JPS6125659A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPS6125659A JPS6125659A JP14487784A JP14487784A JPS6125659A JP S6125659 A JPS6125659 A JP S6125659A JP 14487784 A JP14487784 A JP 14487784A JP 14487784 A JP14487784 A JP 14487784A JP S6125659 A JPS6125659 A JP S6125659A
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は浸漬塗布装置、特に、中空の被塗布物体の外表
面を、その中空内に塗布液を浸入させることな(、均一
に塗布し得る塗布装置に関する。
面を、その中空内に塗布液を浸入させることな(、均一
に塗布し得る塗布装置に関する。
(従来技術)
円筒状ドラムなどの中空の被塗布物体を塗布液に浸漬し
その外周面を塗布する浸漬塗布法においては、ドラム内
部に塗布液が浸入するのを防止する必要がある。その方
法には1第7図に示すように、ドラム200の底部に蓋
201を設けることが行われている。ところが、ドラム
200を連続して塗布するには、蓋201の着脱に手間
を要する。しかも、工程終了ごとに蓋201の洗浄が必
要がある。
その外周面を塗布する浸漬塗布法においては、ドラム内
部に塗布液が浸入するのを防止する必要がある。その方
法には1第7図に示すように、ドラム200の底部に蓋
201を設けることが行われている。ところが、ドラム
200を連続して塗布するには、蓋201の着脱に手間
を要する。しかも、工程終了ごとに蓋201の洗浄が必
要がある。
それゆえ、塗布作業は極めて非能率的である。
(発明の目的)
本発明の目的は、中空の被塗布物体の内部に塗布液を浸
入させることなく、その外表面を均一に塗布し得る塗布
装置を提供することにある。本発明の他の目的は、操作
が容易でしがち安価に塗布層を形成し得る塗布装置を提
供することにある。
入させることなく、その外表面を均一に塗布し得る塗布
装置を提供することにある。本発明の他の目的は、操作
が容易でしがち安価に塗布層を形成し得る塗布装置を提
供することにある。
(発明の構成)
本発明の塗布装置は、塗布液収容槽内の塗布液に中空洞
を有する被塗布物体を浸漬して該被塗布物体に該塗布液
を塗布する装置であって、該被塗布物体は該被塗布物体
に係合し該被塗布物体中空洞に対して液密状(液体の浸
入の゛ない状態)を保持するフロートと、該フロートを
支持する支持棒とを有し、そのことにより上記目的が達
成される。
を有する被塗布物体を浸漬して該被塗布物体に該塗布液
を塗布する装置であって、該被塗布物体は該被塗布物体
に係合し該被塗布物体中空洞に対して液密状(液体の浸
入の゛ない状態)を保持するフロートと、該フロートを
支持する支持棒とを有し、そのことにより上記目的が達
成される。
また2本発明の塗布装置は、さらに、上記フロートの浮
上を補助する浮上補助手段を有し、そのことにより上記
目的が達成される。
上を補助する浮上補助手段を有し、そのことにより上記
目的が達成される。
(実施例)
以下に本発明を実施例について述べる。
本発明塗布装置は、第1図および第2図に示すように、
塗布液収容槽lと被塗布物体2を保持するフロート3と
を有する。この収容槽1は塗布液IIを収容する。その
中央部にはフロート3を支持する支持棒4が鉛直に配置
されている。
塗布液収容槽lと被塗布物体2を保持するフロート3と
を有する。この収容槽1は塗布液IIを収容する。その
中央部にはフロート3を支持する支持棒4が鉛直に配置
されている。
フロート3は1例えば、フッ素系ゴムパツキンでなる係
合部31を介して、筒状ドラムなどの中空洞20を有す
る被塗布物体2を支持する。このフロート保合部31は
被塗布物体中空洞20に対して液密状を保持する。この
フロート3の中央部には貫通穴32が設けられ、この貫
通穴32を介して上記支持棒4上を摺動しうる。貫通穴
32の近傍には1例えば、フッ素系樹脂パツキンが設け
られ、フロート3と支持棒4とを液密状に保持している
。フッ素系樹脂パツキンとしては5塗布液11に不溶で
、シール性摺動性および耐摩耗性に優れたものが適宜選
択されうる。
合部31を介して、筒状ドラムなどの中空洞20を有す
る被塗布物体2を支持する。このフロート保合部31は
被塗布物体中空洞20に対して液密状を保持する。この
フロート3の中央部には貫通穴32が設けられ、この貫
通穴32を介して上記支持棒4上を摺動しうる。貫通穴
32の近傍には1例えば、フッ素系樹脂パツキンが設け
られ、フロート3と支持棒4とを液密状に保持している
。フッ素系樹脂パツキンとしては5塗布液11に不溶で
、シール性摺動性および耐摩耗性に優れたものが適宜選
択されうる。
フロート3は5その形状・容積・重量にも特に制限はな
く、その自重により上記被塗布物体中空洞20を液密状
にシールし、かつ該被塗布物体2を浮上させうるにたる
ものであればよい。その材質は塗布液11に不溶である
ことはいうまでもない。
く、その自重により上記被塗布物体中空洞20を液密状
にシールし、かつ該被塗布物体2を浮上させうるにたる
ものであればよい。その材質は塗布液11に不溶である
ことはいうまでもない。
フロート3の浮力を増強させる目的で5必要に応じて2
スプリングや油圧または空圧シリンダーなどの浮力補助
手段5を設けることができる。この浮上補助手段5は1
例えばスプリングのときには、支持棒4を介して一端が
フロート3にそして他端が収容槽1の内壁に取りつけら
れる。この浮上補助手段5は塗布液11により腐食され
ないことが必要である。
スプリングや油圧または空圧シリンダーなどの浮力補助
手段5を設けることができる。この浮上補助手段5は1
例えばスプリングのときには、支持棒4を介して一端が
フロート3にそして他端が収容槽1の内壁に取りつけら
れる。この浮上補助手段5は塗布液11により腐食され
ないことが必要である。
収容槽1は5その形状に特に制限はない。その容積は、
被塗布物体2の出し入れによる塗布液面の動きを少なく
するために、被塗布物体2外容積に対し大きいことが好
ましい。(の材質は塗布液11に不溶であればよ(1通
常、アルミニウムやステンレス鋼あるいは合成樹脂など
が用いられる。
被塗布物体2の出し入れによる塗布液面の動きを少なく
するために、被塗布物体2外容積に対し大きいことが好
ましい。(の材質は塗布液11に不溶であればよ(1通
常、アルミニウムやステンレス鋼あるいは合成樹脂など
が用いられる。
この収容槽1には、必要に応じて、塗布液補給手段が設
けられる。
けられる。
被塗布物体2の断面形状、断面寸法、長さ、および材質
などには特に制限はない。例えば、電子写真用感光体に
用いられるドラムの場合1円筒形状のアルミニウムなど
が採用される。
などには特に制限はない。例えば、電子写真用感光体に
用いられるドラムの場合1円筒形状のアルミニウムなど
が採用される。
被塗布物体2には上記装置を用いて次のようにして浸漬
塗布が施される。まず、被塗布物体2は。
塗布が施される。まず、被塗布物体2は。
フロート3に保合部31を介して液密状に支持される。
このとき、被塗布物体2はフロート3の浮力と被塗布物
体2の自重とでフロート保合部31に液密状に保持され
る。したがって、中空の被塗布物体2内部への塗布液1
1の浸入は阻止される。そして、被塗布物体2はフロー
ト3の浮力に抗して収容シ1内に滑らかに押し下げられ
、収容槽1内の塗布液11に浸漬される。次いで、圧力
を徐々に開放すれば、被塗布物体2はフロート3の浮力
により塗布液11内を上昇し液面上のもとの位置に復帰
する。塗布層の形成された被塗布物体2はフロート3か
ら取りはずされる。このようにして得られる被塗布物体
2の塗布層は均一である。ロット間のばらつきも少ない
、フロート3の浮力を増強する浮力補助手段5を作動さ
せると塗布操作がより円滑かつ迅速になされうる。フロ
ート3自体の浮力も小さくてすむ。
体2の自重とでフロート保合部31に液密状に保持され
る。したがって、中空の被塗布物体2内部への塗布液1
1の浸入は阻止される。そして、被塗布物体2はフロー
ト3の浮力に抗して収容シ1内に滑らかに押し下げられ
、収容槽1内の塗布液11に浸漬される。次いで、圧力
を徐々に開放すれば、被塗布物体2はフロート3の浮力
により塗布液11内を上昇し液面上のもとの位置に復帰
する。塗布層の形成された被塗布物体2はフロート3か
ら取りはずされる。このようにして得られる被塗布物体
2の塗布層は均一である。ロット間のばらつきも少ない
、フロート3の浮力を増強する浮力補助手段5を作動さ
せると塗布操作がより円滑かつ迅速になされうる。フロ
ート3自体の浮力も小さくてすむ。
上記塗布装置の他の実施例を第3図および第4図に示す
。ここでは、フロート3は支持棒4に固定され、かつ支
持棒4は収容槽1底部に設けられた貫通穴12を摺動し
うる。貫通穴12近傍には、支持棒4と収容槽1との間
を液密状に保持する目的で、フッ素系樹脂パツキンが設
けられている。
。ここでは、フロート3は支持棒4に固定され、かつ支
持棒4は収容槽1底部に設けられた貫通穴12を摺動し
うる。貫通穴12近傍には、支持棒4と収容槽1との間
を液密状に保持する目的で、フッ素系樹脂パツキンが設
けられている。
この塗布装置は、また上記フロート3の浮上を補助する
ために5第5図および第6図に示すように、浮上補助手
段5を備えうる。この場合の浮上補助手段5は支持棒4
の上昇駆動を補うものであればよく、それには、同じく
、スプリングや油圧または空圧シリンダーなどがある。
ために5第5図および第6図に示すように、浮上補助手
段5を備えうる。この場合の浮上補助手段5は支持棒4
の上昇駆動を補うものであればよく、それには、同じく
、スプリングや油圧または空圧シリンダーなどがある。
これら浮上補助手段5は、一端が支持棒4にそして他端
が収容槽l外の適当な箇所に連結される。
が収容槽l外の適当な箇所に連結される。
この装置を用いた場合の浸漬塗布操作は、フロート3が
支持棒4上を摺動する代わりに支持棒4が収容槽貫通穴
12を摺動する点で前記第1図および第2図の装置の場
合と異なるにすぎない。
支持棒4上を摺動する代わりに支持棒4が収容槽貫通穴
12を摺動する点で前記第1図および第2図の装置の場
合と異なるにすぎない。
本発明塗布装置は、電子写真用の感光体ドラムの製造の
ような極めて精緻でかつ高精度が要求される分野に好適
に用いられるが、他の分野への応用ももちろん可能であ
る。
ような極めて精緻でかつ高精度が要求される分野に好適
に用いられるが、他の分野への応用ももちろん可能であ
る。
(発明の効果)
本発明によれば、このように、被塗布物体をフロートを
用いて液密状に係合することにより、被塗布物体内部へ
の塗布液の浸入が確実に防止される。フロートの浮上を
補助する浮上補助手段を用いることにより塗布作業はよ
り円滑かつ迅速に行われうる。本発明の塗布装置は簡単
な構成でなりかつ操作も格別ではないため、安価に塗布
が行われ得る。連続操作も可能である。
用いて液密状に係合することにより、被塗布物体内部へ
の塗布液の浸入が確実に防止される。フロートの浮上を
補助する浮上補助手段を用いることにより塗布作業はよ
り円滑かつ迅速に行われうる。本発明の塗布装置は簡単
な構成でなりかつ操作も格別ではないため、安価に塗布
が行われ得る。連続操作も可能である。
第1図および第2図はそれぞれ本発明装置の一実施例を
示す要部正面断面図、第3図および第4図はそれぞれ本
発明装置の他の実施例を示す要部正面断面図、第5図お
よび第6図はそれぞれ本発明装置のさらに他の実施例を
示す要部正面断面図。 第7図は従来技術の一例を示す要部正面断面図である。 1、100・・・塗布液収容槽、 2.200・・・被
塗布物体。 3・・・フロート、4・・・支持棒、5・・・浮上補助
手段。 11、110・・・塗布液、12・・・収容槽貫通穴、
20・・・被塗布物体中空洞、31・・・フロート保合
部、32・・・フロート貫通穴、201・・・蓋。 以上
示す要部正面断面図、第3図および第4図はそれぞれ本
発明装置の他の実施例を示す要部正面断面図、第5図お
よび第6図はそれぞれ本発明装置のさらに他の実施例を
示す要部正面断面図。 第7図は従来技術の一例を示す要部正面断面図である。 1、100・・・塗布液収容槽、 2.200・・・被
塗布物体。 3・・・フロート、4・・・支持棒、5・・・浮上補助
手段。 11、110・・・塗布液、12・・・収容槽貫通穴、
20・・・被塗布物体中空洞、31・・・フロート保合
部、32・・・フロート貫通穴、201・・・蓋。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、塗布液収容槽内の塗布液に中空洞を有する被塗布物
体を浸漬して該被塗布物体に該塗布液を塗布する装置に
おいて、 該被塗布物体は該被塗布物体に係合し該被塗布物体中空
洞に対して液密状を保持するフロートと、該フロートを
支持する支持棒とを有する塗布装置。 2、前記フロートが前記被塗布物体との係合部をフッ素
系ゴムで構成された特許請求の範囲第1項に記載の塗布
装置。 3、前記フロートがその中央部に設けられた貫通穴を介
して液密状を保持しつつ前記支持棒上を摺動する特許請
求の範囲第1項もしくは第2項に記載の塗布装置。 4、前記フロートが前記支持棒との摺動部をフッ素系樹
脂で構成された特許請求の範囲第3項に記載の塗布装置
。 5、前記支持棒が液密状を保持しつつ前記収容槽底部に
設けられた貫通穴を摺動する特許請求の範囲第1項もし
くは第2項に記載の塗布装置。 6、前記収容槽の底部貫通穴の前記支持棒との摺動部を
フッ素系樹脂で構成された特許請求の範囲第5項に記載
の塗布装置。 7、塗布液収容槽内の塗布液に中空洞を有する被塗布物
体を浸漬して該被塗布物体に該塗布液を塗布する装置に
おいて、 該被塗布物体は該被塗布物体に係合し該被塗布物体中空
洞に対して液密状を保持するフロートと、該フロートを
支持する支持棒と、該フロートの浮上を補助する浮上補
助手段とを有する塗布装置。 8、前記フロートが前記被塗布物体との係合部をフッ素
系ゴムで構成された特許請求の範囲第7項に記載の塗布
装置。 9、前記フロートがその中央部に設けられた貫通穴を介
して液密状を保持しつつ前記支持棒上を摺動する特許請
求の範囲第7項もしくは第8項に記載の塗布装置。 10、前記フロートが前記支持棒との摺動部をフッ素系
樹脂で構成された特許請求の範囲第9項に記載の塗布装
置。 11、前記浮上補助手段が前記収容槽内においてフロー
トを浮上させるスプリングもしくは油圧あるいは空圧シ
リンダーである特許請求の範囲第9項に記載の塗布装置
。 12、前記支持棒が液密状を保持しつつ前記収容槽底部
に設けた貫通穴を摺動する特許請求の範囲第7項もしく
は第8項に記載の塗布装置。 13、前記収容槽の底部貫通穴の前記支持棒との摺動部
をフッ素系樹脂で構成された特許請求の範囲第12項に
記載の塗布装置。 14、前記浮上補助手段が前記収容槽外において前記支
持棒を駆動させるスプリングもしくは油圧あるいは空圧
シリンダーである特許請求の範囲第12項に記載の塗布
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14487784A JPS6125659A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14487784A JPS6125659A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6125659A true JPS6125659A (ja) | 1986-02-04 |
Family
ID=15372457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14487784A Pending JPS6125659A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6125659A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02172511A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-04 | Ngk Insulators Ltd | 管状セラミックスフィルタおよびその端部封止方法ならびにその端部封止装置 |
| JP2008181403A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Denso Wave Inc | 光学情報読取装置 |
| JP2023511374A (ja) * | 2020-01-22 | 2023-03-17 | ビーエーエスエフ コーポレーション | 放射状にゾーニングされた触媒コーティングのためのデバイスおよび方法 |
-
1984
- 1984-07-12 JP JP14487784A patent/JPS6125659A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02172511A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-04 | Ngk Insulators Ltd | 管状セラミックスフィルタおよびその端部封止方法ならびにその端部封止装置 |
| JP2008181403A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Denso Wave Inc | 光学情報読取装置 |
| JP2023511374A (ja) * | 2020-01-22 | 2023-03-17 | ビーエーエスエフ コーポレーション | 放射状にゾーニングされた触媒コーティングのためのデバイスおよび方法 |
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