JPS6135523B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6135523B2 JPS6135523B2 JP57078958A JP7895882A JPS6135523B2 JP S6135523 B2 JPS6135523 B2 JP S6135523B2 JP 57078958 A JP57078958 A JP 57078958A JP 7895882 A JP7895882 A JP 7895882A JP S6135523 B2 JPS6135523 B2 JP S6135523B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- dyeing
- film
- region
- optical filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/331—Coatings for devices having potential barriers for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
Landscapes
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学フイルターの製造方法に関する。
従来、たとえばテレビカメラ用のカラーフイル
ターを作成する場合、必要な分光特性を示す色を
5×10μm領域の微小面積に選択的に染色パター
ンを形成する必要がある。この染色による3色カ
ラーフイルターの従来の製造方法として第1図、
第2図に示す方法がある。第1図に示す方法は、
透明ガラス基板1上に、染色可能なゼラチンにク
ロム酸アンモニウムを加えてネガ形の感光特性を
与えた感光膜2を形成a、マスク3を用いて光4
を膜2に選択的に照射し、膜2の光照射部分のみ
を残して他を除去し残された部分を染色してカラ
ーフイルタの1色となる染色パターン5を得る
b。
ターを作成する場合、必要な分光特性を示す色を
5×10μm領域の微小面積に選択的に染色パター
ンを形成する必要がある。この染色による3色カ
ラーフイルターの従来の製造方法として第1図、
第2図に示す方法がある。第1図に示す方法は、
透明ガラス基板1上に、染色可能なゼラチンにク
ロム酸アンモニウムを加えてネガ形の感光特性を
与えた感光膜2を形成a、マスク3を用いて光4
を膜2に選択的に照射し、膜2の光照射部分のみ
を残して他を除去し残された部分を染色してカラ
ーフイルタの1色となる染色パターン5を得る
b。
そして、パターン5を次の染色から保護する中
間膜6を形成したのちc、前述の感光膜形成、マ
スク露光を再びくり返し中間膜6を介してパター
ン5と隣接する色の異なる染色パターン7を形成
する。さらに、同様な工程を再度くり返し中間膜
8を介してパターン5,7と色の異なる染色パタ
ーン9を形成するd。こうして、赤、緑、青など
の染色パターンを順次積み重ねてカラーフイルタ
を作成する。
間膜6を形成したのちc、前述の感光膜形成、マ
スク露光を再びくり返し中間膜6を介してパター
ン5と隣接する色の異なる染色パターン7を形成
する。さらに、同様な工程を再度くり返し中間膜
8を介してパターン5,7と色の異なる染色パタ
ーン9を形成するd。こうして、赤、緑、青など
の染色パターンを順次積み重ねてカラーフイルタ
を作成する。
この第1図の方法では、3回のゼラチン塗布と
3回の染色形状加工および2回の中間膜形成工程
が、染色工程以外に余分に必要であり、微細なカ
〓〓〓
ラーフイルタの製造には極めて不利である。
3回の染色形状加工および2回の中間膜形成工程
が、染色工程以外に余分に必要であり、微細なカ
〓〓〓
ラーフイルタの製造には極めて不利である。
第2図の方法は、透明ガラス基板1上の染色用
膜11上にポジ型フオトレジスト12を塗布して
マスク13にて光14を選択露光しa、染色部分
上のレジスト12を窓あけしてその部分の染色用
膜11を染色して染色パターン15を形成する
b。しかるのち、レジストパターン12を除去
し、前述の工程をくり返す。すなわち新たなレジ
ストパターン16を形成し、マスク17を介して
光18を照射し染色してパターン15と色の異な
る染色パターン19を形成するc。そして、再び
新たなフオトレジスト20を形成しマスク21を
介して光22を照射し同様に染色パターン23を
形成するd。
膜11上にポジ型フオトレジスト12を塗布して
マスク13にて光14を選択露光しa、染色部分
上のレジスト12を窓あけしてその部分の染色用
膜11を染色して染色パターン15を形成する
b。しかるのち、レジストパターン12を除去
し、前述の工程をくり返す。すなわち新たなレジ
ストパターン16を形成し、マスク17を介して
光18を照射し染色してパターン15と色の異な
る染色パターン19を形成するc。そして、再び
新たなフオトレジスト20を形成しマスク21を
介して光22を照射し同様に染色パターン23を
形成するd。
第2図の方法においてもレジスト塗布と窓あけ
加工の工程が多く必要となり、また、染色時に染
料がレジストの窓あけ面積より大きく拡散して染
色され、微細な染色パターンの形成にとつて不利
である。
加工の工程が多く必要となり、また、染色時に染
料がレジストの窓あけ面積より大きく拡散して染
色され、微細な染色パターンの形成にとつて不利
である。
本発明は、感光性有機着色用材料よりなる被膜
を用い、この被膜の光照射部の前記材料自身に有
色物を固定できる官能基を生成し、有色物と官能
基を反応させて光照射部分のみを着色させる方法
を用いて光学フイルターを製造するものであつ
て、たとえば複数色のモザイク状カラーフイルタ
ーの製造に際し、 高解像度(ミクロン領域)
の画像形成ができること、 フオトマスクを用
いた紫外線露光のみで平板上に画像形成ができ、
工程が簡単であること、 染料による着色法に
おいて、着色濃度を感光性着色材料基材に対する
光照射量で制御し、容易に再現性ある着色を行う
こと等が可能である。
を用い、この被膜の光照射部の前記材料自身に有
色物を固定できる官能基を生成し、有色物と官能
基を反応させて光照射部分のみを着色させる方法
を用いて光学フイルターを製造するものであつ
て、たとえば複数色のモザイク状カラーフイルタ
ーの製造に際し、 高解像度(ミクロン領域)
の画像形成ができること、 フオトマスクを用
いた紫外線露光のみで平板上に画像形成ができ、
工程が簡単であること、 染料による着色法に
おいて、着色濃度を感光性着色材料基材に対する
光照射量で制御し、容易に再現性ある着色を行う
こと等が可能である。
すなわち、本発明では、紫外光とフオトマスク
との組合せによる高精度露光を行うとミクロン領
域の微細な部分着色が可能である。したがつて、
本発明の光学フイルターの製造方法を適用すると
カラーテレビカメラ用の撮像管あるいは撮像板に
必要なカラーフイルター(数種類の色のモザイク
画像)を平板上に容易かつ高精度に作成すること
ができる。
との組合せによる高精度露光を行うとミクロン領
域の微細な部分着色が可能である。したがつて、
本発明の光学フイルターの製造方法を適用すると
カラーテレビカメラ用の撮像管あるいは撮像板に
必要なカラーフイルター(数種類の色のモザイク
画像)を平板上に容易かつ高精度に作成すること
ができる。
本発明の具体的な実施方法とその原理について
以下に述べる。
以下に述べる。
感光性有機着色用材料の一例として、チオシア
ナトアセチルスチレン共重合体は350nmより短
波長の紫外光の照射によりこの共重合体中のチオ
シアナトアセチル基は次のように転位してイソチ
オシアナトアセチル基となる。
ナトアセチルスチレン共重合体は350nmより短
波長の紫外光の照射によりこの共重合体中のチオ
シアナトアセチル基は次のように転位してイソチ
オシアナトアセチル基となる。
このイソチオシアナトアセチルスチレン共重合
体は、アルカリまたは塩基の存在下でカチオン染
料により染色できることを本発明者らは見いだし
た。そのメカニズムは次のように考えられる。
体は、アルカリまたは塩基の存在下でカチオン染
料により染色できることを本発明者らは見いだし
た。そのメカニズムは次のように考えられる。
〓〓〓
すなわち、アルカリまたは塩基によりイソチオ
シアナトアセチルスチレンがアニオン座席を作
り、いわゆる染料を固定できる官能基が生成さ
れ、カチオン染料と反応して染色できる。
すなわち、アルカリまたは塩基によりイソチオ
シアナトアセチルスチレンがアニオン座席を作
り、いわゆる染料を固定できる官能基が生成さ
れ、カチオン染料と反応して染色できる。
具体的な着色(染色)条件は、チオシアナトア
セチルスチレンとアセチルスチレン共重合体(チ
オシアナトアセチルスチレン20モル%)の7wt%
のテトラヒドロフラン溶液からスライドガラス上
にフイルム(厚さ約40μm)を作る。このフイル
ムにウシオ製UM102高圧水銀ランプ(UV31フイ
ルタを用いて310nmの光を利用)を10cmの距離
を保つて所定時間の光照射を行なう。なお、照射
光としては350nm以下の波長のものが適当であ
る。
セチルスチレンとアセチルスチレン共重合体(チ
オシアナトアセチルスチレン20モル%)の7wt%
のテトラヒドロフラン溶液からスライドガラス上
にフイルム(厚さ約40μm)を作る。このフイル
ムにウシオ製UM102高圧水銀ランプ(UV31フイ
ルタを用いて310nmの光を利用)を10cmの距離
を保つて所定時間の光照射を行なう。なお、照射
光としては350nm以下の波長のものが適当であ
る。
光照射したフイルムをフクシンの0.5wtメタノ
ール−ジオキサン溶液(メタノールとジオキサン
の体積比3:1)50mlとトリエチルアミン0.3ml
からなる染浴に10秒間浸漬した後に水洗し乾燥す
る。その結果は、光照射した部分のみフクシンに
より赤色に着色される。
ール−ジオキサン溶液(メタノールとジオキサン
の体積比3:1)50mlとトリエチルアミン0.3ml
からなる染浴に10秒間浸漬した後に水洗し乾燥す
る。その結果は、光照射した部分のみフクシンに
より赤色に着色される。
照射時間とイソチオシアナト基生成の関係は、
第3図の如くである。図中のA2045は赤外線
吸収スペクトル2045cm-1における吸光度で、−N
=C=Sの生成にもとづく吸光強度を示してい
る。A1560は同じく赤外線吸収スペクトルの
1560cm-1における吸光度(ベンゼン環にもとづ
く)で、フイルム基材の量(厚さ)の基準として
使用している。第3図のデータからチオシアナト
アセチル基の光によるイソチオシアナトアセチル
基への転位量は、照射時間に比例している。
第3図の如くである。図中のA2045は赤外線
吸収スペクトル2045cm-1における吸光度で、−N
=C=Sの生成にもとづく吸光強度を示してい
る。A1560は同じく赤外線吸収スペクトルの
1560cm-1における吸光度(ベンゼン環にもとづ
く)で、フイルム基材の量(厚さ)の基準として
使用している。第3図のデータからチオシアナト
アセチル基の光によるイソチオシアナトアセチル
基への転位量は、照射時間に比例している。
イソチオシアナト基の量と染色したフイルムの
染色濃度を555nmの吸光度A555で測定し
た。その関係を第4図に示す。この結果からイソ
チオシアナト基の含有量に比例して染色濃度が増
大していることがわかる。
染色濃度を555nmの吸光度A555で測定し
た。その関係を第4図に示す。この結果からイソ
チオシアナト基の含有量に比例して染色濃度が増
大していることがわかる。
これらのデータからチオシアナトアセチルスチ
レン共重合体の染色濃度を光照射量により制御す
ることができる。もちろん、染色時間や染料濃度
によつても調整できるが、これらの条件とは無関
係に光照射量により最終濃度を規定できる。
レン共重合体の染色濃度を光照射量により制御す
ることができる。もちろん、染色時間や染料濃度
によつても調整できるが、これらの条件とは無関
係に光照射量により最終濃度を規定できる。
カチオン染料として、
フクシン(赤色)
メチレンブル(青)
アズールA(緑)
〓〓〓
などでも染色できた。
などでも染色できた。
なお、染料としては、他の色たとえば、シア
ン、マゼンタ、イエロー等も用いることができ
る。
ン、マゼンタ、イエロー等も用いることができ
る。
また、チオシアナトアセチル基を含む化合物で
感光性着色材料となる物質としてたとえば次のよ
うな(イ)〜(ニ)に示す化合物、およびその誘導体など
がある。誘導体は重合体又は共重合体を含むもの
である。
感光性着色材料となる物質としてたとえば次のよ
うな(イ)〜(ニ)に示す化合物、およびその誘導体など
がある。誘導体は重合体又は共重合体を含むもの
である。
(イ) チオシアナトアセチルベンゼン
(ロ) チオシアナトアセチルスチレン
(ハ) チオシアナトアセチルエチレン
(ニ) チオシアナト酢酸ビニル
なお、感光性被膜として用いる場合には、上記
(イ)〜(ニ)を結合材中に分散させて用いてもよい。
(イ)〜(ニ)を結合材中に分散させて用いてもよい。
また、感光性着色材料が重合体又は共重合体な
どの高分子形態では製膜性を有する感光性着色材
料として用いることができる。
どの高分子形態では製膜性を有する感光性着色材
料として用いることができる。
以上の着色法を用いてテレビカメラ用のカラー
フイルタを作成する本発明の一実施例の方法を第
5図とともに説明する。まず、透明基体となるガ
ラス基板30上にチオシアナトアセチルスチレン
共重合体に感光性有機着色基材材料31よりなる
約40μm厚の無色透明なフイルムを塗布しa、不
透明部(斜線部)を有するフオトマスク32を用
いて紫外光33を選択的し照射しb、光照射部に
前述した反応を生じさせたのち、染料の入つた前
述した染浴に基板30を浸漬して材料31の光照
射部のみ染色してたとえば10μm□の赤の染色パ
ターン34を形成するc。
フイルタを作成する本発明の一実施例の方法を第
5図とともに説明する。まず、透明基体となるガ
ラス基板30上にチオシアナトアセチルスチレン
共重合体に感光性有機着色基材材料31よりなる
約40μm厚の無色透明なフイルムを塗布しa、不
透明部(斜線部)を有するフオトマスク32を用
いて紫外光33を選択的し照射しb、光照射部に
前述した反応を生じさせたのち、染料の入つた前
述した染浴に基板30を浸漬して材料31の光照
射部のみ染色してたとえば10μm□の赤の染色パ
ターン34を形成するc。
しかるのち、別のフオトマスク34を用いて、
パターン34とは別の材料31の部分に紫外光3
6を選択的に照射d、前述の反応を生じさせたの
ち、前記パターン34とは別の色の染浴により別
の色を染める。こうしてパターン34とは異なる
別のたとえば青の染色パターン37を形成する
e。
パターン34とは別の材料31の部分に紫外光3
6を選択的に照射d、前述の反応を生じさせたの
ち、前記パターン34とは別の色の染浴により別
の色を染める。こうしてパターン34とは異なる
別のたとえば青の染色パターン37を形成する
e。
そして、同様にパターン34,37とは別の部
分の材料31にマスク38を用いて選択的に紫外
光39を照射したのちf、パターン34,37と
は異なる色の染浴により紫外光39の照射部のみ
を染色してたとえば緑の染色パターン40を形成
するg。
分の材料31にマスク38を用いて選択的に紫外
光39を照射したのちf、パターン34,37と
は異なる色の染浴により紫外光39の照射部のみ
を染色してたとえば緑の染色パターン40を形成
するg。
こうして、たとえばそれぞれ赤、青、緑からな
るカラーフイルター用の染色パターン34,3
7,40を有するカラーフイルターが製造され
る。第5図の方法によれば感光性有機着色用基材
材料に光の選択照射を行い、光照射部のみを着色
可能とし、光照射部に着色パターンを形成するた
め、単に基材材料への選択露光、染色の工程を用
いるのみでフイルターの着色パターンを形成する
ことができる。したがつて、複数色の着色パター
ンを有するカラーフイルタの製造に際し、第5図
〓〓〓
の方法では複数回の染色用膜の塗布、加工、ある
いは複数回のレジスト塗布、現像、レジスト除去
等の工程を必要とせず、数少ない工程で高精度な
カラーフイルタを容易に製造することができる。
るカラーフイルター用の染色パターン34,3
7,40を有するカラーフイルターが製造され
る。第5図の方法によれば感光性有機着色用基材
材料に光の選択照射を行い、光照射部のみを着色
可能とし、光照射部に着色パターンを形成するた
め、単に基材材料への選択露光、染色の工程を用
いるのみでフイルターの着色パターンを形成する
ことができる。したがつて、複数色の着色パター
ンを有するカラーフイルタの製造に際し、第5図
〓〓〓
の方法では複数回の染色用膜の塗布、加工、ある
いは複数回のレジスト塗布、現像、レジスト除去
等の工程を必要とせず、数少ない工程で高精度な
カラーフイルタを容易に製造することができる。
なお、以上はカラーフイルタについて述べた
が、本発明はその他の光学フイルタについても適
用できるとともに、シアン、マゼンタ、イエロー
等の他の着色パターンも同様に形成することがで
きる。
が、本発明はその他の光学フイルタについても適
用できるとともに、シアン、マゼンタ、イエロー
等の他の着色パターンも同様に形成することがで
きる。
以上のように、本発明の方法によれば、フオト
マスクを用いいた紫外線照射と染色操作により直
接的に感光性基材にモザイク状のカラーフイルタ
ーを作成することができ、従来に比べ工程が少な
くできる。また、本発明では、単層の感光性着色
基材に直接染色するため、高精度の光照射装置を
用いることにより、高解像度(ミクロン単位)の
微細画像を形成できる。また、無色透明な基材が
得られるとともに、感光性着色基材に対する光照
射量を調整することにより着色濃度を制御できる
ので、再現性のある着色を容易に行なうことがで
き、高精度な微細パターンを有する光学フイルタ
ーの製造に大きく寄与するものである。
マスクを用いいた紫外線照射と染色操作により直
接的に感光性基材にモザイク状のカラーフイルタ
ーを作成することができ、従来に比べ工程が少な
くできる。また、本発明では、単層の感光性着色
基材に直接染色するため、高精度の光照射装置を
用いることにより、高解像度(ミクロン単位)の
微細画像を形成できる。また、無色透明な基材が
得られるとともに、感光性着色基材に対する光照
射量を調整することにより着色濃度を制御できる
ので、再現性のある着色を容易に行なうことがで
き、高精度な微細パターンを有する光学フイルタ
ーの製造に大きく寄与するものである。
第1図a〜d、第2図a〜dは従来のカラーフ
イルターの製造工程図、第3図は紫外孔の照射時
間とイソチオシアナト基生成の関係を示す図、第
4図はイソチオシアナト基の量と染色したフイル
ムの染色濃度を555nmの吸収度A555で測定
した関係図、第5図a〜gは本発明の一実施例の
カラーフイルターの製造工程図である。 30……ガラス基板、31……感光性有機着色
基材材料、32,35,38……フオトマスク、
33,36,39……紫外光、34,37,40
……染色パターン。 〓〓〓〓
イルターの製造工程図、第3図は紫外孔の照射時
間とイソチオシアナト基生成の関係を示す図、第
4図はイソチオシアナト基の量と染色したフイル
ムの染色濃度を555nmの吸収度A555で測定
した関係図、第5図a〜gは本発明の一実施例の
カラーフイルターの製造工程図である。 30……ガラス基板、31……感光性有機着色
基材材料、32,35,38……フオトマスク、
33,36,39……紫外光、34,37,40
……染色パターン。 〓〓〓〓
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 透明基板上に感光性有機着色用材料よりなる
被膜を形成し、前記被膜に光を照射することによ
り光照射部を前記材料自身に有色物を固定できる
官能基を生成し、前記有色物と前記官能基を反応
させ前記光照射部分のみを着色させることを特徴
とする光学フイルターの製造方法。 2 感光性着色用材料が、チオシアナトアセチル
基を含む特許請求の範囲第1項記載の光学フイル
ターの製造方法。 3 被膜への光の照射を選択的に行う特許請求の
範囲第1項記載の光学フイルターの製造方法。 4 選択的光照射にフオトマスクを用いる特許請
求の範囲第2項記載の光学フイルターの製造方
法。 5 透明基体上に感光性着色用材料よりなる被膜
を形成する工程と、前記被膜の第1の領域に選択
的に光を照射して官能基を生成し、前記第1の領
域を染色する工程と、前記被膜の前記第1の領域
以外の第2の領域に選択的に光を照射して官能基
を生成し、前記第2の領域に前記第1の領域とは
異なる色を染める工程とを有することを特徴とす
る光学フイルターの製造方法。 6 感光性着色用材料が、チオシアナトアセチル
基を含む特許請求の範囲第5項記載の光学フイル
ターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57078958A JPS58195808A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 光学フイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57078958A JPS58195808A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 光学フイルタ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58195808A JPS58195808A (ja) | 1983-11-15 |
| JPS6135523B2 true JPS6135523B2 (ja) | 1986-08-13 |
Family
ID=13676396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57078958A Granted JPS58195808A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | 光学フイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58195808A (ja) |
-
1982
- 1982-05-10 JP JP57078958A patent/JPS58195808A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58195808A (ja) | 1983-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06224399A (ja) | 固体撮像装置およびその製造方法 | |
| DE2660921C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von punktgeätzten Masken | |
| US4225659A (en) | Method for making thermochromic photomasks | |
| JPS58100108A (ja) | 色フイルタ素子 | |
| JPS60238829A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| US4154613A (en) | Positive-acting diazo type materials having photodecomposed gradient | |
| DE3602486A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines farbfilters | |
| JPS6135523B2 (ja) | ||
| DE3850151T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Mustern. | |
| JPS59182408A (ja) | 光学フィルタ−の製造方法 | |
| JPS6063501A (ja) | カラ−フイルタ−要素 | |
| JPS59226305A (ja) | 光学フイルタの製造方法 | |
| JPH0134370B2 (ja) | ||
| JPS58194030A (ja) | 感光性着色用材料 | |
| JPS584107A (ja) | 色分離フイルタ−の製造方法 | |
| JPS597318A (ja) | 色光分解フイルタおよびその製造法 | |
| JP3067330B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JP2588192B2 (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| JP3211555B2 (ja) | カラー樹脂パターンの形成方法 | |
| JPH03274502A (ja) | カラーフィルタ | |
| JPH0486801A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JPS5917512A (ja) | 色フイルタの製造方法 | |
| JPS63217304A (ja) | 着色パタ−ンの製法 | |
| JPH01188189A (ja) | 固体カラー撮像素子 | |
| JPS5932281A (ja) | カラ−撮像装置 |