JPS61270030A - 加工液供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この考案は放電加工機、特にワイヤカット放電加工機の
加工液供給装置の改良に関する。

［技術的背景及び問題点］ 従来、ワイヤカット放電加工機による放電加工は、荒加
工（ファースト・カット）と仕上加工（セカンド・カッ
ト）の２段階の加工工程を順次行なう場合が多いが、こ
の場合、前者は高い放電エネルギで加工速度を増して行
ない、後者は低い放電エネルギーで精密に加工され、更
にワイヤテンションを強くして加工面精度を増し、ある
いは加工液供給量を減じて加工面粗さを細かくしたりな
どして調整されるが、加工液自体の比抵抗値については
、特に運転中に調整されることはなかった。

ワイヤカット放電加工機に付属する加工液供給装置は、
第２図に示すように図外の放電加工機から戻る加工屑を
含む汚液を受入れる汚液槽１０１と、これをポンプ１０
３で汲み上げペーパフィルタ等のフィルタ１０５で濾過
処理したろ液を受は入れる清液槽１０７、さらにこの液
をイオン交換処理で精製するためのポンプ１０９とイオ
ン交換器１１１、清液槽１０７の清液を放電加工機に送
るポンプ１１３等で構成されている。この加工液供給装
置と放電加工機側の加工槽とに存在する加工液の総液１
は通常数１００９に達する大容量であり、これ程の最の
加工液の比抵抗値を前記加工工程毎にその都度調整する
ことは容易にはできない。

例えば加工液供給装置に普通備えられているイオン交換
器１１１を用いてイオン交換処理を行って比抵抗値を調
整すると３００１を処理するのに５〜１０時間以上もか
かり、前記加工中には実施困難である。又、この比抵抗
調整の必要性もさほど重要視されていなかった。これら
の事情によって前記加工液の比抵抗の調整が運転中に行
われることがなかった。

［発明の目的］ この発明は上記の問題点に区み、従来特に採り上げられ
なかった加工液の比抵抗の影響に看目し検討、実験を重
ねて創案されたものであり、前記荒加工と仕上加工の各
工程を共により効果的、能率的に行なうことかでき、か
つこれら各工程の切替が極めて短時間に実施可能であり
、更に設備配置を合理的にした加工液供給装置の提供を
目的とする。

［発明の構成］ 上記目的を達成するためにこの発明は、仕上加工用加工
液貯槽と、荒加工用加工液第１貯槽と、荒加工用加工液
第２貯槽とを備え、かつ前記仕上加工用加工液貯槽は前
記荒加工用加工液第１貯槽と同第２貯槽のうち低温側の
槽に接触或は包囲される形態に配設されるようにワイヤ
カット放電加工機用加工液供給装置を構成した。

［発明の実施例〕 以下この発明の一実施例を第１図に基づいて説明する。

第１図はこの発明の加工液供給装置の構成図である。

この発明の加工液供給装置は図外のワイヤカット放電加
工機に加工液を供給するために、荒加工用加工液供給系
列と仕上加工用加工液供給系列とが並列して設けられて
いる。荒加工用加工液供給系列は荒加工用加工液第１貯
槽としての放電加工機から戻る加工屑を含んだ汚液を受
は入れる汚液Ｗ１１、汚液を濾過するための第１ポンプ
３と第１１フイルタ５、荒加工用加工液第２貯槽として
の濾過液つまり清液を貯める清液槽７、及びこの清液を
再び放電加工機に付属する加工槽９に供給する第２ポン
プ１１とで構成されている。他方の仕上加工用加工液供
給系列は放電加工機の加工槽９からの戻り液を受は入れ
る仕上加工用加工液貯槽１３、この液をイオン交換処理
して前記清液槽７か放電加工機の加工槽９に送液するた
めの第３ポンプ１５と第２フイルタ１７とイオン交換器
１９とで構成される。これら両系列の入口側配管にはオ
ン・オフ型第１、第２ソレノイドパルプ２１ａ１２１ｂ
が夫々備えられ加工槽９からの戻り液をいずれかの系列
に送るようにしている。

両系列の出口側配管にもオン・オフ型第３、第４、第５
ソレノイドバルブ２３ａ、２３ｂ、２３Ｃが備えられ、
加工工程と液処理段階に応じて適宜開閉して切替送液を
行なう。清液槽７内の清液が時としてａ温になり過ぎ不
都合となることがあることの対策としてターラユニット
２５が設けられている。

そして前記仕上加工用加工液貯４ｔ！！１３はこの清液
槽７内に配置されている。つまりこの貯槽１３は清液槽
７に包囲されていて貯槽１３内の仕上加工液が清液によ
って有効に冷却されることになる。

なお、第１図中の各ポンプのサクション配管中に記載し
たＲＶはリリーフ・バルブ、他の配管中に記載したＰＧ
は圧力計、ＳＥは比抵抗測定用センサ、Ｃ■はチェック
バルブを表わしている。

前記各貯槽は隔壁で仕切られており、清液槽７から汚液
槽５に、仕上加工用加工液貯槽１３から漬液４＠７に夫
々オーバーフロー可能な高さ関係に配設されている。

次に上記一実施例の作用にってい述べる。このワイヤカ
ット放電加工機における荒加工には荒加工用加工液供給
系列から加工液が供給されるが、加工液の比抵抗は１０
５Ω・ｃｈｉ未満、通常１０４Ω・ｃｈｉ程度に調整さ
れている。この値は一般の水通水の比抵抗とほぼ等しい
。従ってこの荒加工用加工液供給系列には当初から水道
水を受入れておき、補給水も又水道水としてもよい。こ
のように低い比抵抗の加工液を用いることで、荒加工の
際本来の放電加工作用の他に、被加工材側の電解電流が
増し、電解作用が向上して前記放電加工作用に加わり、
加工速度が増大して荒加工にとっては極めて好都合な条
件となる。荒加工が終ると引続き仕上加工に移る。この
時は放電加工機に付属する給電装置を調整して放電エネ
ルギを荒加工時よりも少なくするように適正電力条件に
変えるが、又ワイヤテンションを強くしたり、加工液供
給量も減じたりして加工精度を向上させるように調節す
る。そしてさらに加工液の比抵抗を１０５Ω・０１以上
に高くする。前記荒加工の際は１０５Ω・ｃｍ未満にし
、仕上加工においては１０５Ω・０１以上とすることは
発明者等の検討と実験によって得られた条件であり、も
し比抵抗が前記荒加工の時の低い値のままで仕上加工を
行なうと前記電解作用が激しくなり過ぎて不都合である
。すなわち、仕上加工では放電ギャップを数μ−と極め
て小さくすることが多い。この時に加工液比抵抗が低い
と電解電流が増え、逆に放電パワーが減る。さらに極間
電圧が低下して寄せ量制御が極めて困難となり、放電加
工継続も難１ｙ　くなる。又、電解によって電蝕が発生
し加工面を悪化させることさえ生じる。前記仕上加工用
加工液の適正抵抗値１０５Ω・ｃｍｌＪ上はイオン交換
器を通過させてイオン交換処理を行なって丁度得られる
値であることが確認されて、仕上加工用加工液供給系列
を前記のように構成したものである。このように荒加工
用と仕上加工用とに加工液供給系列を明確に区分して並
列に設けたが、これは前記従来の加工液供給装置を単に
２基列並設したものとは大きく異なる。

ずなわら、まず仕上加工用加工液貯槽１３は容積的５０
１１と、清液槽１１の約１／３の大きさに止めており、
又、仕上加工用加工液供給系列内の専用貯槽はこの１基
だけとしている。がっ、前記のように各後段工程側の貯
槽から夫々前段側の貯槽にオーバーフロー可能としてい
ることも加わってこれら各貯槽の容量と基数が、必要に
して充分なＩ能を持ちながら最低限のものにされており
、これで実用上何ら支障のないことは確認済であること
は言うまでもない。次に前記貯槽１３を清液槽７内に入
れて包囲された形に配置していることで前者内の液が極
めて効果的に冷却されるようになっていて専用クーラの
設置を不要としている。加えて前記各工程段階の加工液
の最適比抵抗値確認結果から仕上加工用加工液供給系列
のイオン交換器１９を出た液を直接放電加工機の加工槽
９に送液する配管も設けられていて、貯槽とポンプを省
略し得ており、かっこの仕上加工に移行する時の切替を
極めて短時間で行なえるようにされている。

このように両系列を合理的に配設することで、前記従来
の加工液供給装置の２系列分に比較すると設置面積、設
備費共に格段に縮小、節減されている。そしてこれらの
両系列を入口側、出口側の各バルブ開閉によって切替え
て使い分けることで前記のように夫々の加工工程に適合
した比抵抗を持った加工液が確実、迅速かつ容易に供給
可能となる。このように加工液を切替えて荒加工と仕上
加工とを行なった場合と、各加工工程で加工液を切替え
としない従来の２段階加工の場合とで、他の条件は同一
にして両者を比較すると本発明の場合の方が格段に作業
時間が短縮され、かつ得られた加工面も極めて均一な高
品質高精度のものであった。

［発明の効果］ 以上より明らかなように、この発明の加工液供給装置に
よれば、荒加工と仕上加工との２段階の加工工程を順次
行なうワイヤカット放電加工の場合、前記各工程とも極
めて効果的、合理的に、すなわち荒加工は加工速度を早
めて短時間に能率よ〈実施でき、仕上加工は確実、高精
度に行なえて高品質の加工面が得られ、かつ各工程用加
工液切替が非常に迅速、容易にできる。さらに前記２基
列の加工液供給系列を持ちながら設置面積、設備費のい
ずれも極めて合理的に抑制されている。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の加工液供給装置の構成図、第２図は
従来の加工液供給装置の構成図である。 主要な図面符号の説明

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 仕上加工用加工液貯槽と、荒加工用加工液第１貯槽と、
   荒加工用加工液第２貯槽とを備え、かつ、前記仕上加工
   用加工液貯槽は前記荒加工用加工液第１貯槽と荒加工用
   加工液第２貯槽のうち低温側の槽に接触或は包囲される
   形態に配設されていることを特徴とするワイヤカット放
   電加工機用加工液供給装置。