JPS61280046A - 光記録方式 - Google Patents

光記録方式

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Publication number
JPS61280046A
JPS61280046A JP60121493A JP12149385A JPS61280046A JP S61280046 A JPS61280046 A JP S61280046A JP 60121493 A JP60121493 A JP 60121493A JP 12149385 A JP12149385 A JP 12149385A JP S61280046 A JPS61280046 A JP S61280046A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
information
optical recording
liq
liquid crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP60121493A
Other languages
English (en)
Inventor
Toyoichi Nakamura
中村 豊一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP60121493A priority Critical patent/JPS61280046A/ja
Publication of JPS61280046A publication Critical patent/JPS61280046A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、書換え可能な情報記録方式に関するものであ
る。
〔従来技術とその問題点〕
従来、書換え可能な情報記録方式としては、磁気光学材
料を用い磁気光学効果を利用した光磁気記録方式および
無機系材料を用い相変化を利用した書換え可能な情報記
録方式が知られている。
しかしながら光磁気記録方式においては、S/N比が〜
40dBと低いことに加え部分消去できないという欠点
を有する。また無機系材料を用い相変化を利用した記録
方式においては、S/N比が59dBと向上しているも
ののS/N比はまだ十分ではない。
また、このような記録方式に用いられる記録媒体の製法
においては、スパッタ等を用いているので製造コストが
かかるという欠点を有する。
以上のような従来技術の欠点を解消するために、高分子
液晶を用いた記録方式が特開昭59−10930号公報
および特開昭59−35989号公報において提案され
ている。かかる方式においては、書込みあるいは消去に
おいて液晶の無配向状態を用いるため、入射光が散乱さ
れ、検出機構が制限される為、S/N比が悪いという欠
点を有する。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、高分子液晶を用いた記録方式であって
、高いS/N比を実現できる書換え可能な情報記録方式
を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明は、高分子液晶を用いた光記録媒体に情報を記録
し、記録された情報を消去する光記録方式において、均
一に初期分子配向した高分子液晶に対して、光ビームの
照射と光記録媒体の回転による分子配向力を与え、前期
初期配向とは異なる方向に均一配向させることにより情
報の書込みを行い、加熱と同時に電場を印加し、高分子
液晶を初期の均一配向に戻すことにより前期書込まれた
情報を消去することを特徴としている。
〔構成の詳細な説明〕
本発明の基本的動作原理を説明する。高分子液晶として
は、種々のものが知られているが(刊行物「表面J 、
 Vo 1,20. No、 9 (1982)、  
P479〜491、広信社出版)、本発明には、温度。
電場およびせん断応力により変化する性質を有する高分
子液晶を用いる必要があり、これには主鎖ポリマーに液
晶基を付加したいわゆる側鎖型高分子液晶が特に適して
いる。本発明の動作は、液晶基の配向効果に基づくもの
である。
ガラス転移温度1等方相転移温度を適度に調整された高
分子液晶は、一般に室温では通常のポリマーと同様に固
体状態であるが、等方相近くもしくはそれ以上の温度で
は適度の粘土のため、低分子液晶と同様の外場応答性を
示す。即ち、例えば、誘電異方性が正の液晶基を有する
高分子液晶は、電場印加のもとで、液晶基の分子長軸方
向は電場方向に配向する。室温まで戻すとその配向状態
はそのまま保持される。同じく等方相近くもしくはそれ
以上の温度で高分子液晶を回転すると回転方向に流動配
向し、室温まで戻すとその配向状態はそのまま保持され
る。
本発明は、上記2つの異なる均一な配向状態にもとづき
、情報の記録及び消去を行うものである。
高分子液晶が相変化するのに必要な温度T1と配向する
のに必要な電圧■1を与えると高分子液晶は一定方向に
均一に配向する。この状態で冷却すると、電圧を切って
も高分子液晶の配向した状態は維持される。
以上のように均一に初期分子配向した高分子液晶に対し
て、高密度エネルギー光を照射し温度T1に上昇させ、
高分子液晶を回転させることによって、高分子液晶に回
転流動によるせん断応力を加えれば上記配向とは異なる
配向状態が得られ、冷却すればこの状態は維持される。
これにより光記録が可能になる。
以上のようにしてなされた記録を消去するには、高分子
液晶に電圧■1を印加した状態で全面を加熱し温度T1
にすれば高分子液晶を初期の均一配向に戻すことにより
記録の全面消去が可能である。
また、電圧■1を印加したままレーザー光等により局部
的に加熱し温度T、にすれば部分消去も可能になる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は、本発明の一実施例の光記録方式に用いる光記
録媒体の一例を示す模式的断面図、第2図および第3図
は、情報の書込み(記録)および消去をそれぞれ説明す
るための図である。
第1図において、光記録媒体1は、例えば直径20cm
のガラス基板2上にITOを透明電極として設けた上に
、下記構造式 %式% の高分子液晶4を加熱し、ディピングにより塗布し、ス
ペーサ(図示せず)にて厚みを10μmとし、さらにI
TOを透明電極5として設けたガラス基板6を設けるこ
とにより構成される。光記録媒体の構造はこれに限るも
のではなく、光ビームの吸収効率を上げるため光吸収層
、もしくは光反射層を光記録媒体中に設置してもよい。
以上のような光記録媒体1の透明電極3−5間に電圧を
与え高分子液晶4に電場(>3V/μm)を印加しなが
ら約90℃に加熱すると液晶基がガラス基板に対し垂直
に配向し、冷却しても直交ニコル下において暗視野を与
える光記録媒体が作成される。
次に、第2図に示すように透明電極3−5間に電圧を印
加せずに光記録媒体1を中心軸の回りに600〜180
0 r p mで回転させながら高密度エネルギー光7
、例えばHe−Neレーザ(10mW、10m5)を照
射したところ、照射された部分の高分子液晶は、回転流
動によるせん断芯力により、初期配向とは異なる方向、
即ちガラス基板に対し平行に配向し、直交ニコル下で明
視野を与える情報記録ができた。S/N比は70dBで
あった。
以上のようにして記録された情報を消去するには、第3
図に示すように光記録媒体1の透明電極3−5間に電圧
を与え高分子液晶4に電場(〉3■/μm)を印加しな
がら、高分子液晶の記録された部分に高密度エネルギー
光7、例えばレーザを照射して局部的に約90℃に加熱
すると、初期の均一配向に戻り、情報が消去され、再び
暗視野を与える情報記録媒体が再生された。以上は、部
分消去の場合であるが、適切な加熱手段により全面を加
熱すれば全面消去が可能となることは明らかである。
なお、以上の実施例は本発明の一例を述べたものであり
、本発明はこの実施例にのみ限定されるものではない。
例えば、加熱温度は用いる高分子液晶の等方相温度に依
存するものであり、種々の温度条件の材料により選択可
能なことは勿論である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、情報の記録および消去において液晶基
の異なる均一な配向状態を用いることにより、従来知ら
れている散乱状態を用いる場合と比較して高いS/N比
を持つ、書換え可能な情報記録が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に用いられる情報記録媒体の
一例を示す断面図、 第2図は第1図の情報記録媒体における記録を説明する
ための図、 第3図は、第1図の情報記録媒体における消去を説明す
るための図である。 1・・・光記録媒体 2.6・・・ガラス基板 3、訃・・透明電極 4・・・高分子液晶 7・・・高密度エネルギー光 代理人 弁理士  岩 佐 義 幸 1 光t!tjtd林 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高分子液晶を用いた光記録媒体に情報を記録し、
    記録された情報を消去する光記録方式において、均一に
    初期分子配向した高分子液晶に対して、光ビームの照射
    と光記録媒体の回転による分子配向力を与え、前期初期
    配向とは異なる方向に均一配向させることにより情報の
    書込みを行い、加熱と同時に電場を印加し、高分子液晶
    を初期の均一配向に戻すことにより前記書込まれた情報
    を消去することを特徴とする光記録方式。
JP60121493A 1985-06-06 1985-06-06 光記録方式 Pending JPS61280046A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60121493A JPS61280046A (ja) 1985-06-06 1985-06-06 光記録方式

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60121493A JPS61280046A (ja) 1985-06-06 1985-06-06 光記録方式

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Publication Number Publication Date
JPS61280046A true JPS61280046A (ja) 1986-12-10

Family

ID=14812527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60121493A Pending JPS61280046A (ja) 1985-06-06 1985-06-06 光記録方式

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JP (1) JPS61280046A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62283433A (ja) * 1986-02-04 1987-12-09 レ−ム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 可逆的光学的情報記憶法
US5150339A (en) * 1989-04-24 1992-09-22 Hitachi, Ltd. Optical disk medium and its application method and system
JP2006332609A (ja) * 2005-04-28 2006-12-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 記憶装置および半導体装置
US7550181B2 (en) 1999-01-08 2009-06-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Information recording medium
US8264889B2 (en) 2005-04-28 2012-09-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Memory device and semiconductor device

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JP2006332609A (ja) * 2005-04-28 2006-12-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 記憶装置および半導体装置
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