JPS61280046A - 光記録方式 - Google Patents
光記録方式Info
- Publication number
- JPS61280046A JPS61280046A JP60121493A JP12149385A JPS61280046A JP S61280046 A JPS61280046 A JP S61280046A JP 60121493 A JP60121493 A JP 60121493A JP 12149385 A JP12149385 A JP 12149385A JP S61280046 A JPS61280046 A JP S61280046A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal
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- optical recording
- liq
- liquid crystal
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、書換え可能な情報記録方式に関するものであ
る。
る。
従来、書換え可能な情報記録方式としては、磁気光学材
料を用い磁気光学効果を利用した光磁気記録方式および
無機系材料を用い相変化を利用した書換え可能な情報記
録方式が知られている。
料を用い磁気光学効果を利用した光磁気記録方式および
無機系材料を用い相変化を利用した書換え可能な情報記
録方式が知られている。
しかしながら光磁気記録方式においては、S/N比が〜
40dBと低いことに加え部分消去できないという欠点
を有する。また無機系材料を用い相変化を利用した記録
方式においては、S/N比が59dBと向上しているも
ののS/N比はまだ十分ではない。
40dBと低いことに加え部分消去できないという欠点
を有する。また無機系材料を用い相変化を利用した記録
方式においては、S/N比が59dBと向上しているも
ののS/N比はまだ十分ではない。
また、このような記録方式に用いられる記録媒体の製法
においては、スパッタ等を用いているので製造コストが
かかるという欠点を有する。
においては、スパッタ等を用いているので製造コストが
かかるという欠点を有する。
以上のような従来技術の欠点を解消するために、高分子
液晶を用いた記録方式が特開昭59−10930号公報
および特開昭59−35989号公報において提案され
ている。かかる方式においては、書込みあるいは消去に
おいて液晶の無配向状態を用いるため、入射光が散乱さ
れ、検出機構が制限される為、S/N比が悪いという欠
点を有する。
液晶を用いた記録方式が特開昭59−10930号公報
および特開昭59−35989号公報において提案され
ている。かかる方式においては、書込みあるいは消去に
おいて液晶の無配向状態を用いるため、入射光が散乱さ
れ、検出機構が制限される為、S/N比が悪いという欠
点を有する。
本発明の目的は、高分子液晶を用いた記録方式であって
、高いS/N比を実現できる書換え可能な情報記録方式
を提供することにある。
、高いS/N比を実現できる書換え可能な情報記録方式
を提供することにある。
本発明は、高分子液晶を用いた光記録媒体に情報を記録
し、記録された情報を消去する光記録方式において、均
一に初期分子配向した高分子液晶に対して、光ビームの
照射と光記録媒体の回転による分子配向力を与え、前期
初期配向とは異なる方向に均一配向させることにより情
報の書込みを行い、加熱と同時に電場を印加し、高分子
液晶を初期の均一配向に戻すことにより前期書込まれた
情報を消去することを特徴としている。
し、記録された情報を消去する光記録方式において、均
一に初期分子配向した高分子液晶に対して、光ビームの
照射と光記録媒体の回転による分子配向力を与え、前期
初期配向とは異なる方向に均一配向させることにより情
報の書込みを行い、加熱と同時に電場を印加し、高分子
液晶を初期の均一配向に戻すことにより前期書込まれた
情報を消去することを特徴としている。
本発明の基本的動作原理を説明する。高分子液晶として
は、種々のものが知られているが(刊行物「表面J 、
Vo 1,20. No、 9 (1982)、
P479〜491、広信社出版)、本発明には、温度。
は、種々のものが知られているが(刊行物「表面J 、
Vo 1,20. No、 9 (1982)、
P479〜491、広信社出版)、本発明には、温度。
電場およびせん断応力により変化する性質を有する高分
子液晶を用いる必要があり、これには主鎖ポリマーに液
晶基を付加したいわゆる側鎖型高分子液晶が特に適して
いる。本発明の動作は、液晶基の配向効果に基づくもの
である。
子液晶を用いる必要があり、これには主鎖ポリマーに液
晶基を付加したいわゆる側鎖型高分子液晶が特に適して
いる。本発明の動作は、液晶基の配向効果に基づくもの
である。
ガラス転移温度1等方相転移温度を適度に調整された高
分子液晶は、一般に室温では通常のポリマーと同様に固
体状態であるが、等方相近くもしくはそれ以上の温度で
は適度の粘土のため、低分子液晶と同様の外場応答性を
示す。即ち、例えば、誘電異方性が正の液晶基を有する
高分子液晶は、電場印加のもとで、液晶基の分子長軸方
向は電場方向に配向する。室温まで戻すとその配向状態
はそのまま保持される。同じく等方相近くもしくはそれ
以上の温度で高分子液晶を回転すると回転方向に流動配
向し、室温まで戻すとその配向状態はそのまま保持され
る。
分子液晶は、一般に室温では通常のポリマーと同様に固
体状態であるが、等方相近くもしくはそれ以上の温度で
は適度の粘土のため、低分子液晶と同様の外場応答性を
示す。即ち、例えば、誘電異方性が正の液晶基を有する
高分子液晶は、電場印加のもとで、液晶基の分子長軸方
向は電場方向に配向する。室温まで戻すとその配向状態
はそのまま保持される。同じく等方相近くもしくはそれ
以上の温度で高分子液晶を回転すると回転方向に流動配
向し、室温まで戻すとその配向状態はそのまま保持され
る。
本発明は、上記2つの異なる均一な配向状態にもとづき
、情報の記録及び消去を行うものである。
、情報の記録及び消去を行うものである。
高分子液晶が相変化するのに必要な温度T1と配向する
のに必要な電圧■1を与えると高分子液晶は一定方向に
均一に配向する。この状態で冷却すると、電圧を切って
も高分子液晶の配向した状態は維持される。
のに必要な電圧■1を与えると高分子液晶は一定方向に
均一に配向する。この状態で冷却すると、電圧を切って
も高分子液晶の配向した状態は維持される。
以上のように均一に初期分子配向した高分子液晶に対し
て、高密度エネルギー光を照射し温度T1に上昇させ、
高分子液晶を回転させることによって、高分子液晶に回
転流動によるせん断応力を加えれば上記配向とは異なる
配向状態が得られ、冷却すればこの状態は維持される。
て、高密度エネルギー光を照射し温度T1に上昇させ、
高分子液晶を回転させることによって、高分子液晶に回
転流動によるせん断応力を加えれば上記配向とは異なる
配向状態が得られ、冷却すればこの状態は維持される。
これにより光記録が可能になる。
以上のようにしてなされた記録を消去するには、高分子
液晶に電圧■1を印加した状態で全面を加熱し温度T1
にすれば高分子液晶を初期の均一配向に戻すことにより
記録の全面消去が可能である。
液晶に電圧■1を印加した状態で全面を加熱し温度T1
にすれば高分子液晶を初期の均一配向に戻すことにより
記録の全面消去が可能である。
また、電圧■1を印加したままレーザー光等により局部
的に加熱し温度T、にすれば部分消去も可能になる。
的に加熱し温度T、にすれば部分消去も可能になる。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は、本発明の一実施例の光記録方式に用いる光記
録媒体の一例を示す模式的断面図、第2図および第3図
は、情報の書込み(記録)および消去をそれぞれ説明す
るための図である。
録媒体の一例を示す模式的断面図、第2図および第3図
は、情報の書込み(記録)および消去をそれぞれ説明す
るための図である。
第1図において、光記録媒体1は、例えば直径20cm
のガラス基板2上にITOを透明電極として設けた上に
、下記構造式 %式% の高分子液晶4を加熱し、ディピングにより塗布し、ス
ペーサ(図示せず)にて厚みを10μmとし、さらにI
TOを透明電極5として設けたガラス基板6を設けるこ
とにより構成される。光記録媒体の構造はこれに限るも
のではなく、光ビームの吸収効率を上げるため光吸収層
、もしくは光反射層を光記録媒体中に設置してもよい。
のガラス基板2上にITOを透明電極として設けた上に
、下記構造式 %式% の高分子液晶4を加熱し、ディピングにより塗布し、ス
ペーサ(図示せず)にて厚みを10μmとし、さらにI
TOを透明電極5として設けたガラス基板6を設けるこ
とにより構成される。光記録媒体の構造はこれに限るも
のではなく、光ビームの吸収効率を上げるため光吸収層
、もしくは光反射層を光記録媒体中に設置してもよい。
以上のような光記録媒体1の透明電極3−5間に電圧を
与え高分子液晶4に電場(>3V/μm)を印加しなが
ら約90℃に加熱すると液晶基がガラス基板に対し垂直
に配向し、冷却しても直交ニコル下において暗視野を与
える光記録媒体が作成される。
与え高分子液晶4に電場(>3V/μm)を印加しなが
ら約90℃に加熱すると液晶基がガラス基板に対し垂直
に配向し、冷却しても直交ニコル下において暗視野を与
える光記録媒体が作成される。
次に、第2図に示すように透明電極3−5間に電圧を印
加せずに光記録媒体1を中心軸の回りに600〜180
0 r p mで回転させながら高密度エネルギー光7
、例えばHe−Neレーザ(10mW、10m5)を照
射したところ、照射された部分の高分子液晶は、回転流
動によるせん断芯力により、初期配向とは異なる方向、
即ちガラス基板に対し平行に配向し、直交ニコル下で明
視野を与える情報記録ができた。S/N比は70dBで
あった。
加せずに光記録媒体1を中心軸の回りに600〜180
0 r p mで回転させながら高密度エネルギー光7
、例えばHe−Neレーザ(10mW、10m5)を照
射したところ、照射された部分の高分子液晶は、回転流
動によるせん断芯力により、初期配向とは異なる方向、
即ちガラス基板に対し平行に配向し、直交ニコル下で明
視野を与える情報記録ができた。S/N比は70dBで
あった。
以上のようにして記録された情報を消去するには、第3
図に示すように光記録媒体1の透明電極3−5間に電圧
を与え高分子液晶4に電場(〉3■/μm)を印加しな
がら、高分子液晶の記録された部分に高密度エネルギー
光7、例えばレーザを照射して局部的に約90℃に加熱
すると、初期の均一配向に戻り、情報が消去され、再び
暗視野を与える情報記録媒体が再生された。以上は、部
分消去の場合であるが、適切な加熱手段により全面を加
熱すれば全面消去が可能となることは明らかである。
図に示すように光記録媒体1の透明電極3−5間に電圧
を与え高分子液晶4に電場(〉3■/μm)を印加しな
がら、高分子液晶の記録された部分に高密度エネルギー
光7、例えばレーザを照射して局部的に約90℃に加熱
すると、初期の均一配向に戻り、情報が消去され、再び
暗視野を与える情報記録媒体が再生された。以上は、部
分消去の場合であるが、適切な加熱手段により全面を加
熱すれば全面消去が可能となることは明らかである。
なお、以上の実施例は本発明の一例を述べたものであり
、本発明はこの実施例にのみ限定されるものではない。
、本発明はこの実施例にのみ限定されるものではない。
例えば、加熱温度は用いる高分子液晶の等方相温度に依
存するものであり、種々の温度条件の材料により選択可
能なことは勿論である。
存するものであり、種々の温度条件の材料により選択可
能なことは勿論である。
本発明によれば、情報の記録および消去において液晶基
の異なる均一な配向状態を用いることにより、従来知ら
れている散乱状態を用いる場合と比較して高いS/N比
を持つ、書換え可能な情報記録が可能となる。
の異なる均一な配向状態を用いることにより、従来知ら
れている散乱状態を用いる場合と比較して高いS/N比
を持つ、書換え可能な情報記録が可能となる。
第1図は本発明の一実施例に用いられる情報記録媒体の
一例を示す断面図、 第2図は第1図の情報記録媒体における記録を説明する
ための図、 第3図は、第1図の情報記録媒体における消去を説明す
るための図である。 1・・・光記録媒体 2.6・・・ガラス基板 3、訃・・透明電極 4・・・高分子液晶 7・・・高密度エネルギー光 代理人 弁理士 岩 佐 義 幸 1 光t!tjtd林 第1図 第2図
一例を示す断面図、 第2図は第1図の情報記録媒体における記録を説明する
ための図、 第3図は、第1図の情報記録媒体における消去を説明す
るための図である。 1・・・光記録媒体 2.6・・・ガラス基板 3、訃・・透明電極 4・・・高分子液晶 7・・・高密度エネルギー光 代理人 弁理士 岩 佐 義 幸 1 光t!tjtd林 第1図 第2図
Claims (1)
- (1)高分子液晶を用いた光記録媒体に情報を記録し、
記録された情報を消去する光記録方式において、均一に
初期分子配向した高分子液晶に対して、光ビームの照射
と光記録媒体の回転による分子配向力を与え、前期初期
配向とは異なる方向に均一配向させることにより情報の
書込みを行い、加熱と同時に電場を印加し、高分子液晶
を初期の均一配向に戻すことにより前記書込まれた情報
を消去することを特徴とする光記録方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60121493A JPS61280046A (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 光記録方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60121493A JPS61280046A (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 光記録方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61280046A true JPS61280046A (ja) | 1986-12-10 |
Family
ID=14812527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60121493A Pending JPS61280046A (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 光記録方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61280046A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62283433A (ja) * | 1986-02-04 | 1987-12-09 | レ−ム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 可逆的光学的情報記憶法 |
| US5150339A (en) * | 1989-04-24 | 1992-09-22 | Hitachi, Ltd. | Optical disk medium and its application method and system |
| JP2006332609A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-12-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 記憶装置および半導体装置 |
| US7550181B2 (en) | 1999-01-08 | 2009-06-23 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Information recording medium |
| US8264889B2 (en) | 2005-04-28 | 2012-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Memory device and semiconductor device |
-
1985
- 1985-06-06 JP JP60121493A patent/JPS61280046A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62283433A (ja) * | 1986-02-04 | 1987-12-09 | レ−ム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 可逆的光学的情報記憶法 |
| US5150339A (en) * | 1989-04-24 | 1992-09-22 | Hitachi, Ltd. | Optical disk medium and its application method and system |
| US7550181B2 (en) | 1999-01-08 | 2009-06-23 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Information recording medium |
| JP2006332609A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-12-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 記憶装置および半導体装置 |
| US8264889B2 (en) | 2005-04-28 | 2012-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Memory device and semiconductor device |
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