JPS6141570B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6141570B2
JPS6141570B2 JP53011610A JP1161078A JPS6141570B2 JP S6141570 B2 JPS6141570 B2 JP S6141570B2 JP 53011610 A JP53011610 A JP 53011610A JP 1161078 A JP1161078 A JP 1161078A JP S6141570 B2 JPS6141570 B2 JP S6141570B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
eye
aiming
optical axis
index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP53011610A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS54104692A (en
Inventor
Shinji Wada
Ikuo Kitao
Yasuo Kato
Taketoshi Ishihara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Optical Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Optical Co Ltd filed Critical Tokyo Optical Co Ltd
Priority to JP1161078A priority Critical patent/JPS54104692A/ja
Priority to US05/935,608 priority patent/US4277150A/en
Publication of JPS54104692A publication Critical patent/JPS54104692A/ja
Publication of JPS6141570B2 publication Critical patent/JPS6141570B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、アイレフラクトメーターに関する。
特に、本発明はアイレフラクトメーターにおける
照準装置に関する。
被検眼の矯正屈折度を他覚的に測定するための
アイレフラクトメーターは、被検眼の瞳孔を通し
てターゲツトを眼底に投影し、被検眼の網膜に結
像したターゲツト像の合焦状態を測定して、ター
ゲツト像が網膜上に鮮明に結像するときのターゲ
ツトの位置により、被検眼の屈折度を必要な矯正
屈折度数として測定するものである。この測定に
際し、被検眼の角膜頂点と対物レンズとの距離す
なわちワーキングデイスタンスを適正に保つと同
時に、被検眼光軸と測定光軸とを合致させるた
め、照準光学系が設けられる。
この照準光学系は、測定光学系と同一水平面内
で、一定角度すなわち普通は9゜の角度をなす方
向から被検眼前眼部を観察し、たとえばスプリツ
トプリズム等の手段により、被検眼に対する対物
レンズの適正なワーキングデイスタンスを確認で
きるようにしたものである。また、光軸のアライ
ンメントの確認のためには、適正なワーキングデ
イスタンスが保たれていることの前提のもとで、
照準系の指標線を被検眼瞳の中心に合わせる方法
がとられている。
照準及び測定が近赤外光又は赤外光により行な
われるようになつた赤外線アイレフラクトメータ
ーにおいては、暗視装置の解像力が十分でないた
め、スプリツト像合致方式ではワーキングデイス
タンスに或る程度の誤差が避けられない。照準光
学系は測定光学系に対し角度を有するので、この
ワーキングデイスタンスの誤差は、被検眼光軸と
測定光学系光軸とのアラインメント誤差を生じ
る。被検眼光軸と測定光軸とのこのアラインメン
ト誤差は、眼球光学系の収差のため、特に乱視測
定に誤差を生じ、好ましくない。特に、赤外線ア
イレフラクトメーターにおいては、被検眼の瞳が
開いているため、被検眼光軸と測定光軸との或る
程度のずれでは眼底におけるターゲツト像に特別
な異常を生じず、アラインメント誤差を測定時に
察知することができない。
此処で、ワーキングデイスタンス誤差と光軸の
アラインメント誤差の測定結果への影響について
検討すると、ワーキングデイスタンスのたとえば
5mm程度の誤差は、10デイオプターの場合に約
0.5デイオプター、5デイオプターの場合に約
0.12デイオプターの測定誤差となつて現れるにす
ぎないが、光軸アラインメント誤差による乱視測
定の誤差は重大である。したがつて、光軸のアラ
インメント誤差を除くことのできる照準装置を設
けることが特に望まれる。
したがつて、本発明の主目的は、被検眼光軸と
測定光軸とを十分に正確に一致させることのでき
るアイレフラクトメーター用の照準装置を提供す
ることである。
被検眼光軸と測定光軸に沿つて行なうのが最も
よい。このためには、測定光軸上にハーフミラー
を置いて、このハーフミラーの反射光軸上に照準
光学系を配置すればよい。しかし、このように測
定光学系にハーフミラーを置くことは、光量の損
失を招き、特に赤外線アイレフラクトメーターの
場合、測定光学系及び照準光学系ともに、光量に
余裕がないため、実用上このような配置を採用す
ることはできない。
そこで、本発明においては、ハーフミラー等の
手段を用いることなく光軸のアラインメント誤差
を確実に除き得るようにするため、測定光学系の
光軸と照準光学系の光軸とを含む面に対しほぼ直
交する面内で被検眼前眼部に指標線を投影する指
標投影装置が設けられ、照準光学系には指標投影
装置の指標線にほぼ直交する方向の指標線が設け
られ、両指標線の被検眼との関係位置により、光
軸のアラインメントが確認されるようになつてい
る。すなわち、指標投影装置を、測定光学系の光
軸を含む垂直面内に設け、垂直方向の指標を投影
するようにすれば、この指標と被検眼のたとえば
虹彩との関係位置により光軸の水平方向のアライ
ンメントが得られ、照準光学系に設けた水平方向
の指標により、光軸の垂直方向のアラインメント
が得られる。
以下、本発明の一実施例を図について説明す
る。図に示す赤外線アイレフラクトメーターは、
測定光学系A、投影光学系B、照準光学系C及び
指標投影系Dを有し、測定光学系Aは、対物レン
ズ1、3角形プリズム2と平面鏡3からなる公知
の構成のイメージローテーター4、孔あきプリズ
ム5及び結像レンズ6を有し、結像レンズ6を経
た光は撮像管7の光電面に結像する。投影光学系
Bは、近赤外光源8、コンデンサレンズ9、ター
ゲツト板10及び投影レンズ11を有し、レンズ
11を経た光は、孔あきプリズム5の傾斜面によ
り測定光学系Aの光軸12に沿つて反射され、イ
メージローテーター4及び対物レンズ1を経て被
検眼Eに投影され、眼底にターゲツト像を結像す
る。この眼底におけるターゲツト像からの光は、
被検眼Eの瞳孔を通して測定光学系Aに入り、撮
像管7の光電面に結像し、ターゲツト像がテレビ
13に可視像として写し出される。
照準光学系Cは、測定光学系Aの光軸12と同
一水平面内にあり、かつ対物レンズ1の前方の点
14において該光軸12と交わる光軸15を有
し、この光軸15に沿つて対物レンズ1の後方に
レンズ16、スプリツトプリズム17、レンズ1
8,19、絞り板20及び結像レンズ21が配置
され、レンズ21を通つた光は撮像管22の光電
面に結像する。
指標投影系Dは、測定光学系Aの光軸12と同
一の垂直面内にありかつ該光軸12と点14にお
いて交差する光軸23を有し、近赤外光源24、
コンデンサレンズ25、指標板26、反射ミラー
27及び投影レンズ28,29を有する。指標板
26上には指標線すなわち本例においては光軸を
挾んで対称な2本の平行線が描かれこの指標線は
第4図aに示すように垂直方向の2本の暗線とし
て被検眼前眼部に投影される。
照準光学系Cには適当な位置、たとえばスプリ
ツトプリズム17の焦点面に第4図bに示すよう
な水平方向の2本の指標線が光軸に関し対称に描
かれている。したがつて、このアイレフラクトメ
ーターを用いるときは、まずスプリツトプリズム
により得られる被検眼前眼部のスプリツト像が合
致するように、被検眼Eと対物レンズ1との間の
ワーキングデイスタンスを調節したのち、装置を
水平方向に移動調節して、被検眼前眼部に投影さ
れる2本の暗線が被検眼虹彩を挾むように位置決
めし、次いで装置を垂直方向に移動調節して、照
準光学系の2本の水平指標線が被検眼虹彩を挾み
込むように位置決めする。これによつて、測定光
学系Aの光軸12を被検眼Eの光軸に正確に合致
させることができる。
以上述べたように、本発明においては、測定光
学系の光軸と照準光学系の光軸とを含む面に対し
ほぼ直交する面内で被検眼前眼部に指標線を投影
し、照準光学系にはこの投影指標線にほぼ直交す
る方向の指標線を設けたので、これら指標線と被
検眼前眼部の適当な部分たとえば虹彩との位置関
係を定めることにより、測定光学系の光軸と被検
眼の光軸とのアラインメントを正確に得ることが
できる。また、このアラインメントのための手段
は、測定及び照準光学系の光量損失を伴なうこと
がなく、余裕光量の少ない赤外線アイレフラクト
メーターに適用して多大の効果を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す赤外線アイレ
フラクトメーターの光学系配置の概略斜視図、第
2図はその光学系の平面図、第3図は側面図、第
4図aは指標投影系により投影される指標の一例
を示す図、第4bは照準光学系に設けられる指標
の例を示す図である。 A……測定光学系、B……投影光学系、C……
照準光学系、D……指標投影系、1……対物レン
ズ、5……孔あきプリズム、7,22……撮像
管、10……ターゲツト板、17……スプリツト
プリズム、26……指標板。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 被検眼の瞳孔を通してターゲツトを投影する
    ための投影光学系と、被検眼の網膜に結像したタ
    ーゲツト像の合焦状態を被検眼の瞳孔を通して測
    定するための測定光学系と、前記測定光学系の光
    軸に交差する光軸を有し角膜反射光により被検眼
    光軸と前記測定光学系の光軸とのアラインメント
    を判別する照準光学系とからなるアイレフラクト
    メーターにおいて、前記測定光学系の光軸と前記
    照準光学系の光軸とを含む面に対しほぼ直交する
    面内で被検眼前眼部に指標線を投影する指標投影
    装置が設けられ、前記照準光学系は前記指標投影
    装置の指標線にほぼ直交する方向の指標線を有す
    ることを特徴とする照準装置。 2 前記第1項において、前記ターゲツト及び指
    標の投影は赤外光により行なわれ、前記測定光学
    系及び照準光学系は、赤外光による像を観察する
    ための暗視装置を有することを特徴とする照準装
    置。 3 前記第1項又は第2項において、前記指標投
    影装置の指標線及び前記照準光学系の指標線の
    各々はそれぞれの光軸に関し対称に配置された2
    本の線からなり、互に交差する各2本の線間に被
    検眼虹彩をはさみ込んで照準を行なうようになつ
    た照準装置。 4 前記第1項ないし第3項のいずれかにおい
    て、前記照準光学系は前記測定光学系に対し水平
    面内横方向に配置され、前記指標投影装置は垂直
    方向下方に配置されたことを特徴とする照準装
    置。
JP1161078A 1977-08-24 1978-02-04 Device for aiming in eyeerefractometer Granted JPS54104692A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1161078A JPS54104692A (en) 1978-02-04 1978-02-04 Device for aiming in eyeerefractometer
US05/935,608 US4277150A (en) 1977-08-24 1978-08-21 Eye refractmeter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1161078A JPS54104692A (en) 1978-02-04 1978-02-04 Device for aiming in eyeerefractometer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54104692A JPS54104692A (en) 1979-08-17
JPS6141570B2 true JPS6141570B2 (ja) 1986-09-16

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ID=11782668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1161078A Granted JPS54104692A (en) 1977-08-24 1978-02-04 Device for aiming in eyeerefractometer

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58116336A (ja) * 1981-12-28 1983-07-11 キヤノン株式会社 眼科機器の位置合わせ装置
JPS61185246A (ja) * 1985-02-12 1986-08-18 キヤノン株式会社 眼底カメラ

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Publication number Publication date
JPS54104692A (en) 1979-08-17

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