JPS6140617B2 - - Google Patents
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- JPS6140617B2 JPS6140617B2 JP57107003A JP10700382A JPS6140617B2 JP S6140617 B2 JPS6140617 B2 JP S6140617B2 JP 57107003 A JP57107003 A JP 57107003A JP 10700382 A JP10700382 A JP 10700382A JP S6140617 B2 JPS6140617 B2 JP S6140617B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
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Description
本発明はケイ酸塩ガラスを主成分とし、酸化マ
グネシウムとこのマグネシウム陽イオンと交換で
きる陽イオンを有する１個又は複数個の金属酸化
物とを含み、光フアイバの軸線から光フアイバの
周に向つて金属酸化物の濃度が下り、酸化マグネ
シウムの濃度が高くなることにより屈折率が変つ
てくる集束形光フアイバに関するものである。 このタイプの光フアイバは公開された英国特許
願第GB2002341号から既知である。しかし、そこ
に記載されているガラスはホウケイ酸ガラスタイ
プのものであつて、アリカリ金属酸化物を含み、
この他にアルカリ土類酸化物のような交換可能な
陽イオンを有する金属酸化物を含有している。そ
して二重るつぼ法により光フアイバを作つてい
る。 二重るつぼ法により光フアイバを作る基材のガ
ラスを作るに当り一層純粋な出発材料が段々多量
に得られるようになつている。この結果光信号の
減衰は出発材料から作つたガラス内の不純物に
段々依存しなくなりつゝある。 しかし、光信号の減衰は一部はガラスの成分自
体の性質に依存する所謂固有減衰（intrinsic
attennation）による。 また光通信では約1100nmと1500nmとの間の波
長領域が次第に関心を呼びつゝある。 而して約1200nmより長い波長ではほう素酸化
物が厄介な態様で光を吸収する。それ故固有減衰
が大きいためホウケイ酸ガラスは低い固有減衰を
目指す場合前記波長領域で使用するには適さな
い。 本発明の目的は波長領域1100nmと1500nmとの
間で固有減衰が小さい冒頭に記載したタイプのガ
ラスフアイバを提供するにある。 この目的は本発明によれば光フアイバが下記の
組成、即ち、60〜70モル％の二酸化ケイ素、15〜
30モル％のアルカリ金属酸化物、但し、酸化リチ
ウムの量は０〜15モル％とする、10〜25モル％の
酸化マグネシウムとCaO，SrO，BaO及びZnOか
ら成る群から選ばれた少なくとも一個の金属酸化
物との組み合せ、酸化カルシウムの量は０〜15モ
ル％とし、1500nm迄の波長領域で吸収に関与す
る不純物の量は0.01ppmより小さくした、を有す
るガラスから成ることを特徴とする光フアイバに
より達成される。 この組成のガラスでは全ガラス組成に対して計
算して５モル％迄の二酸化ケイ素がAl2O3及び／
又はGeO2で置き換えられ、2.5モル％迄の二酸化
ケイ素がY2O3及び／又はZrO2で置き換えられ
る。 アルカリ金属酸化物部はアルカリ金属Li，Na
及びＫの２個以上の酸化物から成るものとするこ
とができる。但し、Li2Oが存在する場合は15モ
ル％以下とする。蓋し、さもないと光フアイバの
製造時に分相が生じ、正ケイ酸LiMgの結晶が形
成される危険があるからである。ZnOが存在する
場合は正ケイ酸LiZnが形成されるおそれがあ
る。 ガラス中に含まれるSiO2の含有量が60モル％
以下の場合は結晶化が生じ易く、これは光信号の
散乱を大きくする原因となる。またガラス中の
SiO2の含有量が70モル％以上になると処理が一
段とむずかしくなる（融点が高くなり、フアイバ
線引き温度も高くなる）と共に、ガラス内の交換
可能な陽イオンを有する酸化物の量が屈折率の差
を十分大きくするには少なくなりすぎる。 ガラス中のアルカリ金属酸化物の含有量が15モ
ル％より小さい場合は結晶化する傾向が相当に大
きくなると共にガラスの処理し易さが小さくな
る。 ガラスに含まれるアルカリ金属酸化物の含有量
が30モル％より大きい場合は耐薬品性が著しく下
がると共に、交換可能な陽イオンを有する酸化物
の量が屈折率に十分大きな差を与えるには少なく
なりすぎる。 ガラス内に酸化物MgO，SrO，BaO及びZnOが
10〜25モル％存在してもよい。しかし、CaOの場
合は15モル％以下でなければならない。CaOが多
量に存在するとガラスは結晶化し易くなる。 内側るつぼ内の出発ガラス（コアガラス）と外
側るつぼ内の出発ガラス（クラツドガラス）との
間で屈折率に１％の差を持たせるためには、コア
ガラス内に前記10〜25モル％のアルカリ土類金属
酸化物の60％迄を酸化マグネシウムとし、アルカ
リ土類金属酸化物の残りの部分をCaO，SrO，
BaO及びZnOから成る金属酸化物群の中から選ぶ
ことが必要となることがある。好適な実施例では
クラツドガラスは通常金属酸化物として酸化マグ
ネシウムだけしか含まない。 好適な一実施例は光フアイバが下記の組成：60
〜70モル％の二酸化ケイ素15〜27.5モル％のアル
カリ金属酸化物、（但し、酸化リチウムの量は０
〜15モル％とする、）12.5モル％の（MgO＋
CaO）を有するガラスから成ることを特徴とす
る。こうすると屈折率に１％の差をつけることが
でき、それでいてガラスの基礎吸収を殊に小さく
することができる。 比較的少量のGeO2が存在しても関心のある波
長領域での基礎吸収に殆んど悪影響がなく、それ
でいて少量の混合材がある場合はガラスの処理温
度を著しく下げることができる。ガラスに
Al2O3，Y2O3及びZrO2を加えると耐薬品性が改良
される。ガラスは更に量のフツ素を含むことがあ
るが、これは製造時にLiFの形で加えられる。 ガラスは次にようにして作られる。 出発材料はアルカリ金属の炭酸塩及び／又は硝
酸塩、二酸化ケイ素並びにできるだけ純度の高い
他の金属（Mg，Ca，Sr，Ba及び／又はZn）の炭
酸塩、硝酸塩及び／又は酸化物である。これは
（Cu，Fe，Crのような）1100〜1500nmの関連波
長領域で光を吸収する不純物の濃度が0.01ppm以
下であることを意味する。またAs2O3及びSb2O3
のような清澄剤をガラス組成に対して計算して１
モル％迄の量加えてもよい。 ガラスは選択された周波数で誘電損が小さい材
料で作られたるつぼ内に入れて高周波電界により
加熱して溶かし、この間るつぼの壁を冷却させる
（例えば米国特許第3937625号明細書参照）と好適
である。 溶けたガラスは数時間（例えば１〜10時間）約
1300℃の温度に保つと好適である。この融解物に
酸素，一酸化炭素又は二酸化炭素のような乾燥し
た気体を吹きつけることができる。その後で融解
物からロツドを引く。これらのロツドは光フアイ
バを作る際の出発材料となる。この目的でこれら
は二重るつぼ内で融かし、少なくともコアガラス
を壁が冷却されているるつぼ内で高周波電界によ
り加熱する。この最后に述べた方法及びこのよう
な二重るつぼは同時に係属しいるオランダ国特許
願第8102878号（発明者：教授、博士エツチ、エ
ツチブロンヘルスマ）（これは同時に米国特許及
び欧州特許出願してある）の主題である。この特
許願は少なくとも内側るつぼが二重壁を有する二
重るつぼを用いる二重るつぼ法により光フアイバ
を製造する方法を記載している。二重壁にはさま
れた空間には金属線コイルが装着されている。光
フアイバの製造時には、高周波電界によりコアガ
ラス内に熱が発生し、るつぼ壁は冷却剤で冷却さ
れる。この処理によると内側るつぼの壁に可成り
冷却されたコアガラスの層が形成されるが、この
可成り冷却されたガラス層は光フアイバを組み立
てるのには役立たないものゝ、るつぼ材料からガ
ラスへ不純物が拡散することゝ、るつぼ材料が分
解するのを防ぐ。このようにすれば従来実用的で
あると考えられてきたのよりも高い温度で光フア
イバを線引きすることができる。この方法を用い
ると内側るつぼから不純物が吸収されるおそれな
しに光フアイバを線引きするに足る十分高い温度
に少なくともコアガラスを保つことができる。光
フアイバを線引きする時のるつぼ内のガラスの温
度は少なくとも900℃以上である。 図面につきいくつかの実施例を挙げて本発明を
詳細に説明する。 第１図に三角形の図で領域ABCDは約1300℃以
で作られ且つ24時間1000℃に保つた後でさえも、
CaOを含むガラスを除いて、分相（phase
separation）即ち結晶化を全くないし殆んど起こ
さないガラスが見出される組成の領域を示す。こ
のうちで領域AB′CDはCaOを含んでも15モル％
以下であれば上述した状況下で結晶化を起こさな
いガラスが見出される組成領域である。このよう
なガラスを用いると基礎散乱（intrins―ic
scattering）が1100nmの時0.45dB／kmである光
フアイバが得られる。 下の表はコアとクラツドガラスとの間での屈
折率の差が１％であるガラスの組成の数例を示し
たものである。この表に示された量の、交換可
能な陽イオンを含む酸化物に加えた、コア及びク
ラツドガラスはいずれも62.5モル％のSiO2と25モ
ル％のアルカリ金属酸化物（５モル％のLi2O，
10モル％のNa2O及び10モル％のK2O）とを含
む。
グネシウムとこのマグネシウム陽イオンと交換で
きる陽イオンを有する１個又は複数個の金属酸化
物とを含み、光フアイバの軸線から光フアイバの
周に向つて金属酸化物の濃度が下り、酸化マグネ
シウムの濃度が高くなることにより屈折率が変つ
てくる集束形光フアイバに関するものである。 このタイプの光フアイバは公開された英国特許
願第GB2002341号から既知である。しかし、そこ
に記載されているガラスはホウケイ酸ガラスタイ
プのものであつて、アリカリ金属酸化物を含み、
この他にアルカリ土類酸化物のような交換可能な
陽イオンを有する金属酸化物を含有している。そ
して二重るつぼ法により光フアイバを作つてい
る。 二重るつぼ法により光フアイバを作る基材のガ
ラスを作るに当り一層純粋な出発材料が段々多量
に得られるようになつている。この結果光信号の
減衰は出発材料から作つたガラス内の不純物に
段々依存しなくなりつゝある。 しかし、光信号の減衰は一部はガラスの成分自
体の性質に依存する所謂固有減衰（intrinsic
attennation）による。 また光通信では約1100nmと1500nmとの間の波
長領域が次第に関心を呼びつゝある。 而して約1200nmより長い波長ではほう素酸化
物が厄介な態様で光を吸収する。それ故固有減衰
が大きいためホウケイ酸ガラスは低い固有減衰を
目指す場合前記波長領域で使用するには適さな
い。 本発明の目的は波長領域1100nmと1500nmとの
間で固有減衰が小さい冒頭に記載したタイプのガ
ラスフアイバを提供するにある。 この目的は本発明によれば光フアイバが下記の
組成、即ち、60〜70モル％の二酸化ケイ素、15〜
30モル％のアルカリ金属酸化物、但し、酸化リチ
ウムの量は０〜15モル％とする、10〜25モル％の
酸化マグネシウムとCaO，SrO，BaO及びZnOか
ら成る群から選ばれた少なくとも一個の金属酸化
物との組み合せ、酸化カルシウムの量は０〜15モ
ル％とし、1500nm迄の波長領域で吸収に関与す
る不純物の量は0.01ppmより小さくした、を有す
るガラスから成ることを特徴とする光フアイバに
より達成される。 この組成のガラスでは全ガラス組成に対して計
算して５モル％迄の二酸化ケイ素がAl2O3及び／
又はGeO2で置き換えられ、2.5モル％迄の二酸化
ケイ素がY2O3及び／又はZrO2で置き換えられ
る。 アルカリ金属酸化物部はアルカリ金属Li，Na
及びＫの２個以上の酸化物から成るものとするこ
とができる。但し、Li2Oが存在する場合は15モ
ル％以下とする。蓋し、さもないと光フアイバの
製造時に分相が生じ、正ケイ酸LiMgの結晶が形
成される危険があるからである。ZnOが存在する
場合は正ケイ酸LiZnが形成されるおそれがあ
る。 ガラス中に含まれるSiO2の含有量が60モル％
以下の場合は結晶化が生じ易く、これは光信号の
散乱を大きくする原因となる。またガラス中の
SiO2の含有量が70モル％以上になると処理が一
段とむずかしくなる（融点が高くなり、フアイバ
線引き温度も高くなる）と共に、ガラス内の交換
可能な陽イオンを有する酸化物の量が屈折率の差
を十分大きくするには少なくなりすぎる。 ガラス中のアルカリ金属酸化物の含有量が15モ
ル％より小さい場合は結晶化する傾向が相当に大
きくなると共にガラスの処理し易さが小さくな
る。 ガラスに含まれるアルカリ金属酸化物の含有量
が30モル％より大きい場合は耐薬品性が著しく下
がると共に、交換可能な陽イオンを有する酸化物
の量が屈折率に十分大きな差を与えるには少なく
なりすぎる。 ガラス内に酸化物MgO，SrO，BaO及びZnOが
10〜25モル％存在してもよい。しかし、CaOの場
合は15モル％以下でなければならない。CaOが多
量に存在するとガラスは結晶化し易くなる。 内側るつぼ内の出発ガラス（コアガラス）と外
側るつぼ内の出発ガラス（クラツドガラス）との
間で屈折率に１％の差を持たせるためには、コア
ガラス内に前記10〜25モル％のアルカリ土類金属
酸化物の60％迄を酸化マグネシウムとし、アルカ
リ土類金属酸化物の残りの部分をCaO，SrO，
BaO及びZnOから成る金属酸化物群の中から選ぶ
ことが必要となることがある。好適な実施例では
クラツドガラスは通常金属酸化物として酸化マグ
ネシウムだけしか含まない。 好適な一実施例は光フアイバが下記の組成：60
〜70モル％の二酸化ケイ素15〜27.5モル％のアル
カリ金属酸化物、（但し、酸化リチウムの量は０
〜15モル％とする、）12.5モル％の（MgO＋
CaO）を有するガラスから成ることを特徴とす
る。こうすると屈折率に１％の差をつけることが
でき、それでいてガラスの基礎吸収を殊に小さく
することができる。 比較的少量のGeO2が存在しても関心のある波
長領域での基礎吸収に殆んど悪影響がなく、それ
でいて少量の混合材がある場合はガラスの処理温
度を著しく下げることができる。ガラスに
Al2O3，Y2O3及びZrO2を加えると耐薬品性が改良
される。ガラスは更に量のフツ素を含むことがあ
るが、これは製造時にLiFの形で加えられる。 ガラスは次にようにして作られる。 出発材料はアルカリ金属の炭酸塩及び／又は硝
酸塩、二酸化ケイ素並びにできるだけ純度の高い
他の金属（Mg，Ca，Sr，Ba及び／又はZn）の炭
酸塩、硝酸塩及び／又は酸化物である。これは
（Cu，Fe，Crのような）1100〜1500nmの関連波
長領域で光を吸収する不純物の濃度が0.01ppm以
下であることを意味する。またAs2O3及びSb2O3
のような清澄剤をガラス組成に対して計算して１
モル％迄の量加えてもよい。 ガラスは選択された周波数で誘電損が小さい材
料で作られたるつぼ内に入れて高周波電界により
加熱して溶かし、この間るつぼの壁を冷却させる
（例えば米国特許第3937625号明細書参照）と好適
である。 溶けたガラスは数時間（例えば１〜10時間）約
1300℃の温度に保つと好適である。この融解物に
酸素，一酸化炭素又は二酸化炭素のような乾燥し
た気体を吹きつけることができる。その後で融解
物からロツドを引く。これらのロツドは光フアイ
バを作る際の出発材料となる。この目的でこれら
は二重るつぼ内で融かし、少なくともコアガラス
を壁が冷却されているるつぼ内で高周波電界によ
り加熱する。この最后に述べた方法及びこのよう
な二重るつぼは同時に係属しいるオランダ国特許
願第8102878号（発明者：教授、博士エツチ、エ
ツチブロンヘルスマ）（これは同時に米国特許及
び欧州特許出願してある）の主題である。この特
許願は少なくとも内側るつぼが二重壁を有する二
重るつぼを用いる二重るつぼ法により光フアイバ
を製造する方法を記載している。二重壁にはさま
れた空間には金属線コイルが装着されている。光
フアイバの製造時には、高周波電界によりコアガ
ラス内に熱が発生し、るつぼ壁は冷却剤で冷却さ
れる。この処理によると内側るつぼの壁に可成り
冷却されたコアガラスの層が形成されるが、この
可成り冷却されたガラス層は光フアイバを組み立
てるのには役立たないものゝ、るつぼ材料からガ
ラスへ不純物が拡散することゝ、るつぼ材料が分
解するのを防ぐ。このようにすれば従来実用的で
あると考えられてきたのよりも高い温度で光フア
イバを線引きすることができる。この方法を用い
ると内側るつぼから不純物が吸収されるおそれな
しに光フアイバを線引きするに足る十分高い温度
に少なくともコアガラスを保つことができる。光
フアイバを線引きする時のるつぼ内のガラスの温
度は少なくとも900℃以上である。 図面につきいくつかの実施例を挙げて本発明を
詳細に説明する。 第１図に三角形の図で領域ABCDは約1300℃以
で作られ且つ24時間1000℃に保つた後でさえも、
CaOを含むガラスを除いて、分相（phase
separation）即ち結晶化を全くないし殆んど起こ
さないガラスが見出される組成の領域を示す。こ
のうちで領域AB′CDはCaOを含んでも15モル％
以下であれば上述した状況下で結晶化を起こさな
いガラスが見出される組成領域である。このよう
なガラスを用いると基礎散乱（intrins―ic
scattering）が1100nmの時0.45dB／kmである光
フアイバが得られる。 下の表はコアとクラツドガラスとの間での屈
折率の差が１％であるガラスの組成の数例を示し
たものである。この表に示された量の、交換可
能な陽イオンを含む酸化物に加えた、コア及びク
ラツドガラスはいずれも62.5モル％のSiO2と25モ
ル％のアルカリ金属酸化物（５モル％のLi2O，
10モル％のNa2O及び10モル％のK2O）とを含
む。
【表】
下の表にはdBを単位とする1000nmでの基礎
散乱及び850nmでの減衰と並んでいくつかのガラ
スの組成が与えられている。測定のためだけなら
ばガラスをフアイバに線引きし、シリコーン樹脂
層で被覆するだけでよい。含有量はモル％を単位
とする。
散乱及び850nmでの減衰と並んでいくつかのガラ
スの組成が与えられている。測定のためだけなら
ばガラスをフアイバに線引きし、シリコーン樹脂
層で被覆するだけでよい。含有量はモル％を単位
とする。
【表】
本発明に係るフアイバではクラツドガラスの耐
薬品性がコアガラスに比べて高く、熱膨張率が小
さいが、これはMgOが存在するためである。熱
膨張率が小さい結果本発明に係る光フアイバでは
外側面に圧縮力がかゝるが、これによりフアイバ
の強度が相当に改良される。 実施例 １ 硝酸塩の形態をした関連金属酸化物と二酸化ケ
イ素とを溶かし、それを１１／２時間1350℃に保つこ とにより下記のガラスを作つた。なおこの間に融
解物から酸素が泡立つて抜けていつた。
薬品性がコアガラスに比べて高く、熱膨張率が小
さいが、これはMgOが存在するためである。熱
膨張率が小さい結果本発明に係る光フアイバでは
外側面に圧縮力がかゝるが、これによりフアイバ
の強度が相当に改良される。 実施例 １ 硝酸塩の形態をした関連金属酸化物と二酸化ケ
イ素とを溶かし、それを１１／２時間1350℃に保つこ とにより下記のガラスを作つた。なおこの間に融
解物から酸素が泡立つて抜けていつた。
【表】
全体の直径が125μｍになる迄1100℃で光フア
イバを線引きした。この時加熱された10cm長の取
り出しパイプ付きの二重るつぼを用いた。このよ
うにして集束形光フアイバを得た。開口数は0.19
で、基礎散乱は1100nmで0.45dB／km、1500nm
で0.13dB／kmであり、850nmでの全減衰量は
5.1dB／kmであり、基礎散乱は1.3dB／kmであつ
た。 差異は光フアイバ内に水分が存在することから
説明できる。 第２図は走査形電子顕微鏡を用いて得たこの光
フアイバの濃度分布を示したものである。 実施例 ２ 下記の組成を有するガラスから実施例１に記載
した態様で光フアイバが得られる。
イバを線引きした。この時加熱された10cm長の取
り出しパイプ付きの二重るつぼを用いた。このよ
うにして集束形光フアイバを得た。開口数は0.19
で、基礎散乱は1100nmで0.45dB／km、1500nm
で0.13dB／kmであり、850nmでの全減衰量は
5.1dB／kmであり、基礎散乱は1.3dB／kmであつ
た。 差異は光フアイバ内に水分が存在することから
説明できる。 第２図は走査形電子顕微鏡を用いて得たこの光
フアイバの濃度分布を示したものである。 実施例 ２ 下記の組成を有するガラスから実施例１に記載
した態様で光フアイバが得られる。
【表】
実施例 ３
下記の組成を有するガラスから実施例１に記載
した態様で光フアイバが得られる。
した態様で光フアイバが得られる。
【表】
【表】
本明細書と特許請求の範囲で使われるコアガラ
スという用語は光フアイバを線引きするための二
重るつぼ装置の内側るつぼ内に存在するガラスを
意味し、クラツドガラスという用語は外側るつぼ
内に存在するガラスを意味する。フアイバを線引
きし、交換可能な陽イオン間の交換が行なわれた
後で光フアイバ軸部とフアイバ周との間で交換可
能な陽イオンの濃度が連続的に変わる集束形光フ
アイバが得られる。 本明細書と特許請求の範囲における全ガラス組
成は光フアイバに対してのものである。
スという用語は光フアイバを線引きするための二
重るつぼ装置の内側るつぼ内に存在するガラスを
意味し、クラツドガラスという用語は外側るつぼ
内に存在するガラスを意味する。フアイバを線引
きし、交換可能な陽イオン間の交換が行なわれた
後で光フアイバ軸部とフアイバ周との間で交換可
能な陽イオンの濃度が連続的に変わる集束形光フ
アイバが得られる。 本明細書と特許請求の範囲における全ガラス組
成は光フアイバに対してのものである。
第１図は組成図、第２図は本発明に係る集束形
光フアイバ内でのMgOとCaOの濃度分布図であ
る。
光フアイバ内でのMgOとCaOの濃度分布図であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ケイ酸塩ガラスを主成分とし、酸化マグネシ
ウムとこのマグネシウム陽イオンと交換できる陽
イオンを有する１個又は複数個の金属酸化物とを
含み、光フアイバの軸線から光フイアイバの周に
向つて金属酸化物の濃度が下り、酸化マグネシウ
ムの濃度が高くなることにより屈折率が変つてく
る集束形光フアイバにおいて、光フアイバが下記
の組成、即ち 60〜70モル％の二酸化ケイ素、 15〜30モル％アルカリ金属酸化物、 但し、酷化リチウムの量は０〜15モル％とする、 10〜25モル％の酸化マグネシウムと CaO，SrO，BaO及びZnOから成る群から選ばれ
た少なくとも一個の金属酸化物との組合せ、酸化
カルシウムの量は０〜15モル％とし、1500nm迄
の波長領域で吸収に関与する不純物の量は
0.01ppmより小さくした、 を有するガラスから成ることを特徴とする集束形
光フアイバ。 ２ 全ガラス組成につき計算して５モル％迄の二
酸化ケイ素を酸化ゲルマニウム及び／又は酸化ア
ルミニウムで置き換え、2.5モル％迄の二酸化ケ
イ素を酸化イツトリウム及び／又は二酸化ジルコ
ニウムで置き換えことを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の集束形光フアイバ。 ３ 光フアイバが下記の組成： 60〜70モル％の二酸化ケイ素 15〜27.5モル％のアルカリ金属酸化物、 但し、酸化リチウムの量は０〜15モル％とする、 12.5モル％の（MgO＋CaO） を有するガラスから成ることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の集束形光フアイバ。 ４ 二重るつぼ法を用いる集束形光フアイバの製
造方法において、内側るつぼ内に下記の組成、即
ち、 60〜70モル％の二酸化ケイ素、 15〜30モル％のアルカリ金属酸化物、但し、酸化
リチウムの量は０〜15モル％とする、 10〜25モル％のCaO，SrO，BaO及びZnOから成
る群から選んだ少なくとも１個の金属酸化物 を有するガラスを入れ、外側るつぼ内にCaO，
SrO，BaO及び／又はZnOから成る群の金属酸化
物の代りにMgOを含む点を除いて同一分子組成
のガラスを入れ、これらのガラスを光フアイバ線
引き温度迄加熱し、光フアイバに線引きすること
を特徴とする集束形光フアイバの製造方法。 ５ コアガラスが金属酸化物量の60％迄の酸化マ
グネシウムを含み、10〜25モル％の残りの部分を
CaO，SrO，BaO及びZnOから成る群から選ぶこ
とを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の進束
形光フアイバの製造方法。 ６ 内側るつぼ内のガラスでも、外側るつぼ内の
ガラスでも、全ガラス組成につき計計算して、５
モル％迄の二酸化ケイ素を酸化アルミニウム及
び／又は酸化ゲルマニウムで置き換え、2.5モル
％迄の二酸化ケイ素を酸化イツトリウム及び／又
は二酸化ジルコニウムで置き換えることを特徴と
する特許請求の範囲第４項記載の集束形光フアイ
バの製造方法。 ７ 内側るつぼ内のガラスが下記の組成、即ち、
60〜70モル％の二酸化ケイ素 15〜27.5モル％のアルカリ金属酸化物 但し、酸化リチウムの量は０〜15モル％とする、 12.5モル％の酸化カルシウム を有し、外側るつぼ内のガラスが酸化カルシウム
の代りに酸化マグネシウムを含む点を除いて同一
分子組成を有し、これらのガラスを光フアイバ線
引き温度迄加熱し、光フアイバに線引きすること
を特徴とする特許請求の範囲第４項記載の集束形
光フアイバの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8103089A NL8103089A (nl) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | Optische vezel van het graded index type en werkwijze voor de vervaardiging daarvan. |
| NL8103089 | 1981-06-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5849637A JPS5849637A (ja) | 1983-03-23 |
| JPS6140617B2 true JPS6140617B2 (ja) | 1986-09-10 |
Family
ID=19837699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57107003A Granted JPS5849637A (ja) | 1981-06-26 | 1982-06-23 | 集束形光フアイバとその製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4439008A (ja) |
| EP (1) | EP0068580B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5849637A (ja) |
| BR (1) | BR8203656A (ja) |
| CA (1) | CA1193865A (ja) |
| DE (1) | DE3261536D1 (ja) |
| NL (1) | NL8103089A (ja) |
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| GB8323056D0 (en) * | 1983-08-26 | 1983-09-28 | Bicc Plc | Optical fibres |
| JPS60155551A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-15 | Toshiba Corp | 光フアイバ用被覆ガラス |
| US4759595A (en) * | 1986-03-25 | 1988-07-26 | Apa Optics, Inc. | Integrated optic switch |
| US4902088A (en) * | 1986-03-25 | 1990-02-20 | Apa Optics, Inc. | Integrated optic device for laser beam scanning |
| US4874222A (en) * | 1986-03-31 | 1989-10-17 | Spectran Corporation | Hermetic coatings for non-silica based optical fibers |
| US4902650A (en) * | 1987-06-09 | 1990-02-20 | The University Of Rochester | Gradient-index glass |
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| US5043222A (en) * | 1988-03-17 | 1991-08-27 | Olin Corporation | Metal sealing glass composite with matched coefficients of thermal expansion |
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| WO1998002389A1 (fr) * | 1996-07-16 | 1998-01-22 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Verre de silice a perte ultra faible, et fibres optiques produites avec celui-ci |
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-
1982
- 1982-06-14 US US06/387,993 patent/US4439008A/en not_active Expired - Fee Related
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