat, magnetism, pressure, substances, etc., but also includes functions expressed by the application of heat, magnetism, pressure, substances, etc.

次に、本発明に用いる素子の基本的な駆動原理を説明す
る。
Next, the basic driving principle of the element used in the present invention will be explained.

ある種の機能性分子はエネルギーの付与により、液体乃
至は流動体中では高速に化学変化するが、堅固な固体中
では化学変化しないか或いはその変化が極めて遅い。
When energy is applied to certain functional molecules, chemical changes occur rapidly in liquids or fluids, but chemical changes do not occur or the changes occur extremely slowly in solid solids.

相転移する有機化合物分子と混合膜を構成する機能性分
子は、前述の如き分子、すなわち、堅固な状態では化学
変化しないか、又はしにくいために機能の発現をしない
か、又はしにくいが、柔軟な状態では化学変化しやすい
ため機能を発現しうるような材料が選択される。
The organic compound molecules that undergo a phase transition and the functional molecules constituting the mixed film are the molecules described above, that is, molecules that do not undergo chemical change in a solid state, or do not exhibit their functions because they do not undergo chemical changes or are difficult to do so. Since it is easy to undergo chemical changes in a flexible state, materials that can perform functions are selected.

このように構成された前記混合膜を前記発熱要素を用い
て相転移温度以上に加温することにより前記有機化合物
を柔軟性に富む状態に維持させる。かかる状態の中に存
在する前記機能性分子は化学変化しやすい状態におかれ
るから、入力エネルギーの付与に対して高速に応答(4
1!能発現)する0以上に述べた構成によって本発明の
目的は達成されるものである。
The organic compound is maintained in a highly flexible state by heating the thus configured mixed film to a temperature higher than the phase transition temperature using the heating element. Since the functional molecules existing in such a state are in a state where they are easily chemically changed, they respond rapidly to the application of input energy (4
1! The object of the present invention is achieved by the configuration described above.

要するに本発明は。In short, the present invention.

1、液体の媒体では用途が限定され、不安定であるので
固体媒体が望まれること。
1. Liquid media have limited uses and are unstable, so solid media are desired.

2、しかし、固体の媒体では機能が充分発現できないこ
と。
2. However, the function cannot be fully expressed in a solid medium.

の2点を相転移性有機化合物を混合することによって解
決したものである。
These two points were solved by mixing a phase-transitionable organic compound.

更に1本発明に用いる像形成素子の例を図面に従って説
明する。
Further, an example of an image forming element used in the present invention will be explained with reference to the drawings.

第3図は本発明に用いる像形成素子の断面図であり、第
3図(A)は透過型の像形成素子を、また第3図(B)
は反射型の像形成素子をそれぞれ示している。1は基板
、2は発熱層、3は熱相転移性有機化合物分子と光によ
って機能を発現する機能性分子との混合膜から構成され
る像形成層、4は保護用基板である。第3図(A)の透
過型の像形成素子の作像原理は、次のとおりである。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an image forming element used in the present invention, and FIG. 3(A) is a transmission type image forming element, and FIG. 3(B)
1 and 2 respectively indicate reflective image forming elements. 1 is a substrate, 2 is a heat generating layer, 3 is an image forming layer composed of a mixed film of thermal phase changeable organic compound molecules and functional molecules that exhibit functions by light, and 4 is a protective substrate. The image forming principle of the transmission type image forming element shown in FIG. 3(A) is as follows.

作像のためにバイアスとして発熱層2を加熱し、加熱さ
れた発熱層2上の前記像形成層3の構成成分である相転
移性有機化合物分子に相転移変化を生ぜしめる。その結
果、流動的乃至柔軟な状態におかれた前記像形成層3に
作像のためにあるパターン乃至は入力情報に従い、像形
成層3の所望する位置、例えば位置5に光6(赤外線、
可視光線、紫外線又はX線など)を照射し、像形成層3
の構成成分である機能性分子に後述の光化学変化を生ぜ
しめる。かくして、この光化学変化をしたパターン乃至
は情報(光化学変化領域5)を素子の裏面側から照明光
7を照らしつつ、直接φ間接にとらえて表示乃至は読み
とる。
For image formation, the heat generating layer 2 is heated as a bias, and a phase transition change is caused in the phase transition organic compound molecules, which are the constituent components of the image forming layer 3, on the heated heat generating layer 2. As a result, light 6 (infrared, infrared,
The image forming layer 3 is irradiated with visible light, ultraviolet rays, or
It causes the photochemical changes described below in the functional molecules that are the constituent components of. In this way, this photochemically changed pattern or information (photochemically changed area 5) is directly or indirectly captured and displayed or read while illuminating the illumination light 7 from the back side of the element.

第3図(B)の反射型の像形成素子においては、照明光
7を透過型とは逆に保護用基板4側から入射し、前記混
合[13より基板l側に設けである反射膜9によって反
射せしめ、光化学変化領域5と光化学変化領域以外の領
域において反射される反射光8の強弱等をとらえて表示
乃形成素子の前記像形成層3を構成する相転移性有機化
合物としては、以下のものが例示される(1)高級脂肪
酸 CH3(CH2) 12COOH CH3(CH2) 14COOH CH3(CH2) tscOOH CH3(CH2) 18COOH CH3(CH2) tocOOH CH2=CH(CH2) 8COOH CH2=CH(CH2) 15cOOHCH2=CH(
CH2) 20COOHCH3= (C)12) 17
CC0OHCH2 CH3(CH2) 8C=C−C=C(CH2) 8C
OOHCH3(CI(2)3CH=CHCH=CHCH
=CH(CH2)7COOHCH3(CH2) 7CH
=CH(CH2) 7COOHCH3(CH2) 7C
H=CHCOOHCH3=CH(CH2) 5poon CH3(CH2) 9c==c−C=C(CH2) 8
COOHCH3(CH2)ttc=c−c=c (CH
2)8COOHCH3(CH2) 13c=c−c=c
 (CH2) 8COOH(2)長鎖ジアルキル塩 ・長鎖ジアルキルアンモニウム塩 り (mはlO〜30の整釦 ・長鎖ジアルキルスルフォン酸墳 Φ長鎖ジアルキルリン酸塩 (3)シアニン色素 シアニン色素の具体例を以下に例示する。
In the reflective image forming element shown in FIG. 3(B), the illumination light 7 is incident from the protective substrate 4 side, contrary to the transmission type, and the reflective film 9 is provided on the substrate l side from the mixing [13]. The phase-transition organic compound constituting the image forming layer 3 of the display/forming element by capturing the strength, etc. of the reflected light 8 reflected in the photochemical change area 5 and areas other than the photochemical change area is as follows: Examples include (1) Higher fatty acids CH3 (CH2) 12COOH CH3 (CH2) 14COOH CH3 (CH2) tscOOH CH3 (CH2) 18COOH CH3 (CH2) tocOOH CH2=CH (CH2) 8COOH CH2=CH (CH2) 1 5cOOHCH2 =CH(
CH2) 20COOHCH3= (C)12) 17
CCOOHCH2 CH3(CH2) 8C=C-C=C(CH2) 8C
OOHCH3(CI(2)3CH=CHCH=CHCH
=CH(CH2)7COOHCH3(CH2) 7CH
=CH(CH2) 7COOHCH3(CH2) 7C
H=CHCOOHCH3=CH(CH2) 5poon CH3(CH2) 9c==c-C=C(CH2) 8
COOHCH3(CH2)ttc=c-c=c (CH
2) 8COOHCH3(CH2) 13c=cc=c
(CH2) 8COOH (2) Long chain dialkyl salt/Long chain dialkyl ammonium salt (m is a regular button of lO to 30/Long chain dialkyl sulfonic acid mound Φ Long chain dialkyl phosphate (3) Cyanine dye Specification of cyanine dye An example is illustrated below.

(4)アゾ色素 (R2はCIO〜3oのアルキル基である。)(5)リ
ン脂質 レシチン ケファリン スフィンゴミエリン プラスマロゲン 次に、光応答する機能性分子としては、光によって色が
変化する化合物、すなわちフォトクロミック化合物があ
げられる。そのようなものとしては、以下のものが例示
される。
(4) Azo dye (R2 is an alkyl group of CIO to 3o) (5) Phospholipid lecithin cephalin sphingomyelin plasmalogen Next, as photo-responsive functional molecules, compounds that change color depending on light , that is, photochromic compounds. Examples of such things include the following:

(6)スピロピラン及び類似体(イオン解難)波長λ1
の光によりイオン解離し、右側の構造に変化し、これが
暗所で熱的に、又は別の波長入2の光により左側の構造
に戻る。
(6) Spiropyran and analogues (ion elucidation) wavelength λ1
The ions are dissociated by light, changing to the structure on the right, which returns to the structure on the left either thermally in the dark or by light at another wavelength of 2.

(7)シス−トランス異性化 C=C,C=N、N=Nなどの不飽和二重結合の異性化
に基づく例 拳チオインジゴ ・アゾベンゼン及びその誘導体 (8)水素移動を伴う互変異性化 ・ケト−エノール異性化 ・act−二トロ異性化 0″′c′Ph (9)光閉鶏反応 ・シス−スチルベン ・フルギド (lO)へテロ環を含む原子価異性化反応・ニトロン−
オキサシリンシン系 (11)  1−フェノキシアントラキノン類(12)
光二量化反応 (13)芳香族多環化合物への光二量化反応(14)光
レドックス反応 ・チアジン色素系 ・ビオロゲン 前記相転移性有機化合物分子と前記機能性分子を混合し
て混合膜を作成する方法としては。
(7) Cis-trans isomerization Example of thioindigo azobenzene and its derivatives based on isomerization of unsaturated double bonds such as C=C, C=N, N=N (8) Tautomerization accompanied by hydrogen transfer・Keto-enol isomerization ・act-nitro isomerization 0'''c'Ph (9) Photoclastic reaction ・Cis-stilbene fulgide (lO) valence isomerization reaction containing a heterocycle ・Nitrone-
Oxacillin series (11) 1-phenoxyanthraquinones (12)
Photodimerization reaction (13) Photodimerization reaction to aromatic polycyclic compound (14) Photoredox reaction, thiazine dye system, viologen A method of creating a mixed film by mixing the above-mentioned phase-transition organic compound molecules and the above-mentioned functional molecules as.

スピンナー回転塗布法、ローラー塗布法、引上げ塗布法
、スパッタリング法、プラズマ重合法。
Spinner rotation coating method, roller coating method, pull-up coating method, sputtering method, plasma polymerization method.

二分子膜作製法、ラングミュア・プロジェット−法(L
B法)等がある。そのいずれを用いても本発明の目的は
達成される。
Bilayer membrane production method, Langmuir-Prodgett method (L
Method B) etc. The object of the present invention can be achieved using any of them.

LB法によれば、像形成における品質、効率等に優れる
だけではなく、高解像或は超高解像が得られる利点があ
り、更に液体の相転移性有機化合物分子を固体上に成膜
できるなど、材料の選択範囲が著しく広がるなどの特徴
も有する。
According to the LB method, it not only has excellent quality and efficiency in image formation, but also has the advantage of obtaining high resolution or ultra-high resolution. It also has features such as significantly expanding the range of material selection.

以下、LB法を用いて成膜する場合を説明する。The case of forming a film using the LB method will be described below.

LB法は、分子内に親木基と疎水基を有する構造の分子
において、両者のバランス(両親媒性のバランス)が適
度に保たれているとき、分子は水面上で親木基を下に向
けて単分子膜または単分子層の累積膜を作成する方法で
ある。水面上の単分子層は二次元系の特徴をもつ0分子
がまばらに散開しているときは、一分子当りの面積Aと
表面積nとの間に二次元理想気体の式、nA=kT が成り立ち、゛気体膜”となる、ここに、kはボルツマ
ン定数、Tは絶対温度である。Aを充分小さくすれば分
子間相互作用が強まり二次元固体の“凝縮膜(または固
体膜)″になる。
In the LB method, when a molecule has a parent wood group and a hydrophobic group in its molecule, and the balance between the two (amphiphilic balance) is maintained appropriately, the molecule is placed on the water surface with the parent wood group facing down. This method creates a monomolecular film or a cumulative film of monomolecular layers. When the monomolecular layer on the water surface has the characteristics of a two-dimensional system and zero molecules are sparsely dispersed, the two-dimensional ideal gas equation, nA=kT, is established between the area A per molecule and the surface area n. where k is Boltzmann's constant and T is the absolute temperature.If A is made sufficiently small, the intermolecular interaction becomes strong and a two-dimensional solid becomes a "condensed film (or solid film)". Become.

凝縮膜はガラス等の基板の表面に発熱抵抗層3が成膜さ
れているときはその表面反射膜9が成膜されているとき
はその表面へ一層づつ移すことができる。この方法を用
いて単分子膜又は単分子層累積膜は例えば次のようにし
て製造する。
When the heating resistance layer 3 is formed on the surface of a substrate such as glass, the condensed film can be transferred layer by layer to the surface of the substrate such as glass when the surface reflective film 9 is formed thereon. Using this method, a monomolecular film or a monomolecular layer stack is produced, for example, as follows.

まず有機化合物分子(混合系を含む)を溶剤に溶解し、
これを水面上に展開し、有機化→物を膜状に析出させる
0次にこの析出物が水面上を自由に拡散して拡がりすぎ
ないように仕切板(または浮子)を設けて展開面積を制
限して膜物質の集合状態を制御し、その集合状態に比例
した表面圧nを得る。この仕切板を動かし、展開面積を
縮小して膜物質の集合状態を制御し、表面圧を徐々に・
上昇させ、累積膜の製造に適する表面圧nを設定するこ
とができる。この表面圧を維持しながら静かに清浄な基
板を垂直に上下させることにより単分子膜又は二種以上
の分子が混合した混合単分子膜が基板上に移しとられる
。単分子膜は以上で製造されるが、単分子層累積膜は、
前記の操作を繰り返すことにより所望の累積度の単分子
層累積膜が形成される。
First, organic compound molecules (including mixed systems) are dissolved in a solvent,
This is spread on the water surface, and the organic matter is deposited in a film form.Next, to prevent this precipitate from freely diffusing on the water surface and spreading too much, a partition plate (or float) is installed to reduce the development area. The aggregation state of the membrane material is controlled by limiting, and a surface pressure n proportional to the aggregation state is obtained. By moving this partition plate, the developed area is reduced to control the gathering state of the membrane material, and the surface pressure is gradually reduced.
The surface pressure n can be increased to set a surface pressure n suitable for producing a cumulative film. By gently vertically moving a clean substrate up and down while maintaining this surface pressure, a monomolecular film or a mixed monomolecular film of two or more types of molecules is transferred onto the substrate. A monomolecular film is manufactured using the above steps, but a monomolecular layer cumulative film is manufactured using the following steps.
By repeating the above operations, a monomolecular layer stack with a desired degree of stacking is formed.

成膜分子は、前記の有機化合物分子から1種またCモ2
種以上選択される。
The film-forming molecule may be one of the organic compound molecules mentioned above or C mole.
More than one species is selected.

、゛ −・ 5 、単分子1M51ニーt、よ単分子層累積膜の厚さは3
0人大1 ’= 30 ”0 、pm’が適シテオリ、特に300
0λ〜301Lmが適している。
,゛-・5, single molecule 1M51 neat, the thickness of the monolayer cumulative film is 3
0 person size 1' = 30 "0, pm' is suitable, especially 300
0λ to 301Lm is suitable.

単分子層を基板上に移すには、上述した垂直−漬法や他
、水平付着法、回転円筒法などの方−法によ、る、水平
□付着1は基板**亭輩接触さすて移しとる方法で1回
転円筒法は、゛円筒−の′j&1体を水面上に回転させ
て単分子層を基体表面に移しとる方法である。前述した
垂直浸漬法では、水面を横切る方向に基板を上げると一
層めは親木基が基板側に向いた単分子層が基板上に形成
される。前述のように基板を上下させると、各工程ごと
の1枚ずつ単分子層が重なっていく、成膜分子の向きが
引上げ工程と浸漬工程で逆になるので、この方法による
と各層間は親木基と親木基、疎水基と疎水基が向かい合
うY型膜が形成される。
To transfer the monomolecular layer onto the substrate, use the above-mentioned vertical dipping method, horizontal deposition method, rotating cylinder method, or other methods. The one-rotation cylinder transfer method is a method in which a cylinder is rotated above the water surface to transfer a monomolecular layer onto the substrate surface. In the above-mentioned vertical immersion method, when the substrate is raised in a direction across the water surface, a monomolecular layer is formed on the substrate with the parent wood groups facing the substrate in the first layer. As mentioned above, when the substrate is moved up and down, the monomolecular layers are overlapped one by one in each process.The direction of the film-forming molecules is reversed in the pulling process and the dipping process, so according to this method, each layer is A Y-shaped film is formed in which wood bases and parent wood bases, and hydrophobic groups face each other.

それに対し、水平付着法は、基板を水面に水平に接触さ
せて移しとる方法で、疎水基が基板側に向いた単分子層
が基板上に形成される。
On the other hand, the horizontal deposition method is a method in which the substrate is brought into horizontal contact with the water surface and transferred, and a monomolecular layer with hydrophobic groups facing the substrate is formed on the substrate.

この方法では、累積しても、成膜分子の向きの交代はな
く全ての層において、疎水基が基板側に向いたX型膜が
形成される0反対に全ての暦において親木基が基板側に
向いた累積膜はX型膜と呼ばれる。
In this method, there is no change in the direction of the film-forming molecules even if they are accumulated, and an X-shaped film is formed in which the hydrophobic groups face the substrate in all layers. A side-facing cumulative film is called an X-type film.

回転円筒法は1円筒型の基体を水面上に回転させて単分
子層を基体表面に移しとる方法である。単分子層を基板
上に移す方法は、これらに限定されるわけではなく、大
面積基板を用いる蒔には、基板ロールから水槽中に基板
を押し出していく方法などもとり得る。又、前述した親
木基、疎水基の基板への向きは原則であり、基板の表面
熱理等によって変えることができる。
The rotating cylinder method is a method in which a cylindrical substrate is rotated above the water surface to transfer a monomolecular layer onto the surface of the substrate. The method of transferring the monomolecular layer onto the substrate is not limited to these methods, and when using a large-area substrate, a method of extruding the substrate from a substrate roll into a water bath may also be used. Furthermore, the orientation of the aforementioned parent wood group and hydrophobic group toward the substrate is in principle, and can be changed depending on the surface heat treatment of the substrate.

本発明における機能性分子に疎水性部位を導入する場合
、炭素数が5〜30の長鎖アルキル基が特に好ましい。
When introducing a hydrophobic moiety into a functional molecule in the present invention, a long-chain alkyl group having 5 to 30 carbon atoms is particularly preferred.

基板1として使用することのできるものとしては、ガラ
ス、アルミニウムなどの金属、プラスチック、セラミッ
ク、紙などが挙げられる。
Examples of materials that can be used as the substrate 1 include glass, metals such as aluminum, plastics, ceramics, and paper.

第3図(A)に示した透過型の場合には、できる限り耐
圧性のある透光性のガラスやプラスチック、特に無色乃
至淡色のものが好ましい。
In the case of the transmission type shown in FIG. 3(A), it is preferable to use pressure-resistant and transparent glass or plastic, especially colorless or light-colored ones.

保護用基板4としては、できる限り耐圧性のある透光性
のガラスやプラスチックが適しており、特に無色乃至淡
色のものが好ましい、保護用基板4を設けることは、混
合膜の耐久性、安定性を向上させるためには、好ましい
ことであるが、成膜分子の選択によって保護用基板は設
けても設けなくてもよい。
As the protective substrate 4, pressure-resistant, translucent glass or plastic is suitable as much as possible, and colorless or light-colored ones are particularly preferable.Providing the protective substrate 4 increases the durability and stability of the mixed film. Although it is preferable in order to improve the properties, the protective substrate may or may not be provided depending on the selection of the film-forming molecules.

反射膜9としては、高融点の金属材料又は金属化合物材
料を用いて金属膜、誘電ミラーなどを基板1側にスパッ
タリング法、蒸着法などにより設ける0反射M9も発熱
層2又は基板lが反射性のものであればそれらに兼ねさ
せることもできる。
As the reflective film 9, a metal film, dielectric mirror, etc., using a metal material or a metal compound material with a high melting point, is provided on the substrate 1 side by a sputtering method, a vapor deposition method, or the like. If it is something like that, it can also be used.

発熱層2としては、赤外線照射による加熱を利用するも
のや抵抗加熱等のジュール熱を利用するもの等が挙げら
れる。前者としては各種の無機あるいは有機材料、例え
ばGd・TbΦFe等の合金、カーボンブラック等の無
機顔料等があり、有機材料としては5例えばニグロシン
等の有機染料がある。
Examples of the heat generating layer 2 include those that utilize heating by infrared irradiation and those that utilize Joule heat such as resistance heating. Examples of the former include various inorganic or organic materials, such as alloys such as Gd/TbΦFe, inorganic pigments such as carbon black, and examples of organic materials include organic dyes such as nigrosine.

かかる光吸収色素の一例を挙げれば、銅フタロシアニン
、バナジウムフタロシアニン等の金属フタロシアニン、
含金属アゾ染料、酸性アゾ染料、フルオレスセイン等の
キサンチン系色素等がある。但し、それ自身は所定の熱
に対して溶融しないものである。後者としては5例えば
ホウ化ハフニウムや窒化タンタル等の金属化合物やニク
ロム等の合金が適している0発熱要素2の膜厚はエネル
ギー伝達効率及び解像力に影響を及ぼす、これらの観点
より、発熱要素2の好適な膜厚が1ooo〜2000人
である。像形成素子が透過型の場合1発熱要素2は可視
光に対して透過性(例えば前者の場合S i02膜、後
者の場合インジウム拳チン・オキサイドItl)である
ことが要件となる。しかし、発熱要素2は特別に設けな
くても、上記特性を具備した基板材料を選択することに
より、基板lが発熱要素を兼ねることもできる。
Examples of such light-absorbing dyes include metal phthalocyanines such as copper phthalocyanine and vanadium phthalocyanine;
Examples include metal-containing azo dyes, acidic azo dyes, and xanthine dyes such as fluorescein. However, it itself does not melt under a certain amount of heat. For the latter, metal compounds such as hafnium boride and tantalum nitride, and alloys such as nichrome are suitable.0 The film thickness of the heat generating element 2 affects energy transfer efficiency and resolution.From these points of view, the heat generating element 2 The preferred film thickness is 100 to 2000. When the image forming element is a transmissive type, the heat generating element 2 is required to be transparent to visible light (for example, an Si02 film in the former case, and an indium tin oxide Itl in the latter case). However, even if the heating element 2 is not specially provided, the substrate 1 can also serve as a heating element by selecting a substrate material having the above characteristics.

前記相転移を起こす温度、即ち相転移温度(Tc)は物
質によって固有である。Tcは40〜lOO℃のものが
好適である0例えば。
The temperature at which the phase transition occurs, ie, the phase transition temperature (Tc), is unique depending on the substance. For example, Tc is preferably 40 to lOO°C.

パルミチン酸のTcは60〜63℃、ジアルキルアンモ
ニウム塩のTcは、20〜60℃である。一般的にTc
は、アルキル鎖長とともに上昇する。
Tc of palmitic acid is 60 to 63°C, and Tc of dialkylammonium salt is 20 to 60°C. Generally Tc
increases with alkyl chain length.

混合膜の混合比率、即ち相転移性有機化合物分子(A)
に対する機能性分子(B)の比は工/10−10/lが
望ましい。
Mixing ratio of the mixed film, i.e. phase transition organic compound molecules (A)
The ratio of the functional molecule (B) to the functional molecule (B) is preferably 1/10-10/l.

次に1本発明の像形成装置の例を図面に従って説明する
Next, an example of an image forming apparatus according to the present invention will be explained with reference to the drawings.

第2図(A)、(B)は1本発明の像形成装置の部分的
該略図である。10は像形成素子で、既述の像形成層3
及び輻射線吸収層2等からなる。
FIGS. 2A and 2B are partial schematic diagrams of an image forming apparatus according to the present invention. 10 is an image forming element, which includes the previously described image forming layer 3;
and a radiation absorbing layer 2.

11は熱信号入力手段で、像形成素子lO(とりわけ輻
射線吸収層2)上の所定位置に熱入力信号12(例えば
、赤外線等)を付与するための手段である。
A thermal signal input means 11 is a means for applying a thermal input signal 12 (for example, infrared rays, etc.) to a predetermined position on the image forming element IO (especially the radiation absorption layer 2).

熱信号入力手段11は、主として光源(例えば赤外線S
>及び光変調器(いずれも不図示)等からなるが、この
場合の光源から発せられる光線は、輻射線吸収層2によ
って吸収され熱に変換しうるが、機能性分子を光化学変
化せしめることができない波長域のもの、従って主とし
て赤外線、近赤外線に属するものである。尚、光源自身
がスイッチング機能を有する場合は、光変調器は不要で
ある。(例えば、半導体装置ザ等)。
The heat signal input means 11 mainly uses a light source (for example, infrared S
> and a light modulator (both not shown), etc. In this case, the light emitted from the light source can be absorbed by the radiation absorption layer 2 and converted into heat, but it cannot photochemically change the functional molecules. Therefore, they mainly belong to infrared and near-infrared wavelengths. Note that if the light source itself has a switching function, an optical modulator is not necessary. (For example, semiconductor devices, etc.).

13は、光照射手段であって、像形成素子10、とりわ
け像形成層3上の所定位置に光化学反応を生じさせる光
14を照射し、光バイアスを付与する手段である。既述
したように、光バイアス付加領域に熱入力信号12が照
射付与されると対応像が得られる。
Reference numeral 13 denotes a light irradiation means, which irradiates light 14 that causes a photochemical reaction to a predetermined position on the image forming element 10, especially the image forming layer 3, and applies a light bias. As mentioned above, when the optically biased region is irradiated with the thermal input signal 12, a corresponding image is obtained.

第2rI!J(B)は、本発明の像形成装置の別の実施
態様を示す。
2nd rI! J(B) shows another embodiment of the image forming apparatus of the present invention.

これは発熱要素2として輻射線吸収層に代え1発熱抵抗
層を用いた場合で、熱信号入力手段15として、発熱抵
抗M2の所定位置をジュール加熱するための駆動系及び
電源等からなるものを用いる。尚、この場合、発熱要素
は像形成素子10上の所定位置に熱信号を付与するため
、セグメント状、ドツト状(いずれも不図示)のものが
用いられる。
This is a case where a heat generating resistor layer 1 is used as the heat generating element 2 instead of the radiation absorbing layer, and the heat signal input means 15 is composed of a drive system, a power supply, etc. for heating a predetermined position of the heat generating resistor M2 by Joule. use In this case, in order to apply a heat signal to a predetermined position on the image forming element 10, a segment-shaped or dot-shaped heating element (both not shown) is used as the heating element.

第1図は、本発明の像形成装置のブロック図である。2
2は像発生回路、23は制御回路、□ ′”・     24は像増幅回路である。
FIG. 1 is a block diagram of an image forming apparatus according to the present invention. 2
2 is an image generation circuit, 23 is a control circuit, and 24 is an image amplification circuit.

30は熱信号走査手段で、輻射線加熱の場合、例えば水
平ψ垂直駆動回路25及び水平−垂直スキャナー28か
ら構成される。
Reference numeral 30 denotes thermal signal scanning means, which in the case of radiation heating is comprised of, for example, a horizontal ψ/vertical drive circuit 25 and a horizontal-vertical scanner 28 .

ドツトマトリックス状の抵抗発熱体を用いたジュール加
熱の場合には、線順次走査回路及び選択回路(いずれも
不図示)から構成される。
In the case of Joule heating using a dot matrix resistive heating element, it is comprised of a line sequential scanning circuit and a selection circuit (both not shown).

31は熱信号入力手段で、前者の場合、光源26及び光
変調器27から、また後者の場合、電源及び駆動回路(
いずれも不図示)から構成される。
31 is a thermal signal input means, in the former case from the light source 26 and the optical modulator 27, and in the latter case from the power supply and drive circuit (
(both not shown).

29は光化学反応用の光照射手段である。29 is a light irradiation means for photochemical reaction.

作像は、以下の手順で行われる。Image creation is performed in the following steps.

像発生回路22より出力された像信号は、制御回路23
を介して像増幅回路24で増幅される。
The image signal output from the image generation circuit 22 is sent to the control circuit 23.
The image is amplified by the image amplifying circuit 24 via the image amplifying circuit 24.

増−された像信号の入力により、例えば光変調器27が
駆動し、光源26より射出される輻射線加熱用光ビーム
を変調する。
For example, the optical modulator 27 is driven by the input of the increased image signal, and modulates the radiation heating light beam emitted from the light source 26.

一方、制御回路23より水平同期信号及び垂直同期信号
が出力され1例えば水平−垂直駆動回路25を介して、
水平・垂直スキャナー28を駆動する。
On the other hand, a horizontal synchronization signal and a vertical synchronization signal are outputted from the control circuit 23, for example, via the horizontal-vertical drive circuit 25.
Drive the horizontal/vertical scanner 28.

この間、加熱手段29の作動により、像形成素子lOの
像形成層3の所定領域には光バイアスがかけられる。
During this time, an optical bias is applied to a predetermined region of the image forming layer 3 of the image forming element 10 by the operation of the heating means 29.

このようにして、像形成素子10の像形成層3には像信
号に対応した2次元像が形成される。
In this way, a two-dimensional image corresponding to the image signal is formed on the image forming layer 3 of the image forming element 10.

本発明を更に詳細に説明するために、以下に実施例を挙
げる。
Examples are given below to explain the present invention in more detail.

像形成素子の製造例1 (m)で表わされるスピロピラン1部と(rV)で表わ
されるミリスチン酸1部とをクロロホルム20wB由に
溶解混合し、50mm角のガラスe  Me ■ (m) CH3(CH2) 12COOH (■) 基板表面上に回転塗布機により塗布し、膜厚5pmの無
色の像形成層2を得た。更に像形成層2成層2上に保護
用基板3としてガラス基板をのせて像形成素へ製造した
Manufacturing Example 1 of Image Forming Element 1 part of spiropyran represented by (m) and 1 part of myristic acid represented by (rV) were dissolved and mixed in 20 wB of chloroform to form a 50 mm square glass e Me ■ (m) CH3 (CH2 ) 12COOH (■) It was coated onto the surface of the substrate using a spin coater to obtain a colorless image forming layer 2 with a film thickness of 5 pm. Furthermore, a glass substrate was placed as a protective substrate 3 on the image forming layer 2 to produce an image forming element.

像形成素子の製造例2 50mm角のガラス基板表面上にスパッタリング法によ
り膜厚1500人のGd−TbφFe層を付着して、赤
外線吸収層2を形成した。
Manufacturing Example 2 of Image Forming Element A Gd-TbφFe layer having a thickness of 1500 was deposited on the surface of a 50 mm square glass substrate by sputtering to form an infrared absorbing layer 2.

このG d a T−b * F eの酸化を防止する
ため。
In order to prevent this oxidation of G da T-b * Fe.

このGd・Tb5Feの酸化を防止するため、その上に
5io2保護膜を被覆した。
In order to prevent this Gd·Tb5Fe from oxidizing, a 5io2 protective film was coated thereon.

次に(m)で表わされるシス−トランス光異性化化合物
1部とCr)で表わされるジアゾ化合物1部 (m) (IV) をクロロホルムに2.5X 10−3mo l/ lの
濃度に溶かした溶液を、用いた以外は実施例1と同様の
方法・条件により各々単分子膜に暦数が51の像形成素
子Bを製造した。
Next, 1 part of the cis-trans photoisomerizable compound represented by (m) and 1 part of the diazo compound represented by Cr) (m) (IV) were dissolved in chloroform to a concentration of 2.5X 10-3 mol/l. Image forming elements B each having a monomolecular film having a calendar number of 51 were manufactured by the same method and conditions as in Example 1 except that the solution was used.

実施例 光照射手段としてioowの水銀ランプを熱信号入力手
段として200Wの赤外線ランプを、像形成素子として
A、B;eを用いて第1図に示す像形成装置をそれぞれ
製造した。
EXAMPLE The image forming apparatus shown in FIG. 1 was manufactured using an IOOW mercury lamp as a light irradiation means, a 200 W infrared lamp as a thermal signal input means, and A, B; e as image forming elements.

次に、光照射し、画像情報に応じた信号が走査付与され
ると、それぞれ信号に応じた。
Next, when light was irradiated and signals corresponding to image information were scanned and applied, the respective signals responded.

2次元の青色像、赤色像が鮮明に得られた。Clear two-dimensional blue and red images were obtained.

〔効果〕〔effect〕

本発明の主要な効果をまとめると以下の通りである。 The main effects of the present invention are summarized as follows.

(1)微小な単分子膜又は単分子層累積膜の照射部又は
加熱部の1個を像素単位として高密度に配列することが
可能であるから。
(1) It is possible to arrange one of the irradiation parts or heating parts of a minute monomolecular film or a monomolecular layer cumulative film in a high density arrangement as an image element unit.

高解像度の像形成ができる。Capable of forming high-resolution images.

(2)機能性分子の調整又は選択により静止画、又はス
ローモーションを含む動画の表示が容易にできる。
(2) Still images or moving images including slow motion can be easily displayed by adjusting or selecting functional molecules.

(3)機能性分子の調整、選択によりカラー 7表示を
容易に実施することができる。
(3) Color 7 display can be easily implemented by adjusting and selecting functional molecules.

(4)素子の構造が比較的簡略であるから、その生産性
に優れているし、素子の耐久性が高く信頼性に優れてい
る。
(4) Since the structure of the element is relatively simple, its productivity is excellent, and the element has high durability and reliability.

(5)広範囲な駆動方式に適応できる。(5) Applicable to a wide range of drive systems.

(6)ラングミュア・プロジェット法を用いて単分子膜
又は単分子層累積膜を作成できるので、大面積化が極め
て容易に図れる。
(6) Since a monomolecular film or a monomolecular layer accumulation film can be created using the Langmuir-Prodgett method, it is extremely easy to increase the area.

(7)液晶のような液体を用いないので、製作が容易で
あり、かつ安全である。
(7) Since no liquid such as liquid crystal is used, manufacturing is easy and safe.

(8)相転移温度はそれ程高くないので、像形成素子等
に用いる電力が少なくて済み、それだけ電源部、即ち、
像形成装置を小型化できる。
(8) Since the phase transition temperature is not so high, less power is required for the image forming element, etc., and the power supply section, i.e.,
The image forming device can be downsized.

(9)迅速に2次元像形成を得ることができる。(9) Two-dimensional image formation can be quickly obtained.

(10)像消去・再生も可能である。(10) Image erasure/reproduction is also possible.

(11)生体脂質の機能に近似するので、分子デバイス
、バイオエレクトロニクス等との適合性がある。
(11) Since it approximates the function of biological lipids, it is compatible with molecular devices, bioelectronics, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の像形成装置を示すブロック図、第2
図(A)、CB)は本発明の像形成層 装置の部分的該略図、第3図(A)、(B)は本発明の
像形成装置に用いる像形成素子の断面図である。 1    基板 2    発熱要素 3    像形成層 4    保護板 5    光化学変化部 6光 7.8  照明光 9    反射層 10     像形成素子 11.15  熱信号入力手段 12    熱入力信号 13    光照射手段 14    光線 22    像発生回路 23    制御回路 24    像増幅回路 25    水平・垂直駆動回路 26    光源 27    光変調器 28    水平争垂直スキャナー 29    光照射手段 30    熱信号走査手段 31    熱信号入力手段 第20(A> 第2圀B) lり 第3 U≧]とA) ;ド;3L)ゴとlゴラ
FIG. 1 is a block diagram showing an image forming apparatus of the present invention, and FIG.
Figures (A) and CB) are partial schematic diagrams of the image forming layer device of the present invention, and Figures 3 (A) and (B) are sectional views of the image forming element used in the image forming apparatus of the present invention. 1 Substrate 2 Heat generating element 3 Image forming layer 4 Protective plate 5 Photochemical change section 6 Light 7.8 Illumination light 9 Reflective layer 10 Image forming element 11.15 Thermal signal input means 12 Thermal input signal 13 Light irradiation means 14 Light beam 22 Image generation Circuit 23 Control circuit 24 Image amplification circuit 25 Horizontal/vertical drive circuit 26 Light source 27 Light modulator 28 Horizontal/vertical scanner 29 Light irradiation means 30 Thermal signal scanning means 31 Thermal signal input means 20th (A > 2nd area B) l 3rd U≧] and A) ;d;3L) go and l gora

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 基本的に相転移性有機化合物分子と機能性分子からなる
像形成素子、該素子に光を照射する光照射手段、情報に
応じた信号を入力する熱信号入力手段、該信号を走査す
る熱信号走査手段とを備えたことを特徴とする像形成装
置。
An image forming element that basically consists of phase-transition organic compound molecules and functional molecules, a light irradiation means that irradiates the element with light, a thermal signal input means that inputs a signal according to information, and a thermal signal that scans the signal. An image forming apparatus comprising a scanning means.
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