JPS614133A - 陰極構体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はカラーブラウン管等の電子管に使用して好適な
陰極構体の製造方法く１関する。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

一般にカラーブラウン管や進行波管などの電子管に使用
される陰極構体としては酸化物陰極構体が広く使用され
ている。

この酸化物陰極構体においては、ランタン、マグネシウ
ム、ケイ素、ジルコニウム、タングステン等の還元剤が
微量添加されたニッケル基台苔よりなる基体金属上に、
バリウム（Ｂａ）　ｔストロンチウム（Ｓｒ）、カルシ
ウム（Ｃａ）等のアルカリ土類金属の炭酸塩を塗布し、
これを真空中で加熱分解することにより酸化物に分解転
化し、電子放射物質としている。基体金属中の還元剤は
電子放射物質を活性化させ、良好な電子放射を実現する
ために消費される。

このようにして形成される陰極構体の１例を次に示す。

第２図は陰極本体を示し、基体金属αυが陰極スリーブ
（２）の頂部内側に圧入溶接され、基体金属（１υの表
面には電子放射物質Ｑ３が被着されている。上記陰極ス
リーブ（２）は陰極本体支持筒（６）に陰極本体支持子
（７）を介して保持されている。又、１記陰極スリーブ
（２）内にはヒータ（８）が挿入固定されるものである
。

カラーブラウン管においては、ライフ特性がすぐれてい
ること、できるだけ速かに安定した画像が得られること
すなわち連動性がよいことなどが要望されるものであっ
て、それらに対しては種々の対策が講ぜられている。例
えば特開昭５８−２２５５２８号公報で示されたように
、基体金属が還元剤として少なくともランタンを０．０
５〜１．０重量％含有するニッケル基合金でなる陰極構
体を形成し、特性の向上をはかつている。すなわちこの
陰極構体は高温強度特性がすぐれているので、１００μ
以下の厚さの基体金属からなるもので試験を行っても、
試験中に変形することなく、良好なライフ特性が得られ
、又速動性も良好である。しかしながら市場の要求とし
てはさらに特性の一層の向上が望まれ、一層高品位の陰
極構体が要望されている。

〔発明の目的〕

本発明はこのような点にかんがみなされたもので、還元
剤として少なくとも微量のランタンを含有したニッケル
基合金からなる基体金属を用いた陰極構体の出画時間の
連動性ならびに低入力電圧時のエミッション特性を一層
向上させる陰極構体の製造方法を提供することを目的と
する。

〔発明の概要〕

先ず本発明者が上記の要望にこたえるべく基体金属につ
いての本発明を完成した実験結果について述べる。

基体金属を形成するニッケルを主体とする合金として、
（Ａ）ニッケルを主体とし、還元剤としてランタンを０
．５重量％、シリコンを０．０８重量％含有するもの、
０）ニッケルを主体とし、還元剤としてマグネシウムを
Ｏ，ＯＳ重量％、シリコンをＯ，ＯＳ重量％含有し、ラ
ンタンを含有しないものとを作〜製し、酌 これらを用いて成る基体金属表面を、（■）化学蝕刻へ 法によるエツチング処理、（Ｉ）サンドベーパによる研
摩処理、（Ｉ）まったく表面処理を行わないすなわち表
面無処理を行い、組み合わせで次の表のように６種類の
陰極構体を形成した。

表 化学的蝕刻法によるエツチング処理は次のようにして行
った。

エツチング時間／温度　１〜３分／１５〜２５℃先ず基
体金属の裏面全体を保護ワックスで覆い、表面は印刷法
によって部分的にマスキングして、上記のエツチング液
でエツチングし、次いでマスキングを除去し、上記エツ
チングされた個所とは別の個所をエツチングできるよう
に別のマスキングラ行イ、エツチングをする。このよう
な処理をくりかえして基体金属の表面を粗面化した。

サンドベーパによる研摩は、基体金属を高速回転させな
がらサンドベーパな基体金属表面に押しつけて研摩し、
基体金属の表面を粗面化した。

これら各試料の熱容量が等しくなるように、エツチング
量、研摩量ならびに無処理のものは圧延時、の厚さを調
整した。

このようにして形成された６種類の基体金属の表面にＢ
ａ　、Ｓｒ　、Ｃａの炭酸塩をそれぞれ塗布して、得ら
れた陰極構体を配設したカラーブラウン管の特性検査の
結果を第８図と第４図に示す。

第３図は出画時間つまり連動性についての評価を示し、
第４図は低入力電圧時のエミッション特性についての評
価を示す。縦軸は何れもエミッション電流、第３図の横
軸はヒータ入力からの時間、第４図の横軸はヒータ入力
電圧をそれぞれ示す。

両図（＝おける曲線（１）〜曲線（６）はそれぞれ上記
表に示した試料番号（１）〜（６）のものの特性を示す
ものである。第３図と第４図とから分るように還元剤と
してランタンを微量含有するニッケル基合金からなり表
面をエツチング処理して粗面化した基体金属によるもの
がもつともすぐれた特性を示した。

このように還元剤の種類と含有量の点からの改善に加え
て基体金属の形状すなわち表面状態を改善して特性の一
段の向上という要望にこたえたのが本発明の方法である
。すなわち本発明の方法は、ニッケルを主体とし、還元
剤として少なくとも微量のランタンを含有する合金から
板状体の基体金属を形成し、その表面を化学的蝕刻法に
より粗面化し、この粗面化された表面に電子放射物質を
被着する工程を具備する陰極構体の製造方法でちる。

〔発明の実施例〕

以下本発明の実施例について説明する。

実施例１１ニツケルを主体とし、ランタンを０．５重量
％、シリコンを０．０３重量％含有する厚さＱ、１ｍｉ
のニッケル基合蛍板から所望の円板状に基体並属を成形
する。耐酸性ワックス（例えばアビニシンワックス（商
品名））を塗布した上に上記基体並属をその裏面をワッ
クスに接して並らべ裏面を保護する。次いで印刷法によ
って基体金属表面に同種の保護ワックスをマスクにより
部分的に塗布し次に示すエツチング液に１〜３分間浸け
る。

基体金属表面は選択的に浸蝕され凹部が形成される。

−次にトリクレン等の有機溶剤をシャワー状に吹きつけ
て基体金属表面のワックスを除去する。

基体金属の表面のエツチング液に侵蝕されていない部分
を上記と同じように同種のワックスを部分的に塗布し、
少し時間をかえてエツチング液により選択的に庇蝕する
。このような処理をくりかえして、部分的に浸蝕度が異
なる５〜１０μの粗度を有する表面の基体雀鴇が得られ
る。これを充分に洗浄してのち、水素処理を行ない、通
常の方法でＢａ、Ｓｒ、Ｃａの炭酸塩を塗布して、陰極
構体が得られる。その概要を第１図に示す。第１図にお
いてスリーブ（２）の頂部に圧入取着された基体金属（
１）は、その表向が粗面化され、その上に電子放射物質
（３）が塗布されている。

本発明の陰極構体は、第３図ならびに第４図の曲線（１
）に示したものと同じ特性を示した。例えば連動性にお
いてはランタン入りのニッケル基合金からなるものより
も表面を粗面化したので約１秒よくなった。

実施例２、ニッケルを主体とし、ランタンを０．５重量
％、シリコンを０．０２重量％含有するニッケル基合金
からなる厚さ０．１間の基体金属を形成し、実施例１．
と同じようにその表面を選択浸蝕する。このときエツチ
ング液に浸ける時間を長くして３〜１０分間浸漬し、基
体金属表面の粗度な１０〜８０μとし、次いで上記例と
同じようにＢａ、Ｓｙ。

Ｃａの炭酸塩を塗布する。このようにして形成した陰極
構体も実施例１．と同じようにすぐれた特性を示した。

なお陰極゛構体は第２区に示したものばかりでなく、カ
ップ型や複スリーブ型など種々の歴式のものがあって、
何れのものにも本発明に係る基体金属を配設していずれ
も上記したようなすぐれた特性を示すものである。

〔発明の効果〕

以上のように本発明の方法によって形成された基体金属
を有する陰極構体を配設したたとえばカラーブラウン管
では、良好な画像か得られる出画時間の連動性が従来の
ものよりもさらに・良くなり又、低入力電圧時のエミッ
ション特性も一層向上するなど製品特性の改善かはから
・れ、本発明の方法は工業的に有用な陰極構体の製造方
法である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基体金属の取着された陰極本体の概略
を示す断面図、第２図は陰極構体を示す断面図、＄３図
は連動性を示す曲線図、第４図は低入力電圧時のエミッ
ション特性を示す曲線図である。 １・・・基体金属、２・・・陰極スリーブ、３・・・電
子放射物質。 代理人　弁理士　　井　上　−男 第　　１　　図 第３図 入力時Ｉｆらの１げ粗 第　２　図 第　　４　　図 人７］雀五

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ニッケルを主体とし、還元剤として少なくとも微量のラ
   ンタンを含有する合金からなる基体金属の表面を化学的
   蝕刻法により粗面化してのち、この表面に電子放射物質
   を被着する工程を具備することを特徴とする陰極構体の
   製造方法。