JPS6125975Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6125975Y2 JPS6125975Y2 JP1981084541U JP8454181U JPS6125975Y2 JP S6125975 Y2 JPS6125975 Y2 JP S6125975Y2 JP 1981084541 U JP1981084541 U JP 1981084541U JP 8454181 U JP8454181 U JP 8454181U JP S6125975 Y2 JPS6125975 Y2 JP S6125975Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- main shaft
- hole
- grinding water
- stone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は石材の表面に艶出し仕上げ(バフ仕上
げ)を行うための研磨装置に関するもので、よい
仕上面(艶)が得られるようにすることを目的と
している。研削水流路を簡単に形成できるように
すること、防振ゴムの耐久性を高めることも目的
の一部である。
げ)を行うための研磨装置に関するもので、よい
仕上面(艶)が得られるようにすることを目的と
している。研削水流路を簡単に形成できるように
すること、防振ゴムの耐久性を高めることも目的
の一部である。
石材のバフ仕上げにおいては、石材加工面を均
一に濡らした上に加工を行うとよい仕上面(艶)
が得られる。しかし一般に石材用研磨機は、研磨
機の本体から下向きに突出した回転主軸を中空に
して、そこから加工接触面(石材表面と研磨盤下
面)の中央部に研削水を供給するようになつてい
る。そして例えば第1〜第6工程までの研削段階
では研削水を加工接触面の中央部から供給するこ
とが研削効率を高める意味において有効である
が、その後のバフ仕上げの段階において加工接触
面の中央部より研削水を供給すると、石材表面に
水膜ができすぎ、艶出し効果に重要な影響を与え
る石材の発熱を停止させてしまう。即ち加工雰囲
気が壊され、よい仕上げ面が得られない。この対
策としてバフ仕上げ工程において水を止めてしま
うと石材の発熱が増加し過ぎるため、水が多過ぎ
る場合と同様の不具合が生ずる。従つて従来の装
置においては、バフ仕上げ工程に移る都度コツク
を操作して水を止め、手で外から水をまく操作が
必要であり、塾練を要するばかりでなく、作業に
手間がかかる問題があつた。
一に濡らした上に加工を行うとよい仕上面(艶)
が得られる。しかし一般に石材用研磨機は、研磨
機の本体から下向きに突出した回転主軸を中空に
して、そこから加工接触面(石材表面と研磨盤下
面)の中央部に研削水を供給するようになつてい
る。そして例えば第1〜第6工程までの研削段階
では研削水を加工接触面の中央部から供給するこ
とが研削効率を高める意味において有効である
が、その後のバフ仕上げの段階において加工接触
面の中央部より研削水を供給すると、石材表面に
水膜ができすぎ、艶出し効果に重要な影響を与え
る石材の発熱を停止させてしまう。即ち加工雰囲
気が壊され、よい仕上げ面が得られない。この対
策としてバフ仕上げ工程において水を止めてしま
うと石材の発熱が増加し過ぎるため、水が多過ぎ
る場合と同様の不具合が生ずる。従つて従来の装
置においては、バフ仕上げ工程に移る都度コツク
を操作して水を止め、手で外から水をまく操作が
必要であり、塾練を要するばかりでなく、作業に
手間がかかる問題があつた。
本考案はバフ研磨盤の台(基盤)上に主軸内の
孔と連通する複数個の放射状の研削水流路を設
け、この流路を通して研削水が研磨盤を囲む石材
表面に撒かれるようにしたもので、その結果、バ
フ仕上げ中でも、加工接触面の状態を損うことな
く、石材面に研削水を供給でき、良い仕上面が得
られる。次に図面により説明する。
孔と連通する複数個の放射状の研削水流路を設
け、この流路を通して研削水が研磨盤を囲む石材
表面に撒かれるようにしたもので、その結果、バ
フ仕上げ中でも、加工接触面の状態を損うことな
く、石材面に研削水を供給でき、良い仕上面が得
られる。次に図面により説明する。
縦断面を示す第1図において、環状のバフ研磨
盤1はプラスチツクの基盤2と、その下面に固着
したバフ(艶出し研磨部材)3でできており、基
盤2の上面には中央の円形凹部4を囲むように、
周囲に4等分された弓形の凸部5が設けてあり、
4箇所の凸部5にはそれぞれ1個のナツト6が鋳
込まれている。隣接した凸部5,5の間には第2
図のように凹部4の外周4箇所から放射状に延び
る溝7が設けてあり、溝7の上端開口面は後述す
る防振ゴム9により覆われて、防振ゴム9と基盤
2の間に研削水流路10が形成されている。
盤1はプラスチツクの基盤2と、その下面に固着
したバフ(艶出し研磨部材)3でできており、基
盤2の上面には中央の円形凹部4を囲むように、
周囲に4等分された弓形の凸部5が設けてあり、
4箇所の凸部5にはそれぞれ1個のナツト6が鋳
込まれている。隣接した凸部5,5の間には第2
図のように凹部4の外周4箇所から放射状に延び
る溝7が設けてあり、溝7の上端開口面は後述す
る防振ゴム9により覆われて、防振ゴム9と基盤
2の間に研削水流路10が形成されている。
防振ゴム9は円盤状部材で、中央に環状のアル
ミニウム製ボス9aが鋳込まれており、ボス9a
は同一円周上4箇所に筒状継手11を取り付ける
ためのボルト12の螺合するねじ穴13を有す
る。又ボス9aより半径方向外方のゴム9の同一
円周上4箇所にはカラー14が鋳込まれており、
このカラー14を通してボルト15がナツト6に
螺合し、凹部4と防振ゴム9からなる円盤状の研
削水通路16は外周部が4箇所において前記研削
水流路10のみに連通し、通路16の中央部は防
振ゴム9の中央の孔17に連通している。
ミニウム製ボス9aが鋳込まれており、ボス9a
は同一円周上4箇所に筒状継手11を取り付ける
ためのボルト12の螺合するねじ穴13を有す
る。又ボス9aより半径方向外方のゴム9の同一
円周上4箇所にはカラー14が鋳込まれており、
このカラー14を通してボルト15がナツト6に
螺合し、凹部4と防振ゴム9からなる円盤状の研
削水通路16は外周部が4箇所において前記研削
水流路10のみに連通し、通路16の中央部は防
振ゴム9の中央の孔17に連通している。
継手11は下端のフランジ18に設けた孔19
を通してボルト12をねじ穴13に螺合すること
により防振ゴム9と一体化しており、中央の孔2
0は下端が孔17に、又上端は中空の回転主軸2
1内の孔22及びコツク、ホース等を介して水道
の蛇口(共に図示せず)に連通している。回転主
軸21は図示されていない研磨機の出力軸で、研
磨機本体より下向きに突出しており、継手11の
L形溝23に係合するピン24を有する。ピン2
4は主軸21の外筒面の同一高さ部分から同一直
径上で外方に延びており、一方、継手11にはピ
ン24と対向する位置に2個のL形溝23が設け
てあり、従つて継手11を回転主軸21に接続す
るには、継手11を持ち上げて主軸21の下端部
に嵌め、主軸21上のピン24に溝23の垂直部
を嵌め、ピン24が溝23の底部に達するまで継
手11を持ち上げた後継手11を主軸21の回転
方向と逆方向に回すことにより主軸21に対し継
手11の抜け止めを施すことができる。研磨盤1
と防振ゴム9と継手11は通常第1図のように結
合したユニツトとして取り扱われる。
を通してボルト12をねじ穴13に螺合すること
により防振ゴム9と一体化しており、中央の孔2
0は下端が孔17に、又上端は中空の回転主軸2
1内の孔22及びコツク、ホース等を介して水道
の蛇口(共に図示せず)に連通している。回転主
軸21は図示されていない研磨機の出力軸で、研
磨機本体より下向きに突出しており、継手11の
L形溝23に係合するピン24を有する。ピン2
4は主軸21の外筒面の同一高さ部分から同一直
径上で外方に延びており、一方、継手11にはピ
ン24と対向する位置に2個のL形溝23が設け
てあり、従つて継手11を回転主軸21に接続す
るには、継手11を持ち上げて主軸21の下端部
に嵌め、主軸21上のピン24に溝23の垂直部
を嵌め、ピン24が溝23の底部に達するまで継
手11を持ち上げた後継手11を主軸21の回転
方向と逆方向に回すことにより主軸21に対し継
手11の抜け止めを施すことができる。研磨盤1
と防振ゴム9と継手11は通常第1図のように結
合したユニツトとして取り扱われる。
バフ仕上げを行う場合は第1図に示すユニツト
を主軸21に取り付け、主軸21を300〜800rpm
の内の所定回転数で回転させ、同時にコツクを所
定量開き、主軸21内の孔22を通して100c.c./
分程度の水を下方へ放出させ、バフ3の下面を石
材表面25に当て、研磨機を手動操作して石材表
面25上におけるバフ3の位置を変えながら研磨
作業をすすめる。研削水は回転中の孔22の内面
に遠心力で押し付けられた状態で継手11内の孔
20へ流出し、孔20内においても遠心力により
孔20の内周面に沿い環状の水膜を形成しながら
下降し、防振ゴム9の中央の孔17の内周面をへ
て矢印Aで示すように研削水通路16に入り、そ
の外周部から4個の流路10をへて矢印Bで示す
如く放射状外方へ飛散し、バフ3から離れた石材
表面25上に撒かれる。即ち基盤2とバフ3の中
央には孔が形成されているが、遠心力により、研
削水は加工接触面の中央部には供給されない(矢
印C方向には流れない)。
を主軸21に取り付け、主軸21を300〜800rpm
の内の所定回転数で回転させ、同時にコツクを所
定量開き、主軸21内の孔22を通して100c.c./
分程度の水を下方へ放出させ、バフ3の下面を石
材表面25に当て、研磨機を手動操作して石材表
面25上におけるバフ3の位置を変えながら研磨
作業をすすめる。研削水は回転中の孔22の内面
に遠心力で押し付けられた状態で継手11内の孔
20へ流出し、孔20内においても遠心力により
孔20の内周面に沿い環状の水膜を形成しながら
下降し、防振ゴム9の中央の孔17の内周面をへ
て矢印Aで示すように研削水通路16に入り、そ
の外周部から4個の流路10をへて矢印Bで示す
如く放射状外方へ飛散し、バフ3から離れた石材
表面25上に撒かれる。即ち基盤2とバフ3の中
央には孔が形成されているが、遠心力により、研
削水は加工接触面の中央部には供給されない(矢
印C方向には流れない)。
以上説明したように本考案においては、研磨盤
1の上面に主軸21内の孔22と連通する複数個
の放射状の研削水流路10を設けたので、研磨盤
1が回転している研磨作業中には、バフ3の下面
と石材表面25の間の加工接触面の中央部には研
削水が供給されなくなるため、バフ3の下面と石
材表面25の間の接触が促進され、艶出しに必要
な程度の石材表面25の発熱を維持することがで
きる。しかもバフ3の下面は石材表面25上にお
ける位置が変わることにより、予め流路10から
撒かれている研削水に触れて適度に冷却され、石
材表面25の異常な発熱と、バフ3の異常な損耗
を回避することができる。
1の上面に主軸21内の孔22と連通する複数個
の放射状の研削水流路10を設けたので、研磨盤
1が回転している研磨作業中には、バフ3の下面
と石材表面25の間の加工接触面の中央部には研
削水が供給されなくなるため、バフ3の下面と石
材表面25の間の接触が促進され、艶出しに必要
な程度の石材表面25の発熱を維持することがで
きる。しかもバフ3の下面は石材表面25上にお
ける位置が変わることにより、予め流路10から
撒かれている研削水に触れて適度に冷却され、石
材表面25の異常な発熱と、バフ3の異常な損耗
を回避することができる。
同一水量を加工接触面の中央部から供給した場
合と、本考案による流路10から研磨盤の周囲に
撒いた場合とで所定時間研磨作業を行つた後の石
材表面25の輝度を比較すると、前者(従来方
式)においては70〜80度で、前工程終了時の輝度
と変化がないのに対し、後者(本考案)によると
輝度は石材における最高の90〜93度に達すること
が確認された。
合と、本考案による流路10から研磨盤の周囲に
撒いた場合とで所定時間研磨作業を行つた後の石
材表面25の輝度を比較すると、前者(従来方
式)においては70〜80度で、前工程終了時の輝度
と変化がないのに対し、後者(本考案)によると
輝度は石材における最高の90〜93度に達すること
が確認された。
更に本考案においては研磨盤1と筒状継手11
の間に主軸21内の孔22と連通した中央孔17
を有する環状防振ゴム9を介装し、研磨盤1の上
面に同心の円形凹部4とその外周部から放射状に
延びる溝7を設け、防振ゴム9の外周部を隣接溝
7間の凸部5締着して研磨盤1の上面と防振ゴム
9の下面の間に主軸21内の孔と連通する複数個
の放射状の研削水流路10を形成しているので、
次のような特殊な効果が得られるのである。即ち
研削水流路10を形成するためにバフ研磨盤1の
基盤2や筒状継手11にきり孔加工を施す必要が
なく、単にハブ研磨盤1上に防振ゴム9を取付け
るだけで研磨盤上面の円形凹部4と溝7を防振ゴ
ム9で塞ぐことにより研削水流路10が形成さ
れ、機械加工が極めて容易になる。しかも本考案
によりバフ3と石材表面24の摩擦部分への研削
水の供給量を減して石材表面における艶出し効果
が増すように発熱を促進すると、研磨盤1と筒状
継手11の間の防振ゴムが熱を受けて変質し、防
振効果が低下したり極端な場合は破損する恐れが
あるが、本考案によると防振ゴム9が円形凹部4
や溝7に面して研削水と直接接触する形になるた
め、防振ゴム9が適度に冷却され、この結果とし
て防振ゴム9の弾性が最適値に保持され、耐久性
が高まる。又防振ゴム9は外周部において研磨盤
1の外周凸部5にボルト15等で締着されるの
で、研磨盤1と筒状継手11の間の可撓性が増
し、駆動系からバフ3と石材表面25の圧接部へ
加わる振動が最少に保持され、石材表面25が精
密に仕上り、艶が増す。
の間に主軸21内の孔22と連通した中央孔17
を有する環状防振ゴム9を介装し、研磨盤1の上
面に同心の円形凹部4とその外周部から放射状に
延びる溝7を設け、防振ゴム9の外周部を隣接溝
7間の凸部5締着して研磨盤1の上面と防振ゴム
9の下面の間に主軸21内の孔と連通する複数個
の放射状の研削水流路10を形成しているので、
次のような特殊な効果が得られるのである。即ち
研削水流路10を形成するためにバフ研磨盤1の
基盤2や筒状継手11にきり孔加工を施す必要が
なく、単にハブ研磨盤1上に防振ゴム9を取付け
るだけで研磨盤上面の円形凹部4と溝7を防振ゴ
ム9で塞ぐことにより研削水流路10が形成さ
れ、機械加工が極めて容易になる。しかも本考案
によりバフ3と石材表面24の摩擦部分への研削
水の供給量を減して石材表面における艶出し効果
が増すように発熱を促進すると、研磨盤1と筒状
継手11の間の防振ゴムが熱を受けて変質し、防
振効果が低下したり極端な場合は破損する恐れが
あるが、本考案によると防振ゴム9が円形凹部4
や溝7に面して研削水と直接接触する形になるた
め、防振ゴム9が適度に冷却され、この結果とし
て防振ゴム9の弾性が最適値に保持され、耐久性
が高まる。又防振ゴム9は外周部において研磨盤
1の外周凸部5にボルト15等で締着されるの
で、研磨盤1と筒状継手11の間の可撓性が増
し、駆動系からバフ3と石材表面25の圧接部へ
加わる振動が最少に保持され、石材表面25が精
密に仕上り、艶が増す。
第1図は本考案を適用した研磨装置の縦断面
図、第2図は第1図中の研磨盤単体の平面図、第
3図は別の実施例を示すための第2図に対応する
図面である。 1……研磨盤、3……バフ(艶出し研磨部
材)、10……研削水流路、11……継手、21
……回転主軸、22……孔。
図、第2図は第1図中の研磨盤単体の平面図、第
3図は別の実施例を示すための第2図に対応する
図面である。 1……研磨盤、3……バフ(艶出し研磨部
材)、10……研削水流路、11……継手、21
……回転主軸、22……孔。
Claims (1)
- 下面に艶出し研磨用バフ3を有する研磨盤1を
筒状の継手11を介して研磨機の中空回転主軸2
1に接続し、主軸21内の孔を通して研削水を供
給するようにした研磨装置において、研磨盤1と
筒状継手11の間に主軸21内の孔と連通した中
央孔17を有する環状防振ゴム9を介装し、研磨
盤1の上面に同心の円形凹部4とその外周部から
放射状に延びる溝7を設け、防振ゴム9の外周部
を隣接溝7間の凸部5締着して研磨盤1の上面と
防振ゴム9の下面の間に主軸21内の孔と連通す
る複数個の放射状の研削水流路10を形成したこ
とを特徴とする石材用艶出し研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981084541U JPS6125975Y2 (ja) | 1981-06-08 | 1981-06-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981084541U JPS6125975Y2 (ja) | 1981-06-08 | 1981-06-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57197449U JPS57197449U (ja) | 1982-12-15 |
| JPS6125975Y2 true JPS6125975Y2 (ja) | 1986-08-05 |
Family
ID=29879888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981084541U Expired JPS6125975Y2 (ja) | 1981-06-08 | 1981-06-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6125975Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0525808Y2 (ja) * | 1985-02-25 | 1993-06-29 |
-
1981
- 1981-06-08 JP JP1981084541U patent/JPS6125975Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57197449U (ja) | 1982-12-15 |
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