JPS614083A - 複写機の露光装置 - Google Patents
複写機の露光装置Info
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- JPS614083A JPS614083A JP12379984A JP12379984A JPS614083A JP S614083 A JPS614083 A JP S614083A JP 12379984 A JP12379984 A JP 12379984A JP 12379984 A JP12379984 A JP 12379984A JP S614083 A JPS614083 A JP S614083A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/60—Apparatus which relate to the handling of originals
- G03G15/605—Holders for originals or exposure platens
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
- Holders For Sensitive Materials And Originals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、複写機の露光装置に係り、特に、所謂全面
露光方式を採用したタイプを前提とし、プラテン面を略
均−照明する露光装置の改良に関する。
露光方式を採用したタイプを前提とし、プラテン面を略
均−照明する露光装置の改良に関する。
従来この種の複写機の露光装置としては例えば特開昭5
5−115058号公報に示されるものがある。これは
、第5図に示すように、略ボックス状のキャビティ(1
1を画成するハウジング(2)を有し、このハウジング
(2)の内壁を白色の拡散反射物質でコーティングして
当該ハウジング(2)の内壁面を高反射面(3)として
形成する一方、上記ハウジング(2)の頂部(2a)に
は矩形状の開口を開設して当該開口に複写原稿(4)が
載置されるガラス製等のプラテン(5)を嵌挿固定し、
また、上記ハウジング(2)の側周部(2b)内壁面の
一側には−のフラッシュ光源(6)を設置し、更に、上
記ハウジング(2)の底部(2c)略中火にはレンズ取
付孔を開設して当該レンズ取付孔に結像レンズ(7)を
レンズケース(8)を介して嵌挿固定したものである。
5−115058号公報に示されるものがある。これは
、第5図に示すように、略ボックス状のキャビティ(1
1を画成するハウジング(2)を有し、このハウジング
(2)の内壁を白色の拡散反射物質でコーティングして
当該ハウジング(2)の内壁面を高反射面(3)として
形成する一方、上記ハウジング(2)の頂部(2a)に
は矩形状の開口を開設して当該開口に複写原稿(4)が
載置されるガラス製等のプラテン(5)を嵌挿固定し、
また、上記ハウジング(2)の側周部(2b)内壁面の
一側には−のフラッシュ光源(6)を設置し、更に、上
記ハウジング(2)の底部(2c)略中火にはレンズ取
付孔を開設して当該レンズ取付孔に結像レンズ(7)を
レンズケース(8)を介して嵌挿固定したものである。
そして、上記フラッシュ光源(6)の」一方には、当該
フラッシュ光源(6)からプラテン(5)に向かう直射
光を遮断するランプシェード(9)が設置される一方、
上記フラッシュ光源(6)の下方には、当該フラッシュ
光源(6)から略直下に向かう光を遮断するブロッカC
l0)が設置されている。
フラッシュ光源(6)からプラテン(5)に向かう直射
光を遮断するランプシェード(9)が設置される一方、
上記フラッシュ光源(6)の下方には、当該フラッシュ
光源(6)から略直下に向かう光を遮断するブロッカC
l0)が設置されている。
そしてまた、上記結像レンズ(7)の光軸」−非プラテ
ン(5)側、言い換えれば所定の感光面(11)側には
、特開昭58−87747号公報にも示されるように、
結像レンズ(7)に対する画角(θ)に応じてcos’
θに逆比例する透過率特性をもつ光量補正フィルタ(1
2)が配設されている。
ン(5)側、言い換えれば所定の感光面(11)側には
、特開昭58−87747号公報にも示されるように、
結像レンズ(7)に対する画角(θ)に応じてcos’
θに逆比例する透過率特性をもつ光量補正フィルタ(1
2)が配設されている。
このような従来の露光装置によれば、露光時においてフ
ラッシュ光源(6)が発光すると、フラッシュ光源(6
)からの光は、ランプシェード(9)とブロッカ(lO
)との隙間(13)から直接キャビティ(1)内に照射
され、当該キャビティ(1)内で多重反射した後プラナ
、 7 (51Ti’ji[C”j“]3”f6
・0″8・7°5?7(51Ti’i各部に至る光路長
は略等しいものであることから、プラテン(5)下面の
一部が極端に明るいブライトスポットになることはなく
、プラテン(5)下面における光量分布は第6図(al
に示すように略均−なものとして力えられることになる
。この状態において、プラテン(5)下面の光はプラテ
ン(5)をそのまま透過することから、プラテン(5)
上の複写原稿(4)全面は略均−な照度で同時に照明さ
れる。このように照明された複写原稿(4)の原像は結
像レンズ(7)及び光量補正フィルタ(12)を介して
感光面(11)上に投影される。このとき、結像レンズ
(7)の余弦四乗則特性からして、結像レンズ(7)通
過時において画角(のに応じて投影される像部分の光量
がcos’θ分だけ低下し、結像レンズ(7)を通過し
た直後において上記投影像の光量分布は第6図(blに
示すように現われるが、この不均一な光量分布は上記光
量補正フィルタ(12)によって補正されることから、
当該光量補正フィルタ(12)を通過した段階において
投影像の光量分布は第6図(c)に示すように略均−に
保たれる。
ラッシュ光源(6)が発光すると、フラッシュ光源(6
)からの光は、ランプシェード(9)とブロッカ(lO
)との隙間(13)から直接キャビティ(1)内に照射
され、当該キャビティ(1)内で多重反射した後プラナ
、 7 (51Ti’ji[C”j“]3”f6
・0″8・7°5?7(51Ti’i各部に至る光路長
は略等しいものであることから、プラテン(5)下面の
一部が極端に明るいブライトスポットになることはなく
、プラテン(5)下面における光量分布は第6図(al
に示すように略均−なものとして力えられることになる
。この状態において、プラテン(5)下面の光はプラテ
ン(5)をそのまま透過することから、プラテン(5)
上の複写原稿(4)全面は略均−な照度で同時に照明さ
れる。このように照明された複写原稿(4)の原像は結
像レンズ(7)及び光量補正フィルタ(12)を介して
感光面(11)上に投影される。このとき、結像レンズ
(7)の余弦四乗則特性からして、結像レンズ(7)通
過時において画角(のに応じて投影される像部分の光量
がcos’θ分だけ低下し、結像レンズ(7)を通過し
た直後において上記投影像の光量分布は第6図(blに
示すように現われるが、この不均一な光量分布は上記光
量補正フィルタ(12)によって補正されることから、
当該光量補正フィルタ(12)を通過した段階において
投影像の光量分布は第6図(c)に示すように略均−に
保たれる。
このため、上記投影像は略均−な照度レベルで感光面(
Ill J−に投影され、この投影像に基づくコピー画
質は良好に保たれるのである。
Ill J−に投影され、この投影像に基づくコピー画
質は良好に保たれるのである。
然しなから、このような従来における複写機の露光装置
にあっては、プラテン(5)は透過性部材で形成されて
いることから、プラテン(5)下面を均一照射する露光
時の強い光はそのままプラテン(5)を透過してしまう
ようになっている。このため、例えば小サイズの複写原
稿(4)をプラテン(5)」−の一部に載置したような
場合において、仮にプラテン(5)を覆うプラテンカバ
ー(図示せず)を開けたまま複写操作を行なったとする
と、露光時の強い光が複写原稿(4)の周囲から外部に
洩れてオペレータ等周囲の者の目に直射してしまい、ア
イハザードの原因になってしまう。また、従来の露光装
置にあっては、感光面(11)上の投影像の照度分布を
略均−に保つ上で、光量補正フィルタ(12)が必要不
可欠の部品になっていることから、その分、露光装置を
構成する部品点数が多くなり、露光装置自体の構造が複
雑化してしまうという問題もある。
にあっては、プラテン(5)は透過性部材で形成されて
いることから、プラテン(5)下面を均一照射する露光
時の強い光はそのままプラテン(5)を透過してしまう
ようになっている。このため、例えば小サイズの複写原
稿(4)をプラテン(5)」−の一部に載置したような
場合において、仮にプラテン(5)を覆うプラテンカバ
ー(図示せず)を開けたまま複写操作を行なったとする
と、露光時の強い光が複写原稿(4)の周囲から外部に
洩れてオペレータ等周囲の者の目に直射してしまい、ア
イハザードの原因になってしまう。また、従来の露光装
置にあっては、感光面(11)上の投影像の照度分布を
略均−に保つ上で、光量補正フィルタ(12)が必要不
可欠の部品になっていることから、その分、露光装置を
構成する部品点数が多くなり、露光装置自体の構造が複
雑化してしまうという問題もある。
この発明は以−りの観点に立って為されたものであって
、その課題とするところは、プラテンから外部への洩れ
光を抑制し、もって、プラテンカバー開放時においてオ
ペレータ等の目に対する刺激を少なく抑え、しかも光量
補正フィルタを不要とした簡単な構成をもつ複写機の露
光装置を提供することにある。
、その課題とするところは、プラテンから外部への洩れ
光を抑制し、もって、プラテンカバー開放時においてオ
ペレータ等の目に対する刺激を少なく抑え、しかも光量
補正フィルタを不要とした簡単な構成をもつ複写機の露
光装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕そして、上述
した課題を解決するために、この発明は、プラテン面を
略均−に照明する全面露光方式の露光装置を前提とし、
上記プラテンに当該プラテン透過光量を抑制する光量補
正層を設け、この光量補正層によって結像レンズの余弦
四乗則特性を補正するようにしたものである。
した課題を解決するために、この発明は、プラテン面を
略均−に照明する全面露光方式の露光装置を前提とし、
上記プラテンに当該プラテン透過光量を抑制する光量補
正層を設け、この光量補正層によって結像レンズの余弦
四乗則特性を補正するようにしたものである。
以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの発明の詳細
な説明する。
な説明する。
第1図乃至第3図に示す実施例において、露光装置は、
従来と同様に、略ボックス状のキャビティ(1)を画成
し且つ内壁面が高反射面(3)として形成されるハウジ
ング(2)と、このハウジング(2)の頂部(2a)に
開設した矩形状の開口に装着されるガラス製等のプラテ
ン(5)と、上記ハウジング(2)の側周部(2b)内
壁面の一側に設置される−のフラッシュ光源(6)と、
上記ハウジング(2)の底部(2C)略中央に開設した
レンズ取付孔にレンズケース(8)を介して装着される
結像レンズ(7)とを備えている。
従来と同様に、略ボックス状のキャビティ(1)を画成
し且つ内壁面が高反射面(3)として形成されるハウジ
ング(2)と、このハウジング(2)の頂部(2a)に
開設した矩形状の開口に装着されるガラス製等のプラテ
ン(5)と、上記ハウジング(2)の側周部(2b)内
壁面の一側に設置される−のフラッシュ光源(6)と、
上記ハウジング(2)の底部(2C)略中央に開設した
レンズ取付孔にレンズケース(8)を介して装着される
結像レンズ(7)とを備えている。
この実施例において、上記プラテン(5)の下面には当
該プラテン(5)透過光量を抑制する光量補正層(20
)がコーティングされている。この光量補正層(20)
は、例えばニクロム製の金属膜で構成されていて、プラ
テン(5)周辺部から中心部にかけて次第に厚く形成さ
れ、第8図に示すように、結像レンズ(7)に対する画
角(θ)の部位W(θ)てcos’θに逆比例する透過
率Tを備えている。
該プラテン(5)透過光量を抑制する光量補正層(20
)がコーティングされている。この光量補正層(20)
は、例えばニクロム製の金属膜で構成されていて、プラ
テン(5)周辺部から中心部にかけて次第に厚く形成さ
れ、第8図に示すように、結像レンズ(7)に対する画
角(θ)の部位W(θ)てcos’θに逆比例する透過
率Tを備えている。
また、この実施例において、上記フラッシュ光源(6)
の上方には、当該フラッシュ光源(6)からプラテン(
5)に向かう直射光を遮断するランプシェード(9)が
設置される一方、上記フラッシュ光源(6)の下方には
、当該フラッシュ光源(6)から略直下に向か1
う光ヶV5.7.x光源f61 Ic対向t、b
2、つ、アゲ(2)の側周部(2b)に向けて拡散反射
させるリフレクタe■が設置されている。
の上方には、当該フラッシュ光源(6)からプラテン(
5)に向かう直射光を遮断するランプシェード(9)が
設置される一方、上記フラッシュ光源(6)の下方には
、当該フラッシュ光源(6)から略直下に向か1
う光ヶV5.7.x光源f61 Ic対向t、b
2、つ、アゲ(2)の側周部(2b)に向けて拡散反射
させるリフレクタe■が設置されている。
従って、この実施例に係る複写機の露光装置によれば、
露光時において上記フラッシュ光源(6)が発光すると
、当該フラッシュ光源(6)からの光は、ランプシェー
ド(9)とりフレツク(ハ)との隙間(イ)から直接若
しくはリフレクタQ■で拡散反射した後プラテン(5)
下面に到達する。このとき、プラテン(5)下面各部に
至る光路長は略等しいものであることから、プラテン(
5)下面における光量分布は第4図(alに示すように
略均−なものとして与えられる。この後、プラテン(5
)下面の光は光量補正層(20)及びプラテン(5)を
透過することになるが、光量補正層@)の特性からして
、当該光量補正層(20+を透過する光量はプラテン(
5)周辺部から中心部にかけて次第に少なく抑えられ、
プラテン(5)透過光量は第4図(b)に示すようにプ
ラテン(5)中心部を最小とした周辺過多の状態に変化
し、プラテン(5)上の複写原稿(4)全面が第4図<
b+に対応する照度分布で同時に照明される。この場合
において、上記プラテン(5)透過光量はプラテン(5
)下面の照射光量より少なくなっていることから、仮に
、小サイズの複写原稿(4)をプラテン(5)上の一部
に載置し、プラテンカバーを開けたまま複写操作を行な
ったとしても、複写原稿(4)の周囲から外部に洩れる
光のレベルは従来に比べて弱くなり、その分、オペレー
タ等周囲の者の目に対して上記洩れ光が大きな負担にな
るという事態は有効に回避される。
露光時において上記フラッシュ光源(6)が発光すると
、当該フラッシュ光源(6)からの光は、ランプシェー
ド(9)とりフレツク(ハ)との隙間(イ)から直接若
しくはリフレクタQ■で拡散反射した後プラテン(5)
下面に到達する。このとき、プラテン(5)下面各部に
至る光路長は略等しいものであることから、プラテン(
5)下面における光量分布は第4図(alに示すように
略均−なものとして与えられる。この後、プラテン(5
)下面の光は光量補正層(20)及びプラテン(5)を
透過することになるが、光量補正層@)の特性からして
、当該光量補正層(20+を透過する光量はプラテン(
5)周辺部から中心部にかけて次第に少なく抑えられ、
プラテン(5)透過光量は第4図(b)に示すようにプ
ラテン(5)中心部を最小とした周辺過多の状態に変化
し、プラテン(5)上の複写原稿(4)全面が第4図<
b+に対応する照度分布で同時に照明される。この場合
において、上記プラテン(5)透過光量はプラテン(5
)下面の照射光量より少なくなっていることから、仮に
、小サイズの複写原稿(4)をプラテン(5)上の一部
に載置し、プラテンカバーを開けたまま複写操作を行な
ったとしても、複写原稿(4)の周囲から外部に洩れる
光のレベルは従来に比べて弱くなり、その分、オペレー
タ等周囲の者の目に対して上記洩れ光が大きな負担にな
るという事態は有効に回避される。
そして、上述したように照明された複写原稿(4)の原
像は結像レンズ(7)を介して感光面(11)上に投影
される。このとき、結像レンズ(7)の余弦四乗前特性
に基づいて結像レンズ(7)を通過した投影像の光量は
結像レンズ(7)に対する画角(のに応じてcos’θ
分だけ低下することになるが、第4図(b)で示す光量
分布からして、もともと画角(θ)に対応する原像部分
の光量はcos’θに逆比例したものになっていること
から、上記結像レンズ(7)の余弦四乗前特性に基づく
光量低下分は自然に補正され、結像レンズ(7)を通過
した投影像の光量分布は第4図(clに示すように略均
−なものとして与えられる。それ故、上記投影像は略均
−な照度レベルで感光面(11)上に投影され、この投
影像に基づくコピー画質は良好に保たれる。
像は結像レンズ(7)を介して感光面(11)上に投影
される。このとき、結像レンズ(7)の余弦四乗前特性
に基づいて結像レンズ(7)を通過した投影像の光量は
結像レンズ(7)に対する画角(のに応じてcos’θ
分だけ低下することになるが、第4図(b)で示す光量
分布からして、もともと画角(θ)に対応する原像部分
の光量はcos’θに逆比例したものになっていること
から、上記結像レンズ(7)の余弦四乗前特性に基づく
光量低下分は自然に補正され、結像レンズ(7)を通過
した投影像の光量分布は第4図(clに示すように略均
−なものとして与えられる。それ故、上記投影像は略均
−な照度レベルで感光面(11)上に投影され、この投
影像に基づくコピー画質は良好に保たれる。
また、この実施例においては、上記リフレクタe1)は
、従来のブロッカ(10)として機能するほか、フラッ
シュ光源(6)からの光をキャビティ(1)内へ無駄な
く導く導光部材として働いている。このため、フラッシ
ュ光源(6)からの光がランプシェード(9)とりフレ
ツクQυとの空間内にこもることはなく、フラッシュ光
源(6)からの光をプラテン(5)照明光として有効に
利用できるほか、フラッシュ光源(6)における照射光
量の損失がないこLから、フラッシュ光源(6)の消費
電力が不必要に大きくなることはなくなり、その分、フ
ラッシュ光源(6)として低コストのものを使用するこ
とが可能である。
、従来のブロッカ(10)として機能するほか、フラッ
シュ光源(6)からの光をキャビティ(1)内へ無駄な
く導く導光部材として働いている。このため、フラッシ
ュ光源(6)からの光がランプシェード(9)とりフレ
ツクQυとの空間内にこもることはなく、フラッシュ光
源(6)からの光をプラテン(5)照明光として有効に
利用できるほか、フラッシュ光源(6)における照射光
量の損失がないこLから、フラッシュ光源(6)の消費
電力が不必要に大きくなることはなくなり、その分、フ
ラッシュ光源(6)として低コストのものを使用するこ
とが可能である。
尚、上記実施例にあっては、プラテン(5)下面に光量
補正層(5))を設けているが、必ずしもこれに限定さ
れるものではなく、プラテン(5)上面に光量補正層(
20)を設けてもよいし、プラテン(5)を二枚以上の
部材を合せて構成したものについては、各部材間に光量
補正層(2Q)を介装しても差支えない。また、上記実
施例にあっては、プラテン(5)を均一照明するフラッ
シュ照明手段として、ハウジング(2)の高反射面(3
)、−のフラッシュ光源(6)、ランプシェード(9)
及びリフレクタ0υが用いられているが、これに限られ
るものではなく、従来のタイプを始め、複数のフラッシ
ュ光源(6)を用いたものやプラテン(5)を直接照明
するタイプ等適宜設計変更して差支えない。更に、露光
装置の他部品の具体的構成についても適宜設計変更でき
ることは勿論である。
補正層(5))を設けているが、必ずしもこれに限定さ
れるものではなく、プラテン(5)上面に光量補正層(
20)を設けてもよいし、プラテン(5)を二枚以上の
部材を合せて構成したものについては、各部材間に光量
補正層(2Q)を介装しても差支えない。また、上記実
施例にあっては、プラテン(5)を均一照明するフラッ
シュ照明手段として、ハウジング(2)の高反射面(3
)、−のフラッシュ光源(6)、ランプシェード(9)
及びリフレクタ0υが用いられているが、これに限られ
るものではなく、従来のタイプを始め、複数のフラッシ
ュ光源(6)を用いたものやプラテン(5)を直接照明
するタイプ等適宜設計変更して差支えない。更に、露光
装置の他部品の具体的構成についても適宜設計変更でき
ることは勿論である。
以上説明してきたように、この発明に係る複写機の露光
装置によれば、光量補正層によってプラテン透過光量を
抑制しているので、プラテンカバー開放時において、プ
ラテンから外部へ洩れる光のレベルを弱くすることがで
き、その分、オペレータ等周囲の者の目に対する刺激を
少なくすることができるほか、プラテンの光量補正層で
結像レンズの特性を補正するようにしているので、従来
−。、うゆヵ□イエ、イア、7カ3カ1]8、□−4ゆ
くなり、その分、露光装置を構成する部品点数を低減で
き、露光装置の構成を簡略にすることができる。
装置によれば、光量補正層によってプラテン透過光量を
抑制しているので、プラテンカバー開放時において、プ
ラテンから外部へ洩れる光のレベルを弱くすることがで
き、その分、オペレータ等周囲の者の目に対する刺激を
少なくすることができるほか、プラテンの光量補正層で
結像レンズの特性を補正するようにしているので、従来
−。、うゆヵ□イエ、イア、7カ3カ1]8、□−4ゆ
くなり、その分、露光装置を構成する部品点数を低減で
き、露光装置の構成を簡略にすることができる。
第1図はこの発明に係る複写機の露光装置の一実施例を
示す断面説明図、第2図は第1図中■部拡大図、第3図
は光量補正層の特性を示すグラフ図、第4図は第5図中
X−X線、B−B線及びC−C線に沿う光量Pの分布状
態を示すグラフ図、第5図は従来における複写機の露光
装置の一例を示す断面説明図、第6図は第5図中X−X
線、Y−Y線及び2−2線に沿う光量Pの分布状態を示
すグラフ図である。 〔符号説明〕 (2)・・・・・・ハウジング (3)・・・・・・高反射面(フラッシュ照明手段)(
4)・・・・・・複写原稿 (5)・・川・プラ
テン(6)・・・・・・フラッシュ光源(フラッシュ照
明手段)(7)・・・・・・結像レンズ
示す断面説明図、第2図は第1図中■部拡大図、第3図
は光量補正層の特性を示すグラフ図、第4図は第5図中
X−X線、B−B線及びC−C線に沿う光量Pの分布状
態を示すグラフ図、第5図は従来における複写機の露光
装置の一例を示す断面説明図、第6図は第5図中X−X
線、Y−Y線及び2−2線に沿う光量Pの分布状態を示
すグラフ図である。 〔符号説明〕 (2)・・・・・・ハウジング (3)・・・・・・高反射面(フラッシュ照明手段)(
4)・・・・・・複写原稿 (5)・・川・プラ
テン(6)・・・・・・フラッシュ光源(フラッシュ照
明手段)(7)・・・・・・結像レンズ
Claims (1)
- 閉断面構造のハウジングと、このハウジングの頂部に開
設した開口に装着されて複写原稿の載置面を構成し且つ
透過性部材で形成されたプラテンと、上記ハウジングの
内部に配設され、上記プラテン下面全面を瞬時に均一照
明するフラッシュ照明手段と、上記ハウジングの底部略
中央に開設した孔に装着される結像レンズとを備え、上
記フラッシュ照明手段で照明されたプラテン上の複写原
稿の原像を上記結像レンズを介して所定の感光面に投影
するようにした複写機の露光装置において、上記プラテ
ンには、上記結像レンズの余弦四乗則特性を補正するよ
うに当該プラテン透過光量を抑制する光量補正層を設け
たことを特徴とする複写機の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12379984A JPS614083A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | 複写機の露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12379984A JPS614083A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | 複写機の露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614083A true JPS614083A (ja) | 1986-01-09 |
Family
ID=14869600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12379984A Pending JPS614083A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | 複写機の露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614083A (ja) |
-
1984
- 1984-06-18 JP JP12379984A patent/JPS614083A/ja active Pending
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