JPS6130663A - 粉末状固体の表面被覆装置 - Google Patents
粉末状固体の表面被覆装置Info
- Publication number
- JPS6130663A JPS6130663A JP15383284A JP15383284A JPS6130663A JP S6130663 A JPS6130663 A JP S6130663A JP 15383284 A JP15383284 A JP 15383284A JP 15383284 A JP15383284 A JP 15383284A JP S6130663 A JPS6130663 A JP S6130663A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powdery solid
- sample
- coating
- solid
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 239000011324 bead Substances 0.000 abstract description 7
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 abstract description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 12
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/223—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating specially adapted for coating particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、真空容器中で、粉末状固体の表面に被覆用物
質を被着させるための装置の改良に関するものである。
質を被着させるための装置の改良に関するものである。
さらに詳しくいえば、本発明は、無機光てん材粉末表面
を金属で被覆したり、ガラス微小球体表面に無機化合物
被覆を設ける場合のように、真空蒸着、イオンブレーテ
ィング、スバツタリングなどを用いて粉末状固体表面に
被覆用物質を被着する場合、上記粉末状固体全転動させ
ることによりその表面に均一な被覆を形成させることが
できる装置に関するものである。
を金属で被覆したり、ガラス微小球体表面に無機化合物
被覆を設ける場合のように、真空蒸着、イオンブレーテ
ィング、スバツタリングなどを用いて粉末状固体表面に
被覆用物質を被着する場合、上記粉末状固体全転動させ
ることによりその表面に均一な被覆を形成させることが
できる装置に関するものである。
従来の技術
これまで、粉末状固体の表面に被覆を施こす方法として
は、例えば特殊な組成のめつき液中に雲母を分散させて
無電解めっきすることによりニッケルなどの金属を被覆
する方法、粉末状固体を流動させながらその表面に熱分
解カーボンを被着させる方法などが知られているが、こ
れらの方法は被覆用物質が限定され、利用範囲が制限さ
れるのを免れない。
は、例えば特殊な組成のめつき液中に雲母を分散させて
無電解めっきすることによりニッケルなどの金属を被覆
する方法、粉末状固体を流動させながらその表面に熱分
解カーボンを被着させる方法などが知られているが、こ
れらの方法は被覆用物質が限定され、利用範囲が制限さ
れるのを免れない。
他方、基体表面に金属その他の物質を被覆する方法とし
て、真空蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリ
ング法などの真空条件下で、被覆用物質をガス化又はイ
オン化し、これを基体表面に衝突させて被覆する方法が
知られている。これらの方法は、比較的広範囲の被覆用
物質に適用することができ、品質の良好な製品が得られ
る点で近年時計用のケースやバンド、各種アクセサリ−
1電子部品などの被覆に広く用いられるようになってき
たが、これらの方法においては、被覆すべき表面を露出
して被覆用物質のガス又はイオンと接触しうるようにす
る必要があるため、何層にも重なり合い露出しない状態
で処理される粉末状固体の被覆には利用できないという
欠点があった。このような欠点を克服するKは、かきま
ぜ、振シまぜ、流動化などにより固体粒子を常に転動さ
せ、各表面が一様に上記のガス又はイオンに接触しうる
ようにすればよいのであるが、前記の方法はいずれも真
空容器内で行う必要があシ、大気中で使用されている通
常の機械的手段によるかきまぜ、振りまぜ、流動化を適
用することができないため。
て、真空蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリ
ング法などの真空条件下で、被覆用物質をガス化又はイ
オン化し、これを基体表面に衝突させて被覆する方法が
知られている。これらの方法は、比較的広範囲の被覆用
物質に適用することができ、品質の良好な製品が得られ
る点で近年時計用のケースやバンド、各種アクセサリ−
1電子部品などの被覆に広く用いられるようになってき
たが、これらの方法においては、被覆すべき表面を露出
して被覆用物質のガス又はイオンと接触しうるようにす
る必要があるため、何層にも重なり合い露出しない状態
で処理される粉末状固体の被覆には利用できないという
欠点があった。このような欠点を克服するKは、かきま
ぜ、振シまぜ、流動化などにより固体粒子を常に転動さ
せ、各表面が一様に上記のガス又はイオンに接触しうる
ようにすればよいのであるが、前記の方法はいずれも真
空容器内で行う必要があシ、大気中で使用されている通
常の機械的手段によるかきまぜ、振りまぜ、流動化を適
用することができないため。
これまで、これらの方法で粉末状固体に被覆を施こすこ
とは実現していなかった。
とは実現していなかった。
発明が解決しようとする問題点
本発明の目的は、真空蒸着法、イオンブレーティング法
、スパッタリング法などの真空容器中で行う表面被覆法
を用いて、粉末状固体の表面に均一な被覆を施こすため
の装置を提供することである。
、スパッタリング法などの真空容器中で行う表面被覆法
を用いて、粉末状固体の表面に均一な被覆を施こすため
の装置を提供することである。
、1・、1本発明のもう一つの目的は、真空容器中に載
置; した粉末状固体を転動させて、効果的に表面被覆゛1 を行わせるための転勤手段を提供することである。
置; した粉末状固体を転動させて、効果的に表面被覆゛1 を行わせるための転勤手段を提供することである。
問題点を解決するための手段
本発明に従えば、真空容器中で、粉末状固体の表面に被
覆用物質を被着させる装置において、上記粉末状固体め
載置台を機械的振動発生装置に形成するとともに、この
装置を真空容器外に別に設けた発振装置に、増幅装置を
介して接続してなる粉末状固体の表面被覆装置により、
その目的を達成することができる。
覆用物質を被着させる装置において、上記粉末状固体め
載置台を機械的振動発生装置に形成するとともに、この
装置を真空容器外に別に設けた発振装置に、増幅装置を
介して接続してなる粉末状固体の表面被覆装置により、
その目的を達成することができる。
次に添付図面によって、本発明の装置の1例を具体的に
説明する。1は真空容器であり、通常はガラス製であっ
て、これは真空ポンプ2に接続し、必要時にこれによっ
て内容が真空にもたらされるようになっている。11は
蒸着用金属ホルダーであって、この中に被覆用物質、例
えば蒸着用金属5が収容され、これをとりまく蒸着用ヒ
ーター3およびこれに接続する加熱用電源4によって加
熱されてガス化される。粉末用固体試料6は適当な容器
に収納され、載置台8上に置かれている。この載置台は
機械的振動発生装置に形成され、導線により真空容器外
の増幅装置10を経て発振装置9に接続している。
説明する。1は真空容器であり、通常はガラス製であっ
て、これは真空ポンプ2に接続し、必要時にこれによっ
て内容が真空にもたらされるようになっている。11は
蒸着用金属ホルダーであって、この中に被覆用物質、例
えば蒸着用金属5が収容され、これをとりまく蒸着用ヒ
ーター3およびこれに接続する加熱用電源4によって加
熱されてガス化される。粉末用固体試料6は適当な容器
に収納され、載置台8上に置かれている。この載置台は
機械的振動発生装置に形成され、導線により真空容器外
の増幅装置10を経て発振装置9に接続している。
パ杼用
・1本発明は上記のように構成され、発振装置9に゛よ
り発生する0、1〜100OH2の電気的な接続振動に
よる電気信号を、増幅装置10により所要太きさの出力
電圧に増幅させ、この出力電圧により機械的振動発生装
置8、例えば電磁コイルと永久磁石振動子よりなる最も
一般的な電磁振動機を作動させ、粉末状固体試料6を振
動により転勤状態に保持しながら、蒸発中の金属蒸気7
と接触させ。
り発生する0、1〜100OH2の電気的な接続振動に
よる電気信号を、増幅装置10により所要太きさの出力
電圧に増幅させ、この出力電圧により機械的振動発生装
置8、例えば電磁コイルと永久磁石振動子よりなる最も
一般的な電磁振動機を作動させ、粉末状固体試料6を振
動により転勤状態に保持しながら、蒸発中の金属蒸気7
と接触させ。
所要の蒸着を行うものである。
この場合、上記粉末状固体試料6の転動は、各粒子間に
乾燥摩擦が作用し、この転勤の開始時期は粉末状固体試
料の形状、材質1粒度によシ定まると考えられ、この転
勤に必要な振幅つまり振動発生装置を作動する電気的接
続振動の周波数により変化する。このため、前記発振装
置9は、粉末状固体試料6の性質、形状に応じてその発
生周波数を大幅に変化できることが必要であり、したが
って発生した電気信号を増幅する増幅装置10が必要と
なってくる。
乾燥摩擦が作用し、この転勤の開始時期は粉末状固体試
料の形状、材質1粒度によシ定まると考えられ、この転
勤に必要な振幅つまり振動発生装置を作動する電気的接
続振動の周波数により変化する。このため、前記発振装
置9は、粉末状固体試料6の性質、形状に応じてその発
生周波数を大幅に変化できることが必要であり、したが
って発生した電気信号を増幅する増幅装置10が必要と
なってくる。
発明の効果
この発明は以上説明したように、機械的振動装置8上の
粉末状固体試料6は、上下左右前後の振動により転動し
て外表面の全体が現われ、したが・らて表面全体に均等
の被覆を施こすことができるから極めて能率的である。
粉末状固体試料6は、上下左右前後の振動により転動し
て外表面の全体が現われ、したが・らて表面全体に均等
の被覆を施こすことができるから極めて能率的である。
実施例
次に実施例によシ本発明をさらに詳細に説明する。
例1
前記図面に示した装置において、真空容器をガラス製真
空容器(直径4201111、高さ630111)とし
たものを用いて、薄片状ガラスの表面に亜鉛を被覆する
ために発振装置で発生させた周波数200Hzの微弱な
サイン波を増巾装置で3Wに増巾したのち、機械的振動
発生装置に加え、その上にのせた平均直径105μmの
薄片状ガラス109を転動させながら% I X 10
−5Torrの真空下で0.52の亜鉛を約1分間、6
00℃に加熱して下向きに蒸着したO このようにして、調製した亜鉛被覆薄片状ガラスには亜
鉛層が、薄片状ガラスの両面ともにすきまなく被覆され
ていることが判った。
空容器(直径4201111、高さ630111)とし
たものを用いて、薄片状ガラスの表面に亜鉛を被覆する
ために発振装置で発生させた周波数200Hzの微弱な
サイン波を増巾装置で3Wに増巾したのち、機械的振動
発生装置に加え、その上にのせた平均直径105μmの
薄片状ガラス109を転動させながら% I X 10
−5Torrの真空下で0.52の亜鉛を約1分間、6
00℃に加熱して下向きに蒸着したO このようにして、調製した亜鉛被覆薄片状ガラスには亜
鉛層が、薄片状ガラスの両面ともにすきまなく被覆され
ていることが判った。
比較例1
例1と向−の装置を用い、機械的振動発生装置を作動さ
せないで同一形状の薄片状ガラスに対して亜鉛の蒸着を
行った結果、薄片状ガラスの下面には皮膜を形成するこ
とができず、上面でも、薄片状ガラスの重なり合いによ
って影になる部分には皮膜全形成することができなかっ
た。すなわち上面で、しかも蒸発源に面した部分にしか
皮膜全形成することができないことが判った。
せないで同一形状の薄片状ガラスに対して亜鉛の蒸着を
行った結果、薄片状ガラスの下面には皮膜を形成するこ
とができず、上面でも、薄片状ガラスの重なり合いによ
って影になる部分には皮膜全形成することができなかっ
た。すなわち上面で、しかも蒸発源に面した部分にしか
皮膜全形成することができないことが判った。
例2
例1と全く同一の装置を用いて、平均直径3.5mmの
活性アルミナビーズの表面に亜鉛を被覆した。
活性アルミナビーズの表面に亜鉛を被覆した。
すなわち発振装置で発生させた周波数50Hzの微弱な
サイン波を増巾装置で0.3Wに増巾したのち、機械的
振動発生装置に加えて、活性アルミナビーズ51を転動
させながら、I X 10 ’Torrの真空下で亜鉛
を1分間600℃に加熱して下向きに蒸着した。このよ
うにして調製した亜鉛被覆活性アルミナビーズは、活性
アルミナビーズの全ての面が亜鉛層ですきまなく被覆さ
れているのが判った。
サイン波を増巾装置で0.3Wに増巾したのち、機械的
振動発生装置に加えて、活性アルミナビーズ51を転動
させながら、I X 10 ’Torrの真空下で亜鉛
を1分間600℃に加熱して下向きに蒸着した。このよ
うにして調製した亜鉛被覆活性アルミナビーズは、活性
アルミナビーズの全ての面が亜鉛層ですきまなく被覆さ
れているのが判った。
比較例2
例2と同一の装置を用い、機械的振動発生装置を作動さ
せず、全く同一の手順・条件によシ、例2で用いたのと
同一形状の活性アルミナビーズに対して亜鉛の蒸着を行
った。その結果、亜鉛の蒸、発源に面した活性アルミナ
ビーズの面にはすきまのない皮膜を形成することができ
たが、その反対側の面には亜鉛蒸気のまわりこみにより
、若干の被覆が行われるものの、底になる面や、隣接す
るビーズとふれ合う部分には皮膜を形成することができ
なかった。
せず、全く同一の手順・条件によシ、例2で用いたのと
同一形状の活性アルミナビーズに対して亜鉛の蒸着を行
った。その結果、亜鉛の蒸、発源に面した活性アルミナ
ビーズの面にはすきまのない皮膜を形成することができ
たが、その反対側の面には亜鉛蒸気のまわりこみにより
、若干の被覆が行われるものの、底になる面や、隣接す
るビーズとふれ合う部分には皮膜を形成することができ
なかった。
図面は、この発明の説明図である。
的振動発生装置、9・・・発振装置、10・・・増幅装
置、11・・・蒸着用金属ホルダー。
置、11・・・蒸着用金属ホルダー。
Claims (1)
- 1 真空容器中で、粉末状固体の表面に被覆用物質を被
着させる装置において、上記粉末状固体の載置台を機械
的振動発生装置に形成するとともに、この装置を真空容
器外に別に設けた発振装置に、増幅装置を介して接続し
てなる粉末状固体の表面被覆装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15383284A JPS6130663A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 粉末状固体の表面被覆装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15383284A JPS6130663A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 粉末状固体の表面被覆装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6130663A true JPS6130663A (ja) | 1986-02-12 |
Family
ID=15571063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15383284A Pending JPS6130663A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 粉末状固体の表面被覆装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6130663A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004059031A1 (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-15 | Youtec Co.,Ltd. | 多角バレルスパッタ装置、多角バレルスパッタ方法及びそれにより形成された被覆微粒子、マイクロカプセル及びその製造方法 |
| JP2016122750A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 株式会社島津製作所 | ワークホルダ及び成膜装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4836082A (ja) * | 1971-09-09 | 1973-05-28 |
-
1984
- 1984-07-23 JP JP15383284A patent/JPS6130663A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4836082A (ja) * | 1971-09-09 | 1973-05-28 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004059031A1 (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-15 | Youtec Co.,Ltd. | 多角バレルスパッタ装置、多角バレルスパッタ方法及びそれにより形成された被覆微粒子、マイクロカプセル及びその製造方法 |
| JP2016122750A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 株式会社島津製作所 | ワークホルダ及び成膜装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB2077770A (en) | Gasless iron plating | |
| CA2107242A1 (en) | An Evaporation System for Gas Jet Deposition on Thin Film Materials | |
| JPS5941510B2 (ja) | 酸化ベリリウム膜とその形成方法 | |
| EP0546006A1 (en) | Ion plating method | |
| CN105349955B (zh) | 用在磁控溅射设备中的一体化阳极和活性反应气体源装置 | |
| JPS5955368A (ja) | 薄膜デポジツト法 | |
| JP2655094B2 (ja) | 電子銃蒸着装置 | |
| JPS6130663A (ja) | 粉末状固体の表面被覆装置 | |
| EP0047456A1 (en) | Ion plating without the introduction of gas | |
| US20060172065A1 (en) | Vacuum deposition of coating materials on powders | |
| US6478876B1 (en) | Apparatus for coating a body by using ion plating | |
| JPS588640B2 (ja) | スピ−カ−シンドウバンノセイゾウホウ | |
| JPH0257476B2 (ja) | ||
| JPH06158350A (ja) | 基体の被覆方法 | |
| JP2843125B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JP2604854B2 (ja) | 回路板のスルーホール形成方法 | |
| JP3152548B2 (ja) | 高周波誘導プラズマ成膜装置 | |
| KR102726615B1 (ko) | 분말용 스퍼터 장치 | |
| JPH04350156A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| CN115181941A (zh) | 一种具有微孔膜蒸发源的真空沉积装置 | |
| JPH11172419A (ja) | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 | |
| JP3329117B2 (ja) | イオンプレーティング法及び装置 | |
| JPS5834385A (ja) | 高温プラズマ容器内壁の被覆方法 | |
| JPS6465261A (en) | Vapor deposition method by plasma ionization | |
| JPH08239761A (ja) | スパッタリング装置 |