JPS6141765A - 真空蒸着法及び真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着法及び真空蒸着装置Info
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- JPS6141765A JPS6141765A JP16342984A JP16342984A JPS6141765A JP S6141765 A JPS6141765 A JP S6141765A JP 16342984 A JP16342984 A JP 16342984A JP 16342984 A JP16342984 A JP 16342984A JP S6141765 A JPS6141765 A JP S6141765A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は新規な真空蒸着法及び真空蒸着装置に関する。
詳しくは、蒸着面の形状を問わず全蒸着面に略均−な膜
厚の蒸着膜を得ることができ、更には、蒸着膜の厚さを
薄くして７Ｘ着金屈の使用量を節約し、かつ、蒸着時間
を短縮して、コストを低くすることができる新規な真空
１５着法及び真空７Ｍ着装置を提供しようとするもので
ある。
厚の蒸着膜を得ることができ、更には、蒸着膜の厚さを
薄くして７Ｘ着金屈の使用量を節約し、かつ、蒸着時間
を短縮して、コストを低くすることができる新規な真空
１５着法及び真空７Ｍ着装置を提供しようとするもので
ある。
従来技術
真空蒸着法ｌす金斥片嗅を形哉する方法として一般的に
使用されているが、従来の真空蒸着法では、被蒸着物の
苺着面の形状が複雑になると均一な厚さの蒸着膜が得ら
れ難いという欠点がある。
使用されているが、従来の真空蒸着法では、被蒸着物の
苺着面の形状が複雑になると均一な厚さの蒸着膜が得ら
れ難いという欠点がある。
従来の真空蒸着法においては、ベルジャ内を略５Ｘ１０
→Ｔｏｒｒ位の真空度にして行なっているが、これには
２つの問題点がある。
→Ｔｏｒｒ位の真空度にして行なっているが、これには
２つの問題点がある。
先ず、第１に５ＸＩＯ−’Ｔａｒｒ位の真空度であると
、まだ、かなりの酸素ガス（０２）がベルジャ内に残存
しており、蒸発分子と結合してこれを酸化させるという
問題がある０例えば、蒸着金属としてアルミニウム（Ａ
ｔ）を使用してアルミニウム反射膜を得ようとする場合
、Ａｔ分子のあるものが酸素と結合し、アルミナ（Ａｌ
２Ｏ２）となり、これが蒸着面に被着してしまう、そし
て、このアルミナ（Ａｌ２Ｏ２）は透明であって、これ
が被着したところは反射面としての機能を果さないので
、その分を見込んで蒸着膜を厚くしなければならない、
このため、従来の真空蒸着法によって自動車用前照灯の
反射膜を形成する場合にはアルミニウム蒸着膜の厚さを
１６００Å以上としなければならなかった。
、まだ、かなりの酸素ガス（０２）がベルジャ内に残存
しており、蒸発分子と結合してこれを酸化させるという
問題がある０例えば、蒸着金属としてアルミニウム（Ａ
ｔ）を使用してアルミニウム反射膜を得ようとする場合
、Ａｔ分子のあるものが酸素と結合し、アルミナ（Ａｌ
２Ｏ２）となり、これが蒸着面に被着してしまう、そし
て、このアルミナ（Ａｌ２Ｏ２）は透明であって、これ
が被着したところは反射面としての機能を果さないので
、その分を見込んで蒸着膜を厚くしなければならない、
このため、従来の真空蒸着法によって自動車用前照灯の
反射膜を形成する場合にはアルミニウム蒸着膜の厚さを
１６００Å以上としなければならなかった。
第２に、ベルジャ内を１０″′５Ｔｏｒｒ位の真空度と
すると、蒸発分子の直進性が強く、蒸着面の形状が複雑
になると、均一な膜厚が得られない。
すると、蒸発分子の直進性が強く、蒸着面の形状が複雑
になると、均一な膜厚が得られない。
即ち、第６図に示すように、蒸着源ａがら蒸発分子す、
ｂ、−・・が直進するため、被蒸着物Ｃ，Ｃの蒸着面ｄ
、ｄのうち、蒸着源ａに対して死角となる部分ｅが出来
てしまい、この部分ｅの膜厚が極端に薄くなってしまう
。
ｂ、−・・が直進するため、被蒸着物Ｃ，Ｃの蒸着面ｄ
、ｄのうち、蒸着源ａに対して死角となる部分ｅが出来
てしまい、この部分ｅの膜厚が極端に薄くなってしまう
。
このために、従来では、このような死角部分ｅを無くす
ために、被蒸着物を回転させたり、蒸着源の数を増やす
のなどの工夫をしているが、これらはいきおい装置の価
格を高いものとしてしまうし、また、これらの工夫をす
るといっても、それには限界があり、充分な対策とはな
っていない。
ために、被蒸着物を回転させたり、蒸着源の数を増やす
のなどの工夫をしているが、これらはいきおい装置の価
格を高いものとしてしまうし、また、これらの工夫をす
るといっても、それには限界があり、充分な対策とはな
っていない。
発明が解決しようとする問題点
そこで、本発明は、蒸発分子が酸化することがなく、ま
た、被蒸着物を回転させたり、あるいは蒸着源を増やし
たりすることなしに、複雑な形状の蒸着面に対しても死
角を生ずることなしに、従って、均一な膜厚の蒸着膜を
得ることのできる新規な真空蒸着法及び真空蒸ｔｊ′装
置を提供することを目的とする。
た、被蒸着物を回転させたり、あるいは蒸着源を増やし
たりすることなしに、複雑な形状の蒸着面に対しても死
角を生ずることなしに、従って、均一な膜厚の蒸着膜を
得ることのできる新規な真空蒸着法及び真空蒸ｔｊ′装
置を提供することを目的とする。
発明の概要
本発明は、上記した目的を達成するために為されたもの
で、その真空蒸着法は、ベルジャ内に被蒸着物を配置し
、ベルジャ内を減圧した雰囲気中で蒸着金属を蒸発させ
、その蒸発分子を前記被蒸着物に被着する方法において
、先ずベルジャ内を高真空度とした後、ベルジャ内に不
活性ガスを導入して低真空度とし、この低真空度雰囲気
中で蒸着金属を蒸発させてその蒸発分子を被蒸着物に被
着するようにしたことを特徴とする。また、本発明真空
蒸着装置は、被蒸着物が収容されると共に蒸着金属を蒸
発せしめる蒸発ボートが配置されたベルジャと、該ベル
ジャ内を減圧する手段と、更にベルジャ内に不活性ガス
を導入する手段とから成ることを特徴とする。
で、その真空蒸着法は、ベルジャ内に被蒸着物を配置し
、ベルジャ内を減圧した雰囲気中で蒸着金属を蒸発させ
、その蒸発分子を前記被蒸着物に被着する方法において
、先ずベルジャ内を高真空度とした後、ベルジャ内に不
活性ガスを導入して低真空度とし、この低真空度雰囲気
中で蒸着金属を蒸発させてその蒸発分子を被蒸着物に被
着するようにしたことを特徴とする。また、本発明真空
蒸着装置は、被蒸着物が収容されると共に蒸着金属を蒸
発せしめる蒸発ボートが配置されたベルジャと、該ベル
ジャ内を減圧する手段と、更にベルジャ内に不活性ガス
を導入する手段とから成ることを特徴とする。
作用
従って、本発明真空蒸着法及び真空薄着装置によれば、
ベルジャ内を一旦高真空度とするためにベルジャ内の酸
素は略完全に除去され、蒸発分子が酸化される惧れかな
い、また、その後に不活性ガスをベルジャ内に導入して
真空度を低くするので、蒸発分子は不活性ガスの分子に
衝突して頻繁に方向を変えられるため、蒸着源からは死
角となるような部分にまで蒸発分子が良く回り込み、複
雑な形状をした蒸着面であっても、全体に厚み斑を生ず
ることなく、均一な膜厚の蒸着膜を得ることができる。
ベルジャ内を一旦高真空度とするためにベルジャ内の酸
素は略完全に除去され、蒸発分子が酸化される惧れかな
い、また、その後に不活性ガスをベルジャ内に導入して
真空度を低くするので、蒸発分子は不活性ガスの分子に
衝突して頻繁に方向を変えられるため、蒸着源からは死
角となるような部分にまで蒸発分子が良く回り込み、複
雑な形状をした蒸着面であっても、全体に厚み斑を生ず
ることなく、均一な膜厚の蒸着膜を得ることができる。
実施例
以下に、本発明真空蒸着法及び真空蒸着装置の詳細を図
示した実施例に従って説明する。
示した実施例に従って説明する。
先ず、本発明に係る真空蒸着装置の一例について説明す
る。
る。
図中１が真空蒸着機である。
２がベルジャであり、後面中央部が拡散ポンプ３と連結
され、また、不活性ガス供給パイプ４の一端が天面部に
連結されている。
され、また、不活性ガス供給パイプ４の一端が天面部に
連結されている。
５は被蒸着物ラックであり、ベルジャ２内の上方部に配
置され、該ラック５には複数の被蒸着物６，６、・φ畳
が配置支持されている０図面では被蒸着物として、自動
車用前照灯に用いるＦＲＰ製のりフレフタ６．６、・・
・を示しである。この被蒸着物ラック５はベルジャ２の
上方部−側に設けられた入ロアからベルジャ２内に導入
され、ベルジャ２の上方部他側に設けられた出口８から
ベルジャ２外へ導出される。尚、この被蒸着物ラック５
の移動機構は図示を省略した。また、入ロア及び出口８
はが蒸着時には当然密閉される。
置され、該ラック５には複数の被蒸着物６，６、・φ畳
が配置支持されている０図面では被蒸着物として、自動
車用前照灯に用いるＦＲＰ製のりフレフタ６．６、・・
・を示しである。この被蒸着物ラック５はベルジャ２の
上方部−側に設けられた入ロアからベルジャ２内に導入
され、ベルジャ２の上方部他側に設けられた出口８から
ベルジャ２外へ導出される。尚、この被蒸着物ラック５
の移動機構は図示を省略した。また、入ロア及び出口８
はが蒸着時には当然密閉される。
９．９は蒸発ボートであり、ベルジャ２内において、被
蒸着物ラック５の下方に配置され、この上に、図示しな
いが、蒸着金属、例えばアルミニウム箔等が乗載される
。
蒸着物ラック５の下方に配置され、この上に、図示しな
いが、蒸着金属、例えばアルミニウム箔等が乗載される
。
しかして、被蒸着物６．６．・・争を支持したラック５
をベルジャ２内の所定の位置に配置し、蒸着金属、例え
ば、アルミニウムの箔や細片を蒸発ボート９．９上に乗
載し、入ロア及び出口８を密閉して準備が完了する。
をベルジャ２内の所定の位置に配置し、蒸着金属、例え
ば、アルミニウムの箔や細片を蒸発ボート９．９上に乗
載し、入ロア及び出口８を密閉して準備が完了する。
そこで、先ず、拡散ポンプ３を駆動して、ベルジャ２内
が９ Ｘ １０４Ｔｏｒｒ以上の真空度となるようにす
る。
が９ Ｘ １０４Ｔｏｒｒ以上の真空度となるようにす
る。
Ｅ記のように、ベルジャ２内を高い真空度とした後に、
不活性ガス供給パイプ４から不活性ガスをベルジャ２内
に導入し、ベルジャ２内の真空度を低くする。この場合
のベルジャ２内の真空度は９Ｘ１０−’↑ｏｒｒ乃至Ｉ
Ｘ １０’Ｔｏｒｒ位とするのが適当である。また、
ベルジャｚ内に導入する不活性ガスは、その種類を問わ
ないが、アルゴン（Ａｒ）かネオン（Ｎｅ）とするのが
好適である。クリプトンは高価であり、また、ヘリウム
（Ｈｅ）は分子が小さいためベルジャのリーク対策が大
変で、装置が高価となる。更に、キセノンは高価である
０以上のような理由からアルゴン（Ａｒ）又はネオン（
Ｎ ｅ）が好適であるが、アルゴン（Ａｒ）の方がより
安価である。
不活性ガス供給パイプ４から不活性ガスをベルジャ２内
に導入し、ベルジャ２内の真空度を低くする。この場合
のベルジャ２内の真空度は９Ｘ１０−’↑ｏｒｒ乃至Ｉ
Ｘ １０’Ｔｏｒｒ位とするのが適当である。また、
ベルジャｚ内に導入する不活性ガスは、その種類を問わ
ないが、アルゴン（Ａｒ）かネオン（Ｎｅ）とするのが
好適である。クリプトンは高価であり、また、ヘリウム
（Ｈｅ）は分子が小さいためベルジャのリーク対策が大
変で、装置が高価となる。更に、キセノンは高価である
０以上のような理由からアルゴン（Ａｒ）又はネオン（
Ｎ ｅ）が好適であるが、アルゴン（Ａｒ）の方がより
安価である。
そして、上記した雰囲気下において蒸着工程を行なう。
すると、蒸発分子、例えば、アルミニウムの蒸発分子は
、第４図に模型的に示すように、不活性ガスの分子、例
えば、Ａｒ分子と衝突をしてその進路を変えられるため
、第５図に示すように、被蒸着物６の蒸着面１０の隅々
にまで充分に行きわたり、蒸着面１０に斑無く均一な膜
厚のアルミニウム蒸着膜１１が形成されることになる。
、第４図に模型的に示すように、不活性ガスの分子、例
えば、Ａｒ分子と衝突をしてその進路を変えられるため
、第５図に示すように、被蒸着物６の蒸着面１０の隅々
にまで充分に行きわたり、蒸着面１０に斑無く均一な膜
厚のアルミニウム蒸着膜１１が形成されることになる。
しかも、ベルジャｚ内には酸素が殆ど無いか、仮りにあ
ったとしても、きわめて微量であるため、きわめて品位
の高い蒸着膜を得ることができ、従って、蒸着膜の厚さ
もそれ程厚くする必要がなく、自動重用前照灯のりフレ
フタの反射膜をアルミニウム蒸着膜によって形成する場
合でも８００〜１０００人の厚さに蒸着すれば充分であ
る− 発明の効果 以上に記載したところから明らかなように、本発明真空
蒸着法は、ベルジャ内に被蒸着物を配置し、ベルジャ内
を減圧した雰囲気中で蒸着金属を蒸発させ、その蒸発分
子を前記被蒸着物に被着する方法において、先ずベルジ
ャ内を高真空度とした後、ベルジャ内に不活性ガスを導
入して低真空度とし、この低真空度雰囲気中で蒸着金属
を蒸発させて蒸発分子を被蒸着物に被着するようにした
ことを特徴とする。また、本発明真空蒸着装置は、被蒸
着物が収容されると共に蒸着金属を茄発せしめる蒸発ボ
ートが配置されたベルジャと、該ベルジャ内を減圧する
手段と、更にベルジャ内に不活性ガスを導入する手段と
から成ることを特徴とする。
ったとしても、きわめて微量であるため、きわめて品位
の高い蒸着膜を得ることができ、従って、蒸着膜の厚さ
もそれ程厚くする必要がなく、自動重用前照灯のりフレ
フタの反射膜をアルミニウム蒸着膜によって形成する場
合でも８００〜１０００人の厚さに蒸着すれば充分であ
る− 発明の効果 以上に記載したところから明らかなように、本発明真空
蒸着法は、ベルジャ内に被蒸着物を配置し、ベルジャ内
を減圧した雰囲気中で蒸着金属を蒸発させ、その蒸発分
子を前記被蒸着物に被着する方法において、先ずベルジ
ャ内を高真空度とした後、ベルジャ内に不活性ガスを導
入して低真空度とし、この低真空度雰囲気中で蒸着金属
を蒸発させて蒸発分子を被蒸着物に被着するようにした
ことを特徴とする。また、本発明真空蒸着装置は、被蒸
着物が収容されると共に蒸着金属を茄発せしめる蒸発ボ
ートが配置されたベルジャと、該ベルジャ内を減圧する
手段と、更にベルジャ内に不活性ガスを導入する手段と
から成ることを特徴とする。
従って、本発明によれば、ベルジャ内を一旦高真空度と
するためにベルジャ内の酸素は略完全に除去され、蒸発
分子が酸化される惧れがない、また、その後に不活性ガ
スをベルジャ内に導入して真空度を低くするので、蒸発
分子は不活性ガスの分子に衝突して頻繁に方向を変えら
れるため、１に清涼からは死角となるような部分にまで
蒸発分子が良く回り込み、複雑な形状をした′ＩＮ着面
であっても、全体に厚み斑を生ずることなく、均一な膜
厚の蒸着膜を得ることができる。
するためにベルジャ内の酸素は略完全に除去され、蒸発
分子が酸化される惧れがない、また、その後に不活性ガ
スをベルジャ内に導入して真空度を低くするので、蒸発
分子は不活性ガスの分子に衝突して頻繁に方向を変えら
れるため、１に清涼からは死角となるような部分にまで
蒸発分子が良く回り込み、複雑な形状をした′ＩＮ着面
であっても、全体に厚み斑を生ずることなく、均一な膜
厚の蒸着膜を得ることができる。
第１図乃至第３図は本発明真空蒸着装置の一例を示すも
ので、第１図は平面図、第２図は第１図のＴｌ−Ｈ線に
沿う断面図、第３図は一部を切欠いて示す側面図、第４
図及び第５図は大発明における蒸発分子の挙動を模型的
に示す図、第６図は従来の真空蒸着法における蒸発分子
の挙動を模型的に示す図である。 符号の説明 １嗜争・真空蒸着装置、 ２・・・ベルジャ、３・・
・ベルジャ内を減圧する手段。 ４・・―不活性ガスをベルジャ内に導入する手段 出 願 人 株式会社小糸製作所 代理人出願人 小 松 祐 拍第１図 第３図 第４図 １５図 第６図
ので、第１図は平面図、第２図は第１図のＴｌ−Ｈ線に
沿う断面図、第３図は一部を切欠いて示す側面図、第４
図及び第５図は大発明における蒸発分子の挙動を模型的
に示す図、第６図は従来の真空蒸着法における蒸発分子
の挙動を模型的に示す図である。 符号の説明 １嗜争・真空蒸着装置、 ２・・・ベルジャ、３・・
・ベルジャ内を減圧する手段。 ４・・―不活性ガスをベルジャ内に導入する手段 出 願 人 株式会社小糸製作所 代理人出願人 小 松 祐 拍第１図 第３図 第４図 １５図 第６図
Claims (3)
- （１）ベルジャ内に被蒸着物を配置し、ベルジャ内を減
圧した雰囲気中で蒸着金属を蒸発させ、その蒸発分子を
前記被蒸着物に被着する方法において、先ずベルジャ内
を高真空度とした後、ベルジャ内に不活性ガスを導入し
て低真空度とし、この低真空度雰囲気中で蒸着金属を蒸
発させてその蒸発分子を被蒸着物に被着するようにした
ことを特徴とする真空蒸着法 - （２）高真空度とは９×１０＾−＾５Ｔｏｒｒ以上の真
空度であり、低真空度とは１×１０＾−＾４Ｔｏｒｒ乃
至９×１０＾−＾４Ｔｏｒｒの真空度であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の真空蒸着法 - （３）被蒸着物が収容されると共に蒸着金属を蒸発せし
める蒸発ボートが配置されたベルジャと、該ベルジャ内
を減圧する手段と、更にベルジャ内に不活性ガスを導入
する手段とから成ることを特徴とする真空蒸着装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16342984A JPS6141765A (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 真空蒸着法及び真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16342984A JPS6141765A (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 真空蒸着法及び真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141765A true JPS6141765A (ja) | 1986-02-28 |
Family
ID=15773727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16342984A Pending JPS6141765A (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | 真空蒸着法及び真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6141765A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04371569A (ja) * | 1991-06-17 | 1992-12-24 | Iwao Ogura | 真空蒸着方法及びその装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50127883A (ja) * | 1974-03-29 | 1975-10-08 | ||
| JPS5844713A (ja) * | 1981-09-10 | 1983-03-15 | Fujitsu Ltd | 蒸着方法 |
-
1984
- 1984-08-02 JP JP16342984A patent/JPS6141765A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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| JPS50127883A (ja) * | 1974-03-29 | 1975-10-08 | ||
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