JPS61292232A - 光学ヘツド - Google Patents
光学ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61292232A JPS61292232A JP60133250A JP13325085A JPS61292232A JP S61292232 A JPS61292232 A JP S61292232A JP 60133250 A JP60133250 A JP 60133250A JP 13325085 A JP13325085 A JP 13325085A JP S61292232 A JPS61292232 A JP S61292232A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- prism
- beam splitter
- polarizing beam
- laser beam
- optical head
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ディスクを用いた情報記録再生装置の光学ヘ
ッドに関するものであシ、特に屈折率が相異なる2個の
プリズムによって構成された、偏光ビームスプリッタ−
を有する光学ヘッドに関するものである。
ッドに関するものであシ、特に屈折率が相異なる2個の
プリズムによって構成された、偏光ビームスプリッタ−
を有する光学ヘッドに関するものである。
従来の技術
従来、光学ヘッドは第8図に示すような構成となってい
た。すなわち、半導体レーザー16から出たレーザービ
ーム17は、 コリメーターレンズ18を通過し、偏光ビームスプリッ
タ−19に到達する。この偏光ビームスプリッタ−19
は、プリズム2ケからなり立っておシ、屈折率は1.6
2である(BK−7)。これらのプリズムの間には、T
iO2,SiO2からなる多層膜20が17層形成され
ておシその特性を第9図に示す。縦軸が透過率を示し、
横軸は波長を示す。
た。すなわち、半導体レーザー16から出たレーザービ
ーム17は、 コリメーターレンズ18を通過し、偏光ビームスプリッ
タ−19に到達する。この偏光ビームスプリッタ−19
は、プリズム2ケからなり立っておシ、屈折率は1.6
2である(BK−7)。これらのプリズムの間には、T
iO2,SiO2からなる多層膜20が17層形成され
ておシその特性を第9図に示す。縦軸が透過率を示し、
横軸は波長を示す。
P偏光透過率98壬以上、S偏光反射率98%以上の範
囲は約60−である。
囲は約60−である。
レーザービーム17はP偏光で、偏光ビームスプリッタ
−19に入射するので、透過し、ス板21に到達する。
−19に入射するので、透過し、ス板21に到達する。
そして集光レンズ22を通過して、光デイスク23上に
集束する。
集束する。
集束した光は反射し集光レンズ22、ス板21を経て、
偏光ビームスグリツタ−19に到達すムこの時、レーザ
ービームは、S偏光となっているため、反射分離されビ
ーム24として直角方向に進む。ビーム24はミラー2
5によって半分が反射されビーム26となってトラッキ
ング検出器27に照射される。ビーム24の残りの光束
は集光レンズ28によって絞り込まれ、フォーカス誤差
検出器29に照射される。
偏光ビームスグリツタ−19に到達すムこの時、レーザ
ービームは、S偏光となっているため、反射分離されビ
ーム24として直角方向に進む。ビーム24はミラー2
5によって半分が反射されビーム26となってトラッキ
ング検出器27に照射される。ビーム24の残りの光束
は集光レンズ28によって絞り込まれ、フォーカス誤差
検出器29に照射される。
発明が解決しようとする問題点
レーザビームは、偏光ビームスプリッタ−に対して垂直
に入射し、その−2ま直進して出射され、光ディスクに
到達する。反射したレーザービームは、再び偏向ビーム
スプリッタ−に戻るが、今度は直角方向に反射し、各検
出器に至る。従って、偏光ビームスプリッタ−に対して
、半導体レーザ。
に入射し、その−2ま直進して出射され、光ディスクに
到達する。反射したレーザービームは、再び偏向ビーム
スプリッタ−に戻るが、今度は直角方向に反射し、各検
出器に至る。従って、偏光ビームスプリッタ−に対して
、半導体レーザ。
光ディスク、検出器間の相対関係が直線・直角方向に決
まってしまい、第1図に示すような光学系を、直角二等
辺三角プリズムを用いて構成できなかった。
まってしまい、第1図に示すような光学系を、直角二等
辺三角プリズムを用いて構成できなかった。
また、偏光ビームスプリッタ−を、光学ヘッドとして使
用する際満足しておかなければならない特性は、830
−±1o−の範囲で、S波反射率98係以上、P波透過
率98チ以上であることが、我々の実験でわかった。本
特性を屈折率n=1.52の2ケのプリズムと、その間
に形成したT ! 02と5102の交互多層膜で実現
するには少なくとも17層必要であった。
用する際満足しておかなければならない特性は、830
−±1o−の範囲で、S波反射率98係以上、P波透過
率98チ以上であることが、我々の実験でわかった。本
特性を屈折率n=1.52の2ケのプリズムと、その間
に形成したT ! 02と5102の交互多層膜で実現
するには少なくとも17層必要であった。
問題点を解決するための手段
偏光ビームスプリッタ−を構成している第一のプリズム
の屈折率をn=1.73〜1.82 とし、また第二の
プリズムは、第一のプリズムとは異なった屈折率のプリ
ズムを使用する。
の屈折率をn=1.73〜1.82 とし、また第二の
プリズムは、第一のプリズムとは異なった屈折率のプリ
ズムを使用する。
作 用
偏光ビームスプリッタ−を構成するプリズムの屈折率を
相異なるものとすることにより、レーザービームの光路
を変化させることができる。またその一つのプリズムの
屈折率をn=1.76〜1.85にすることにより従来
より少、ない層数で、光学ヘッドの特性を満足すること
ができる。
相異なるものとすることにより、レーザービームの光路
を変化させることができる。またその一つのプリズムの
屈折率をn=1.76〜1.85にすることにより従来
より少、ない層数で、光学ヘッドの特性を満足すること
ができる。
実施例
第1図に本発明の一実施例における光学ヘッドの概略図
を示す。第1図に示すように半導体レーザー1より発振
したレーザービーム2は、コリメーターレンズ3によシ
平行光となシ、偏光ビームスプリッタ−4に到達する。
を示す。第1図に示すように半導体レーザー1より発振
したレーザービーム2は、コリメーターレンズ3によシ
平行光となシ、偏光ビームスプリッタ−4に到達する。
レーザービームは偏光ビームスプリッタ−4に対してP
偏光となるように半導体レーザー1が設置されているの
で、これを透過しレーザービーム8となる。
偏光となるように半導体レーザー1が設置されているの
で、これを透過しレーザービーム8となる。
偏光ビームスプリッタ−4は、屈折率n1=1−52(
BK7 )の直角二等辺三角プリズム6と、屈折率n2
=1.82の直角二等辺三角形プリズム6で構成されて
いる。従って、各境界面で屈折するので、レーザービー
ム8を直角二等辺三角プリズム6のA面に対して垂直に
出射させるために、半導体レーザー1から発光したレー
ザービーム2を直角三角プリズム60B面にθ中19.
S°で入射させている。直角二等辺三角プリズムの屈折
率の組み合わせを適当に変えることにより、入射角はお
よそ。
BK7 )の直角二等辺三角プリズム6と、屈折率n2
=1.82の直角二等辺三角形プリズム6で構成されて
いる。従って、各境界面で屈折するので、レーザービー
ム8を直角二等辺三角プリズム6のA面に対して垂直に
出射させるために、半導体レーザー1から発光したレー
ザービーム2を直角三角プリズム60B面にθ中19.
S°で入射させている。直角二等辺三角プリズムの屈折
率の組み合わせを適当に変えることにより、入射角はお
よそ。
Oo〜200の範囲で変化させることができる。7は、
S 102 、 T z 02からなる誘電体多層膜で
あシ、第4図に示すような偏光分割特性をもっている。
S 102 、 T z 02からなる誘電体多層膜で
あシ、第4図に示すような偏光分割特性をもっている。
1 λ
光は、集光レンズ10、−板9を通り、再び偏光ビーム
スプリッタ−4に到達する。このときレーザービームは
S偏光となっているので反射し、直角に進路が曲げられ
る。そしてその一部はミラー12によって反射し、トラ
ッキング検出器13へ到達する。残りの一部は集光レン
ズ14を通りフォーカス誤差信号検出器15へ到達する
。
スプリッタ−4に到達する。このときレーザービームは
S偏光となっているので反射し、直角に進路が曲げられ
る。そしてその一部はミラー12によって反射し、トラ
ッキング検出器13へ到達する。残りの一部は集光レン
ズ14を通りフォーカス誤差信号検出器15へ到達する
。
第3図に第2の実施例を示す。
主な構成は、第1図と同じであるので、ここでは、レー
ザービームの入射角、出射角と、半導体レーザ、検出器
、光ディスク等の位置関係を説明すも第一の実施例では
、レーザービームは、偏光ビームスプリッタ−のB面に
角度θをもって入射し、A面に垂直な方向に出射した。
ザービームの入射角、出射角と、半導体レーザ、検出器
、光ディスク等の位置関係を説明すも第一の実施例では
、レーザービームは、偏光ビームスプリッタ−のB面に
角度θをもって入射し、A面に垂直な方向に出射した。
光ディスクより反射してきた光は、偏光ビームスプリッ
タ−4により、直角に曲げられた。従って検出器はこの
光路上に設置する必要がある。
タ−4により、直角に曲げられた。従って検出器はこの
光路上に設置する必要がある。
しかし第二の実施例では、半導体レーザー1より発光し
たレーザービーム2は、偏光ビーム亥プリッタ−4のA
面に垂直に入射しB面よシ角度θをもって出射する。光
ディスク11からの反射光は、再ヒ偏光ビームスプリッ
タ−4のB面に角度θで入射し、0面の角度θ方向に反
射する。
たレーザービーム2は、偏光ビーム亥プリッタ−4のA
面に垂直に入射しB面よシ角度θをもって出射する。光
ディスク11からの反射光は、再ヒ偏光ビームスプリッ
タ−4のB面に角度θで入射し、0面の角度θ方向に反
射する。
このように、偏光ビームスプリッタ−4を構成するプリ
ズムを適当に選ぶことにより、その入射角度、出射角度
θを変えることができ、その結果として、各部品の配置
関係に融通性をもたせることができるのである。
ズムを適当に選ぶことにより、その入射角度、出射角度
θを変えることができ、その結果として、各部品の配置
関係に融通性をもたせることができるのである。
そしてこれは、装置全体の空スペースの有効利用につな
がり、装置の小型化を可能にするのである。
がり、装置の小型化を可能にするのである。
次にビーム整形について説明する。
第1図の光学ヘッドは、偏光ビームスプリッタ−4に対
し、角度θで入射し、A面に垂直に出射する。そして、
レーザービームのX、Y断面を見ると下の第2図のよう
になる。従ってレーザービームは横方向に拡大される。
し、角度θで入射し、A面に垂直に出射する。そして、
レーザービームのX、Y断面を見ると下の第2図のよう
になる。従ってレーザービームは横方向に拡大される。
今プリズム6の屈折率を1.52.プリズム6の屈折率
を1.82とすると、ビームは、約1.38倍拡大され
る。この性質を利用してレーザービームを整形すること
ができる。
を1.82とすると、ビームは、約1.38倍拡大され
る。この性質を利用してレーザービームを整形すること
ができる。
次に本発明の光学ヘッドの偏光ビーム
スプリッタ−について説明する。
第4図に偏光ビームスプリッタ−の偏光分割特性の一例
を示す。横軸が波長で縦軸が透過率を示す。使用したプ
リズムはn1# 1.76 、 n2# 1.52であ
り、ソノ間KHLHLHLH(7)構成でTiO2(H
;n埃2.33)と °、S i 02 (L
; n=1.48 ) とを7層形成したものである
。n、は半導体レーザーに近い方のプリズムの屈折率を
示し、n2は遠い方を示す。
を示す。横軸が波長で縦軸が透過率を示す。使用したプ
リズムはn1# 1.76 、 n2# 1.52であ
り、ソノ間KHLHLHLH(7)構成でTiO2(H
;n埃2.33)と °、S i 02 (L
; n=1.48 ) とを7層形成したものである
。n、は半導体レーザーに近い方のプリズムの屈折率を
示し、n2は遠い方を示す。
第5図にn=1.52のプリズム2ケを用いn=1.7
3〜1.82のものを用いない、偏光ビームスプリッタ
−の特性を示す。これはTiOと3102を交互に7層
形成したものであるが、上記第1図のn1=1.76、
n2=1.52 Qプリズムを用いた時と比べて特性が
非常に悪い。
3〜1.82のものを用いない、偏光ビームスプリッタ
−の特性を示す。これはTiOと3102を交互に7層
形成したものであるが、上記第1図のn1=1.76、
n2=1.52 Qプリズムを用いた時と比べて特性が
非常に悪い。
第6図に%n =1.82 、z12=1.52 の
プリズムを使用した結果を示す。
プリズムを使用した結果を示す。
第7図に111=1,743 、 n2=1.62
のプリズムを使用した結果を示す。この様に、偏光ビー
ムスプリッタのプリズムヲn1=1.73〜1.52K
fれば、従来より少ない膜数でかつ、波長特性がブロー
ドな結果を得ることができるのである。なお、上記すべ
てT 102の屈折率2−33 S 102の屈折率は
1.48としている。
のプリズムを使用した結果を示す。この様に、偏光ビー
ムスプリッタのプリズムヲn1=1.73〜1.52K
fれば、従来より少ない膜数でかつ、波長特性がブロー
ドな結果を得ることができるのである。なお、上記すべ
てT 102の屈折率2−33 S 102の屈折率は
1.48としている。
TlO2とSiO2を選んだ理由としては、T 102
の膜応力は引張りであり、5lo2の膜応力は圧縮であ
るため、交互多層膜として考えると膜の応力を打ち消す
方向に働くからである。これによシ耐久性がよくなるの
である。
の膜応力は引張りであり、5lo2の膜応力は圧縮であ
るため、交互多層膜として考えると膜の応力を打ち消す
方向に働くからである。これによシ耐久性がよくなるの
である。
T 102の屈折率は、形成条件によってn=2.2〜
2.7の範囲が得られるが、我々の実験結果ではn=2
.33程度のものが安定することがわかったため、この
値を採用した。
2.7の範囲が得られるが、我々の実験結果ではn=2
.33程度のものが安定することがわかったため、この
値を採用した。
プリズムの屈折率を1.73〜1.82と限定した理由
は、n=1.73以下では、7層構造で特性を出すこと
が困難であるからであり、またn = 1.82は現状
によくつかわれているプリズムの最高値であるからであ
る。
は、n=1.73以下では、7層構造で特性を出すこと
が困難であるからであり、またn = 1.82は現状
によくつかわれているプリズムの最高値であるからであ
る。
発明の効果 4、
本発明の光学ヘッドは次の様な効果を有する。
本発明の光学ヘッドは次の様な効果を有する。
(1)偏光ビームスプリッタ−のプリズムの屈折率を適
当に変化させることにより、レーザービームの光路を変
化させることができる。この結果、半導体レーザ、各種
検出器、光ディスクの位置関係に融通性が生まれ、装置
全体の空スペースを有効に利用することによシ、装置を
小型化することができる。
当に変化させることにより、レーザービームの光路を変
化させることができる。この結果、半導体レーザ、各種
検出器、光ディスクの位置関係に融通性が生まれ、装置
全体の空スペースを有効に利用することによシ、装置を
小型化することができる。
(2) レーザービームが偏光ビームスプリッタ−を
通過する前後で、ビームが拡大・縮小されるため、偏光
ビームスプリッタ−でビーム整形を行なうことができる
。
通過する前後で、ビームが拡大・縮小されるため、偏光
ビームスプリッタ−でビーム整形を行なうことができる
。
(至))偏光ビームスプリッタ−の膜層数を従来の17
層から7層構成にすることができ、しかもP偏光ビーム
の透過率が98係以上で、S偏光ビームの反射率が98
%以上である範囲は約50nmと狭かったが、本発明の
構成にすると、200 nmの広範囲であるため、製造
が容易となる。
層から7層構成にすることができ、しかもP偏光ビーム
の透過率が98係以上で、S偏光ビームの反射率が98
%以上である範囲は約50nmと狭かったが、本発明の
構成にすると、200 nmの広範囲であるため、製造
が容易となる。
第1図、第3図はそれぞれ本発明の実施例における光学
ヘッドの原理図、第2図は同光学ヘッド説明のだめのビ
ーム形状を示す図、第4図〜第7図は同光学ヘッドの偏
光ビームスプリッタ−の分光特性図、第8図は従来の光
学ヘッドの原理図、第9図は従来の偏光ビームスプリッ
タ−の分光特性図である。 1・・・・・・半導体レーザー、3・・・・・・コリメ
ータレンズ、4・・・・・・偏光ビームスプリッタ、5
,6・・・・・・プリズム、2,8・・・・・・レーザ
ービーム、7・・・・・・誘電体多層膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第3図 丁RANSt11 TTANCE
11≧す、 填′:; +H+:+〉 ≧N″′ TRANSMT丁TANCE TF、ANS/′IITTANCE 囚T
尺ANSMITTANCε 因8ミ葛 第 8 図
ヘッドの原理図、第2図は同光学ヘッド説明のだめのビ
ーム形状を示す図、第4図〜第7図は同光学ヘッドの偏
光ビームスプリッタ−の分光特性図、第8図は従来の光
学ヘッドの原理図、第9図は従来の偏光ビームスプリッ
タ−の分光特性図である。 1・・・・・・半導体レーザー、3・・・・・・コリメ
ータレンズ、4・・・・・・偏光ビームスプリッタ、5
,6・・・・・・プリズム、2,8・・・・・・レーザ
ービーム、7・・・・・・誘電体多層膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第3図 丁RANSt11 TTANCE
11≧す、 填′:; +H+:+〉 ≧N″′ TRANSMT丁TANCE TF、ANS/′IITTANCE 囚T
尺ANSMITTANCε 因8ミ葛 第 8 図
Claims (2)
- (1)屈折率が相異なる2個のプリズムの間に誘電体多
層膜を形成して構成した偏光ビームスプリッターを有す
る光学ヘッド。 - (2)偏光ビームスプリッターを構成する一つのプリズ
ムの屈折率が1.73〜1.82であり、誘電体多層膜
がTiO_2とSiO_2の交互多層膜である特許請求
の範囲第1項記載の光学ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60133250A JPS61292232A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 光学ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60133250A JPS61292232A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 光学ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61292232A true JPS61292232A (ja) | 1986-12-23 |
Family
ID=15100215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60133250A Pending JPS61292232A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 光学ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61292232A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6412222U (ja) * | 1987-07-07 | 1989-01-23 | ||
| JPH03104033A (ja) * | 1989-09-18 | 1991-05-01 | Olympus Optical Co Ltd | 光学式読み取り装置 |
| US5581403A (en) * | 1992-10-01 | 1996-12-03 | Olympus Optical Co., Ltd. | Beam shaping and beam splitting device and optical head comprising the same |
-
1985
- 1985-06-19 JP JP60133250A patent/JPS61292232A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6412222U (ja) * | 1987-07-07 | 1989-01-23 | ||
| JPH03104033A (ja) * | 1989-09-18 | 1991-05-01 | Olympus Optical Co Ltd | 光学式読み取り装置 |
| US5581403A (en) * | 1992-10-01 | 1996-12-03 | Olympus Optical Co., Ltd. | Beam shaping and beam splitting device and optical head comprising the same |
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