JPS61276320A - フオトレジスト露光装置 - Google Patents
フオトレジスト露光装置Info
- Publication number
- JPS61276320A JPS61276320A JP60118030A JP11803085A JPS61276320A JP S61276320 A JPS61276320 A JP S61276320A JP 60118030 A JP60118030 A JP 60118030A JP 11803085 A JP11803085 A JP 11803085A JP S61276320 A JPS61276320 A JP S61276320A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- modulator
- argon laser
- amplitude
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
振幅変調されたアルゴンレーザビームによってフォトレ
ジスト（感光性膜）を選択的に露光するフォトレジスト
露光装置であって、アルゴンレーザの瞬時的な放射パワ
ーの減少を補償するように構成することによって、露光
精度を向上した。
ジスト（感光性膜）を選択的に露光するフォトレジスト
露光装置であって、アルゴンレーザの瞬時的な放射パワ
ーの減少を補償するように構成することによって、露光
精度を向上した。
本発明は、光デイスク用のフォトレジスト原盤の製造等
に用いるフォトレジスト露光装置に関するものである。
に用いるフォトレジスト露光装置に関するものである。
たとえば、光ディスクの成形加工に使用されるスタンパ
−（金型）は、ガラス等の円板上に塗布したポジ型のフ
ォトレジストを、記録情報によって振幅変調されたレー
ザビームをスパイラル状ニ相対移動させながら照射し、
これを現像液によって処理し露光部分を熔解除去するこ
とによって一次母型であるフォトレジスト原盤を作り９
次に一次母型からメッキ等の処理によって作られる。
−（金型）は、ガラス等の円板上に塗布したポジ型のフ
ォトレジストを、記録情報によって振幅変調されたレー
ザビームをスパイラル状ニ相対移動させながら照射し、
これを現像液によって処理し露光部分を熔解除去するこ
とによって一次母型であるフォトレジスト原盤を作り９
次に一次母型からメッキ等の処理によって作られる。
前記レーザビームには波長および出力等の理由から、一
般にアルゴンレーザビームが用いられている。
般にアルゴンレーザビームが用いられている。
ところが、アルゴンレーザには、一時的にたとば２００
μｓにわたって放射パワーが５０〜８０％に低下する現
象、いわゆるドロップアウトを生ずることがあるが、こ
れを完全に防止することは現状では非常に困難である。
μｓにわたって放射パワーが５０〜８０％に低下する現
象、いわゆるドロップアウトを生ずることがあるが、こ
れを完全に防止することは現状では非常に困難である。
したがって、光源としてアルゴンレーザを用いるフォト
レジスト露光装置においては、ドロップアウトるよる製
品不良の発生を防止できるように構成されていることが
望ましい。
レジスト露光装置においては、ドロップアウトるよる製
品不良の発生を防止できるように構成されていることが
望ましい。
第３図は光デイスク用のフォトレジスト原盤の製造に用
いられるフォトレジスト露光装置の従来例の構成図であ
り。
いられるフォトレジスト露光装置の従来例の構成図であ
り。
１はアルゴンレーザ。
２はアルゴンレーザ１が放射したレーザビームを矩形波
信号によって振幅変調す、る変調部。
信号によって振幅変調す、る変調部。
３は集光レンズ。
４はガラス円板等の基盤（図示省略）上に塗布されたフ
ォトレジストである。
ォトレジストである。
なお変調部２は、書込み信号に相当する一定振幅の矩形
波状のアナログ信号Ａによって、たとえば３０メガヘル
ツの超音波信号を振幅変調して出力する超音波変調器２
１と、超音波変調器２１の出力Ｂによってレーザビーム
を変調する音響光学変調器（ＡＯＭ） ２２とから構成
されている。
波状のアナログ信号Ａによって、たとえば３０メガヘル
ツの超音波信号を振幅変調して出力する超音波変調器２
１と、超音波変調器２１の出力Ｂによってレーザビーム
を変調する音響光学変調器（ＡＯＭ） ２２とから構成
されている。
フォトレジスト４は、ガラス円板とともに図示省略の駆
動モータによって所定の定速で回転され。
動モータによって所定の定速で回転され。
一方、変調器２によって変調され集光レンズ３によって
集光されたレーザビームは９図示省略の偏向装置によっ
てガラス円板の半径方向に所定の速度で偏向される。
集光されたレーザビームは９図示省略の偏向装置によっ
てガラス円板の半径方向に所定の速度で偏向される。
その結果、ガラス円板上のフォトレジストが。
スパイラル状の線に沿って選択的に露光され、これを現
像剤によって処理することによって一次母型が作られる
。
像剤によって処理することによって一次母型が作られる
。
前記構成の装置において、露光に長時間たとえば１時間
以上を要することが少なくなく、一方。
以上を要することが少なくなく、一方。
アルゴンレーザのドロップアウトは数時間に１回の割合
で発生する。
で発生する。
このため、たとえば数枚につき１枚の割合でフォトレジ
スト原盤に不良が発生するため製造原価が増大するとい
う問題点がある。
スト原盤に不良が発生するため製造原価が増大するとい
う問題点がある。
したがって２本発明の目的は、ドロップアウトるよる製
品不良の発生を防止できるフォトレジスト露光装置を提
供することにある。
品不良の発生を防止できるフォトレジスト露光装置を提
供することにある。
第１図は本発明の原理図であり。
５はアルゴンレーザ１の放射パワーを検出する検出部。
６は、変調部２に入力される矩形波信号の振幅Ａを、検
出部５の検出値によって制御する制御部である。
出部５の検出値によって制御する制御部である。
すなわち、アルゴンレーザ１の放射パワーを検出部５に
よって検出し、たとえば検出値が所定値以下に低下した
場合には、変調部２に入力される矩形波信号の振幅を増
加し変調部２の変調出力を増大することによって、ドロ
ップアウトによる露光不足を防止するものである。
よって検出し、たとえば検出値が所定値以下に低下した
場合には、変調部２に入力される矩形波信号の振幅を増
加し変調部２の変調出力を増大することによって、ドロ
ップアウトによる露光不足を防止するものである。
第２図は実施例の構成図であり。
検出部５は、半透鏡（ハーフミラ−） ５１と、半透鏡
５１によって反射されたレーザビームを受光するフォト
ダイオード５２と、フォトダイオード５２によって検出
された検出値を所定値と比較し、所定値を下回っている
あいだ性償信号Ｃを出力する性償信号出力回路５３とか
ら構成し。
５１によって反射されたレーザビームを受光するフォト
ダイオード５２と、フォトダイオード５２によって検出
された検出値を所定値と比較し、所定値を下回っている
あいだ性償信号Ｃを出力する性償信号出力回路５３とか
ら構成し。
制御部６は、書込み信号として与えられる一定振幅の矩
形波状のアナログ信号Ａの振幅を、補償信号Ｃに応じて
補償する振幅補償回路６′によって構成している。
形波状のアナログ信号Ａの振幅を、補償信号Ｃに応じて
補償する振幅補償回路６′によって構成している。
すなわち、ドロップアウトによってアルゴンレーザ１の
放射パワーが減少したとき、超音波変調器２１に入力さ
れる矩形波の振幅を増大させることによって、音響光学
変調器２２の出力を増大させるものである。
放射パワーが減少したとき、超音波変調器２１に入力さ
れる矩形波の振幅を増大させることによって、音響光学
変調器２２の出力を増大させるものである。
（発明の効果）
以上説明したように１本発明によればドロップアウトに
よるアルゴンレーザの放射パワーの減少を変調部２によ
って補償することができるので。
よるアルゴンレーザの放射パワーの減少を変調部２によ
って補償することができるので。
フォトレジストの露光においてドロップアウトによる製
品不良の発生を防止することができる。
品不良の発生を防止することができる。
第１図は本発明の原理図。
第２図は実施例の構成図。
第３図は従来例の構成図であり。
図中。
１はアルゴンレーザ、 ２は変調部。
３は集光レンズ、 ４はフォトレジスト。
５は検出部、 ６は制御部。
２１は超音波変調器、２２は音響光学変調器。
本曙本姐の釆題韻
第 １ 岨
界 ２ 口
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 アルゴンレーザビームを放射するアルゴンレーザ（１）
と、 前記アルゴンレーザビームを矩形波信号によって振幅変
調する変調部（２）とを備え、 支持体上に塗布されたフォトレジスト（４）を相対的に
移動させながら前記変調されたアルゴンレーザビームに
よって照射し選択的に露光するフォトレジスト露光装置
において、 アルゴンレーザ（１）の放射パワーを検出する検出部（
５）と、 変調部（２）に入力される矩形波信号の振幅を検出部（
５）の検出値によって制御する制御部（６）とを設けた
ことを特徴とするフォトレジスト露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60118030A JPS61276320A (ja) | 1985-05-31 | 1985-05-31 | フオトレジスト露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60118030A JPS61276320A (ja) | 1985-05-31 | 1985-05-31 | フオトレジスト露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61276320A true JPS61276320A (ja) | 1986-12-06 |
Family
ID=14726318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60118030A Pending JPS61276320A (ja) | 1985-05-31 | 1985-05-31 | フオトレジスト露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61276320A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996007954A1 (en) * | 1994-09-09 | 1996-03-14 | Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechanical College | Microstructures and methods for manufacturing microstructures |
-
1985
- 1985-05-31 JP JP60118030A patent/JPS61276320A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996007954A1 (en) * | 1994-09-09 | 1996-03-14 | Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechanical College | Microstructures and methods for manufacturing microstructures |
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